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CVD(G)系列高溫真空氣氛管式爐專門設(shè)計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結(jié)等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫,優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱,優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛,氣體采用浮子流量計流量計控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制,有效的實現(xiàn)溫度的控制。設(shè)備具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長等特點,是理想的科研設(shè)備。
技術(shù)參數(shù)
l 設(shè)備名稱:高溫真空氣氛管式爐
l 設(shè)備型號: CVD(G)-06/50/1
l 最高溫度: 1650℃
l 工作溫度: RT~1600℃
l 加熱區(qū)長度:500mm 恒溫區(qū):300mm
l 爐管實際尺寸: Φ60(外徑)×1250mm (具體尺寸以設(shè)計圖紙為準(zhǔn))
l 爐管材質(zhì): 優(yōu)質(zhì)99剛玉管
l 爐膛材料: 氧化鋁、高鋁和硅酸鋁纖維制品
l 控制溫區(qū)個數(shù): 1個,B分度熱偶
l 控溫精度:±1℃,日本進(jìn)口智能溫度控制儀,PID參數(shù)自整定超溫、欠偶、斷偶報警保護(hù)。
l 加熱元件: 優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒
l 氣體種類及流量范圍:氮氣:0.2~2L/min 氧氣 :0.2~2L/min
l 真空系統(tǒng):配備機(jī)械泵,冷態(tài)極限真空度15Pa
l 最大加熱功率: 10Kw
l 空爐保溫功率: 約4Kw
l 外形尺寸約為:1250×750×1650(L×W×H)
l 建議升溫速率: 3℃~5℃/min
l 輸入動力電源: 三相電源,50HZ ,380V±10%;12KW
l 爐體表面溫升: ≤35℃
CVD(G)-06/50/1高溫真空氣氛管式爐爐管總長約1.25米加熱區(qū)長度為500mm。加熱元件采用優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒加熱,最大加熱功率10kw。兩端保溫區(qū)長各200mm,配有機(jī)械泵,可以在冷態(tài)條件下預(yù)抽真空
設(shè)備結(jié)構(gòu)