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脈沖激光鍍膜設備

脈沖激光鍍膜設備

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規(guī)格/型號：PLD
品牌：慧宇
應用領域：材料制備
產地：遼寧 - 沈陽
廠家/供應商：沈陽慧宇真空技術有限公司
咨詢電話:：024-24323981（請說明信息源自“中冶有色技術網”）
更新時間：2024-10-16
級別：待認證

脈沖激光鍍膜設備說明介紹

脈沖激光鍍膜設備

脈沖激光鍍膜設備

脈沖激光鍍膜設備

主要用途：

用激光打在靶材上，制備超導薄膜、半導體薄膜、超硬薄膜等，是一種非常適用的鍍膜方式。

結構特點：

系統(tǒng)由球形結構的超高真空沉積室、樣品支持架、多工位激光轉靶、真空獲得、真空測量、氣路、PLC及電控系統(tǒng)等組成。

技術指標：

1、沉積室：球形?450mm，接換樣活門和激光入射窗口、樣品架及各種法蘭接口。

2、真空度：分子泵系統(tǒng)極限真空：6.6×10-8Pa。

3、樣品架組件：樣品尺寸2英寸，樣品加熱溫度：白金絲為加熱體，在有氧氣氣氛下800°C可長期使用?？販鼐龋骸?°C。樣品可自轉，轉數(shù)0-30轉/分;可交接、激光沉積和在線檢測位置。

4、四工位激光轉靶：可安裝四塊2英寸靶材。每塊靶材可公轉到濺射位置并精確定位、自轉，公轉、自轉均由步進電機驅動，自轉轉速0-30轉/分可調。

5、氣路：質量流量計控制(氧氣)
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所屬領域：
材料制備
企業(yè)性質：
-
經營范圍：
-
聯(lián)系電話：
024-24323981
詳細地址：
-

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