無(wú)錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液
吉致針對(duì)碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號(hào)研磨液、拋光液和拋光墊(粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊)。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量,同時(shí)大大提高材料去除率。
吉致電子陶瓷類(lèi)拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光,通過(guò)CMP拋光工序可得到理想鏡面效果,表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。
合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類(lèi)拋光液適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光,CMP拋光工序通過(guò)大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用,可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化。化學(xué)氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。
金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類(lèi)拋光液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光,拋光工序通過(guò)大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用,可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化?;瘜W(xué)氧化腐蝕鉬合金表面,研磨去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果,金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。
目前冶金復(fù)合鋁銅產(chǎn)品,可以為用戶提供銅與多種鋁合金復(fù)合的基板材料,銅層為軋制組織結(jié)構(gòu),銅層厚度是電鍍銅層厚度的數(shù)倍,后續(xù)用戶生產(chǎn)加工過(guò)程完全滿足**環(huán)保要求。產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)效率高,*終產(chǎn)品的性價(jià)比較高。
鋼鋁復(fù)合帶由低碳鋼(DC01-DC07)、不銹鋼做基材,鋁做輔材,根據(jù)客戶的需求可進(jìn)行單/雙面復(fù)合。本產(chǎn)品具有高強(qiáng)度、良好的可塑性、良好的抗腐蝕性、良好的抗氧化性、高導(dǎo)磁性、高導(dǎo)熱性、良好的熱反射性能和再循環(huán)利用率高等優(yōu)點(diǎn),是不銹鋼材料的優(yōu)異替代品。本產(chǎn)品可進(jìn)行各種表面加工并適合上漆、涂層和上釉;可再次進(jìn)行冷彎、拉伸、沖壓等深加工。
單/雙面鋼銅復(fù)合板帶(以鋼為基體)綜合了兩種基體材料的優(yōu)良性能,既保持了銅材的外觀裝飾性,又克服了銅材強(qiáng)度低的不足,與銅材相比,具有比重輕,熱容量高,彈性好,具有良好的強(qiáng)度、抗氧化性、成本低等特點(diǎn)?;w鋼材和銅合金的牌號(hào)可以按照客戶要求生產(chǎn)。銅鋼復(fù)合材料二次加工性能良好,可實(shí)現(xiàn)折彎、鉆孔、深沖等加工。
鈦鋁板表面的鈦氧化膜相當(dāng)于一種良好的經(jīng)久耐磨用的發(fā)分離劑,使用鈦鋁復(fù)合板節(jié)省了分離劑;它具有鋁的良好導(dǎo)電性;使用壽命是鋁板和銅板的3倍以上。該產(chǎn)品具有耐蝕性好、傳熱效率高、壽命長(zhǎng),表面光潔無(wú)結(jié)垢層、密度小、強(qiáng)度高等。
目前市場(chǎng)主要使用的5G移動(dòng)諧振箱體基板是鋁鍍銅或鍍銀產(chǎn)品,電鍍生產(chǎn)工藝嚴(yán)重污染環(huán)境,鍍銅層厚度不能完全滿足射頻器件要求。利用我們專(zhuān)用設(shè)備,可以為用戶提供銅與多種鋁合金復(fù)合的基板材料,銅層為軋制組織結(jié)構(gòu),銅層厚度是電鍍銅/銀層厚度的數(shù)倍,后續(xù)用戶生產(chǎn)加工過(guò)程完全滿足**環(huán)保要求。產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)效率高,*終產(chǎn)品的性價(jià)比較高。
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