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SL-CVD是一款PECVD 管式爐系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，80mm OD1500mm L的管式爐，通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和機械泵機組，可用于生長納米或石墨烯材料。
設(shè)備名稱
CVD氣相沉積爐（2020.11.3——升利實驗室審核）
主要特點
· 射頻電源可實現(xiàn)等離子增強從而顯著降低試驗溫度。
· 最高溫度可達1200℃。
· 雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，可有效降低殼體表面溫度。
·? 內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
· 開門斷電，提高實驗安全性。
· 客戶可根據(jù)需求選購雙溫區(qū)沉積爐。
· 可在溫度范圍較大的條件下制備材料，如 碳、Zno納米管或納米線及單層石墨烯等。
基本參數(shù)
· 最高溫度: 1200℃（≤30min） 工作溫度: 1100℃
· 推薦升溫速率:≤10℃/min
· 電壓：220V
· 額定功率：3KW
· 爐體開啟式設(shè)計，以達到對樣品快速降溫，方便更換爐管
爐管尺寸
· Φ40*1200mm
· Φ60*1500mm
· Φ80*1500mm
· Φ60*1800mm
· Φ80*1800mm
· Φ100*1200mm
真空系統(tǒng)
· 采用TRP-12的雙旋真空泵；
· KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；
· 真空度可達10-2Torr。
質(zhì)保
· 一年保修，終身技術(shù)支持。
· 特別提示：
1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。
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湖北 - 武漢
2024年12月27日 ~ 29日
