三溫區(qū)在線取樣裝置 LFT1200C 400D50 3197     

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?該設備為1200℃開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件橫穿于上下共8組電阻絲的爐膛，溫場均勻性好。該設備為特殊設計，爐體上部設計有石英管，樣品經過電機驅動，上下移動，方便取放樣;設備兩端安裝有卡箍式不銹鋼快接法蘭，安裝拆卸簡便快捷，該設備廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。雙溫區(qū)結構設計可獲得較長恒溫區(qū)間，溫場均勻性好。結構簡單，操作方便。法蘭出氣端設計有加熱帶輔助加熱，避免管內水汽冷凝，多余水汽通過法蘭直接冷凝后經出水口排出。

高溫高壓管式爐 LFT1200C 400D50 HP 2998     

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高溫高壓管式爐為1200℃開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件橫穿于上下共8組進口電阻絲的爐膛，溫場均勻。其開啟式結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，配備不銹鋼彈簧支撐容許在降溫過程中將爐膛打開，加快降溫過程，以滿足特殊實驗要求。

高溫高壓管式爐 LFT1200C400D60HP 3207     

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高溫高壓管式爐設計為雙層風冷結構，使用時表面溫度<60℃，爐膛采用氧化鋁纖維，加熱元件內嵌于保溫層內，使用壽命長，爐管工件橫穿于上下共8組進口電阻絲的爐膛，溫場均勻。

實驗設備：1200系列三溫區(qū)真空管式爐LFT1200C 600D130III（管式爐系列） 1836     

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實驗設備：1200系列三溫區(qū)真空管式爐LFT1200C 600D130III（管式爐系列）

實驗設備：單工位高真空封管機系統(tǒng) LSQ-01 HV600（石英管真空封管系統(tǒng)） 4585     

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本公司LSQ-01真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成，標準化定制石英管和石英柱保證其余特殊設計的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實現(xiàn)更高標準的真空封管。

高溫高壓爐 LFT1200C 1051     

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高溫高壓爐設計為高溫高壓條件下使用，爐管采用鎳基合金鋼管，具有較高蠕變強度和抗氧化性。密封圈為金屬無氧銅密封圈，可以在高溫狀態(tài)下通入實驗氣氛參與實驗。設備配有背壓閥，加熱過程中氣體膨脹，壓力上升，背壓閥可將路管內多余氣體排出，維持壓力穩(wěn)定。同事設備上裝有壓力傳感器和電磁閥，當壓力傳感器檢測到內部壓力大于所設定的壓力時通過信號傳送至高壓電磁閥，電磁閥打開釋放出多余壓力，可確保安全使用。該設備為單端封口設計，可將線質材料通過雙芯剛玉管穿過法蘭，并連接到檢測設備上，以便檢測再高溫條件下材料的性能變化。

高溫高壓管式爐 LFT1400C-II 982     

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高溫高壓管式爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側，溫場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐管配備CF法蘭密封形式及金屬紫銅密封圈，提高設備的使用溫度，同時能實現(xiàn)在一定的高壓條件下實驗。工件式樣在管中加熱，加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

大口徑真空管式爐 LFT1200C 600D200II 981     

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1200℃開啟式真空管式爐可通氣氛抽真空，設備采用開啟式結構，安裝拆卸方便。石英管確保在高真空條件下使用。進氣端法蘭采用折頁式法蘭設計，避免取放料時的繁瑣操作， 爐管工件橫穿與進口電阻絲的爐膛，溫場均勻，內外溫差可控制在5度左右，氣動彈簧支撐結構讓操作者可各角度安全開啟，該款廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。

實驗設備：1400系列真空管式回轉爐 LFT1400C 600D60IIIR（管式爐系列） 2432     

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1400系列真空管式回轉爐 LFT1400C 600D60IIIR（管式爐系列）

供氣系統(tǒng)3路質子觸摸屏控制 2278     

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該供氣系統(tǒng)是一種可控制三種氣體按不同流量進行混合配比，也可根據實驗需求加裝洗氣裝置，質量流量計安裝于密封的可移動機柜內，由超潔雙拋不銹鋼管與精密雙卡套接頭連接組成。觸摸屏控制.

進口高真空機組 1876     

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該系統(tǒng)由原裝進口的前級無油泵，后級分子泵，真空傳感器和電子控制系統(tǒng)和LED液晶顯示組成，此系統(tǒng)是用來抽吸或壓縮空氣和其它無腐蝕性、不溶于水、不含有固體顆粒的氣體，以便在封閉容器中形成真空和壓力，吸入氣體中允許混有少量液體。

單溫區(qū)滑軌爐 2240     

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滑軌式快速升降溫爐是專為生長薄膜石墨烯研制的，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗，操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。

熱壓爐BTF-1200C-VP 2342     

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熱壓方法的最大優(yōu)點是可以大大降低成形壓力和縮短燒結時間，可以制得密度高和晶粒極細的材料，該設備可將壓制和燒結兩個工序一并完成，可以在較低壓力下迅速獲得冷壓燒結所達不到的密度，從這個意義上說，熱壓是一種強化燒結。凡是用一般方法能制得的粉末零件，都適于用熱壓方法制造，尤其適于制造全致密難熔金屬及其化合物等材料 。

1400℃真空管式爐 BTF-1400C 2424     

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1400℃高溫管式爐廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境.。該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各大材料實驗室必備的理想設備之一。