CVD(G)系列高溫真空氣氛管式爐專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、氮化硅渡膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結(jié)等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫,優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱,優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛,氣體采用浮子流量計(jì)流量計(jì)控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制,有效的實(shí)現(xiàn)溫度的控制。設(shè)備具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn),是理想的科研設(shè)備。
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