定制高溫箱式爐 1984     

 0

應(yīng)用領(lǐng)域 LFM系列高溫氣氛箱式電阻爐設(shè)計用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的在一定真空或氣氛保護下預(yù)燒、燒結(jié)，亦可作為其它陶瓷產(chǎn)品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質(zhì)氧化鋁纖維，30段PID程序溫控儀控制；具有升降溫速率調(diào)整范圍大，生產(chǎn)效率高，節(jié)能等特點，設(shè)備外型美觀，非常適合于科研單位批量生產(chǎn)，也能滿足一定條件下產(chǎn)能要求。

雙工位封管機(立式) 1911     

 0

設(shè)備特點： 本公司LQS-02VT真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，封管機上有電磁閥，通電后處于常開狀態(tài)，當(dāng)壓力達到設(shè)定壓力后，電磁閥自動關(guān)閉，停止進氣。 標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保證其余特殊設(shè)計的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實現(xiàn)更高標(biāo)準(zhǔn)的真空封管。 優(yōu)勢： 石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標(biāo)準(zhǔn)化處理，重復(fù)性好。 石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉(zhuǎn)，操作簡單，受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置，避免粉末材料進入真空泵，延長真空泵使用壽命。 該設(shè)備為標(biāo)準(zhǔn)化操作，即學(xué)即用，簡單方便。

1400真空氣氛箱式爐 1292     

 0

應(yīng)用：采用雙層殼體機構(gòu)，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。 特點：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計進入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體。真快度可達100pa，具有溫差均勻，表面溫度低，升降溫速度快，節(jié)能等優(yōu)點，溫控系統(tǒng)采用進口多段智能程序溫度控制儀表控制。

單溫區(qū)真空管式爐CVD系統(tǒng) 1282     

 0

CVD1200C 440D60 2ZLV 是集單溫區(qū)真空管式爐、二路質(zhì)量流量計系統(tǒng)及低真空機組而成一種動態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。單溫區(qū)真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

雙溫區(qū)真空管式爐配高真空 1271     

 0

LFT1200C 400D100II雙溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設(shè)備設(shè)計為與手套箱對接使用，樣品可完全處于相對對立的無水無氧環(huán)境，該設(shè)備還配有高真空系統(tǒng)，整個實驗工藝可在真空控制條件下進行，具備較高的擴展性和重復(fù)性，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在相對對立的無氧無水環(huán)境下操作的設(shè)備.

高溫真空管式爐 1330     

 0

LFT1750C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管，適合較高溫度條件下材料燒結(jié)處理，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

單溫區(qū)滑軌爐，滑軌爐，快速升溫退火爐 1314     

 0

該設(shè)備是由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設(shè)計的，其滑軌式結(jié)構(gòu)設(shè)計在實驗過程中可滿足多種工藝要求，可將樣品直接推至實驗所需設(shè)定高溫區(qū)，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率，滿足工藝要求對升降溫要求較高的實驗，是一款性價比很高的產(chǎn)品， 適用于二維材料，碳材料的實驗要求。

多工位真空管式爐 1316     

 0

設(shè)備特點： 此款多工位真空管式爐爐體可作0~180度旋轉(zhuǎn)，多工位操作滿足客戶不同的實驗需求。LFT-1200C 400D60單溫區(qū)多工位開啟式真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

定制高溫箱式爐 1389     

 0

設(shè)備特點: (1)保溫材料采用真空吸附成型的氧化留纖維無機材料，環(huán)保節(jié)能。 (2)采用模糊PID控制，控溫精度可達土1℃。 (3)爐體采用雙層風(fēng)冷機構(gòu)，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于 60℃。 (4)采用多種保溫材料組合制成，使?fàn)t子體積小，能量消耗少(耗電量是同類產(chǎn)品耗電量 的四分之一)。

單工位高真空封管機系統(tǒng) 1865     

 0

本公司LSQ-01真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成，標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保證其余特殊設(shè)計的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實現(xiàn)更高標(biāo)準(zhǔn)的真空封管。 優(yōu)勢： 石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標(biāo)準(zhǔn)化處理，重復(fù)性好。 石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉(zhuǎn)，操作簡單，受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置，避免粉末材料進入真空泵，延長真空泵使用壽命。 氫氧機采用電解水產(chǎn)氣，即產(chǎn)即用，安全系數(shù)高。 該設(shè)備為標(biāo)準(zhǔn)化操作，即學(xué)即用

二路浮子流量計 1284     

 0

1) 本配比器適用于低壓小流量，多種氣體單一/混合連續(xù)供氣系統(tǒng)。尤其方便多種氣體的切換使用，而不會造成大氣進入加熱管。 2) 氣體壓力和流量數(shù)據(jù)在同一平面直觀可讀，外形美觀、實用，操作簡便。 3) 顯示流量準(zhǔn)確，可有效地控制氣體消耗量。 4) 所有儀表及閥門的連接均采用活接頭連接，便于維修拆卸。

立式真空管式爐 1315     

 0

1200℃開啟式迷你真空管式爐爐體小巧，升溫速皮快，該設(shè)備經(jīng)過特殊設(shè)計，爐體為立式結(jié)構(gòu)。內(nèi)置剛玉管可以單獨進氣，可使樣品正負(fù)極在不同的氣氛條件下實驗。上下兩端均預(yù)留剛玉管和法蘭，樣品可置于兩根剛玉管中間，樣品兩端可實現(xiàn)下同的氣氛環(huán)境，電控部分和爐體分離，延長電子元器件使用壽俞。

高真空管式爐制樣臺 1266     

 0

設(shè)備簡介： 該設(shè)備用于對樣品中殘余汞蒸發(fā)、過濾，整個系統(tǒng)由蒸發(fā)裝置、冷凝裝置和真空系統(tǒng)三部分組成。加熱系統(tǒng)分低溫和高溫加熱兩種，可對不同樣品處理。冷凝裝置為二級冷凝設(shè)計，確保對汞蒸氣充分冷凝過濾，真空系統(tǒng)可對兩套系統(tǒng)同時抽真空，可可獨立處理。

雙融區(qū)區(qū)融設(shè)備 1330     

 0

該區(qū)域熔融爐設(shè)計為有機材料或無機材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度60mm，高精度電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進，行進速度可調(diào)， 最高使用可達600℃，設(shè)備采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，殼體表面溫度<60℃，保溫材料為超細氧化鋁纖維，節(jié)能環(huán)保，溫場勻性良好。 立式結(jié)構(gòu)設(shè)計，可使樣品在區(qū)熔純化過程中處于垂直狀態(tài)。相較水平狀態(tài)，可避免重力影響，有利于金屬樣品處理。

薄膜材料連續(xù)生長專用設(shè)備 1267     

 0

該設(shè)備為我司研發(fā)用于薄膜材料連續(xù)生長專用設(shè)備或薄膜材料連續(xù)熱處理使用，該設(shè)備配備真空系統(tǒng)，氣體流量控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)多種實驗調(diào)整，同時具有一定的產(chǎn)能要求。真空腔室內(nèi)采用動密封，確保系統(tǒng)在真空或氣氛保護條件下工作，適用于連續(xù)生長等工藝要求。

碳纖維連續(xù)熱處理設(shè)備 1388     

 0

該設(shè)備可用于線性材料如碳纖維聯(lián)系熱處理使用，該設(shè)備由兩臺1200系列熱處理系統(tǒng)和1臺1700系列熱處理系統(tǒng)組成，并配有三路質(zhì)量流量控制器，線性材料收放系統(tǒng)，張力裝置以及纖維走線滾輪裝置，可實現(xiàn)在不同溫度，走線速度，不同張力和不同氣氛條件工作，同時具有一定的產(chǎn)能要求。爐管兩端安裝有七連法蘭，可保證材料在高溫條件下不收外接環(huán)境影響。

高溫管式爐CVD系統(tǒng) 1302     

 0

1400℃高溫管式爐廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各大材料實驗室必備的理想設(shè)備之一。 1、保溫材料采用真空吸附成型的純氧化鋁纖維無機材料，不含污物，潔凈，美觀。 2、采用模糊PID控制精準(zhǔn)控制，溫場均勻，燒結(jié)成品一致性好。 3、爐體采用雙層風(fēng)冷機構(gòu)，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于60度。 4、爐膛材料：高純氧化鋁多晶純纖維，不參氧化鋁粉，潔凈節(jié)能。

雙工位區(qū)域除雜裝置 1304     

 0

該區(qū)域熔融爐設(shè)計為金屬材料或半導(dǎo)體材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度100mm，高精度電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進，行進速度可調(diào)，最高使用可達1100℃，設(shè)備采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，殼體表面溫度＜60℃，保溫材料為超細氧化鋁纖維，節(jié)能環(huán)保，溫場均勻性良好。 立式結(jié)構(gòu)設(shè)計，可使樣品在區(qū)熔純化過程中處于垂直狀態(tài)。相較水平狀態(tài)，可避免重力影響。有利于金屬樣品處理。該設(shè)備設(shè)計為雙工位結(jié)構(gòu)，爐體可垂直或者水平工作狀態(tài)。兩臺區(qū)熔工位通過管道和真空系統(tǒng)相連。

小型混合箱式管式爐 1322     

 0

LFM1100C-1-H是一款小型混合箱式/管式爐，作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環(huán)境下進行熱處理，作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理，以電阻絲為加熱元件,采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器,爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，最高溫度能達到1100度，可連續(xù)溫度1000度,控溫精度+1度,該爐具有體積小、重量輕、升降溫度速度快、節(jié)能等優(yōu)點。此設(shè)備還可放置到手套箱內(nèi)在真空和可控氣氛下燒制樣品，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)，金屬退火、質(zhì)量檢測用的產(chǎn)品。

立式真空管式爐 1304     

 0

VT系列開啟式立式真空管式爐采用硅鉬棒進行加熱，專門設(shè)計針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下對材料進行燒結(jié)，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，使得殼體表面溫度小于60℃，高純度氧化鋁纖維作為爐膛保溫材料，不含污物，潔凈，美觀。采用模糊PID控制精準(zhǔn)控制，溫場均勻，燒結(jié)成品一致性好。主要應(yīng)用領(lǐng)域如碳納米管生長，陶瓷燒結(jié)退火，單晶生長等。

定制坩堝爐 1298     

 0

LFM1200C 600D500井式坩堝爐，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌電阻絲。該設(shè)備采用上開啟式結(jié)構(gòu)，取放樣方便。超大口徑能操作較大直徑和尺寸的樣品，爐上蓋安裝有有提升機構(gòu)，開啟前先將爐蓋整體上移，再手動開啟，爐膛底部配310S承重臺，整體承重150kg，可放置發(fā)樣品加熱。

雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)管式爐 1301     

 0

爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)的更均勻，可左右大角度傾斜，方便出放料。專業(yè)應(yīng)用于電池正負(fù)極材料、無強酸堿性粉體材料、顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥，用戶可根據(jù)所要燒制的材料選擇在真空下或氣氛保護下進行燒制。

大口徑水平坩堝爐 1298     

 0

大口徑水平坩堝爐，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。測溫采用性能穩(wěn)定、長壽命的“K”型熱電偶，直接和式樣接觸，以提高控溫的精確性。它是專為高等院校﹑科研院所及工礦企業(yè)對金屬，非金屬及其它化和物材料在氣氛或真空狀態(tài)下進行快速燒結(jié)﹑融化﹑分析而研制的專用設(shè)備。大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品，能很好的代替真空箱式爐。法蘭安裝觀察窗，爐體的控制面板配有智能溫度調(diào)節(jié)儀，控制電源開關(guān)、主加熱工作/停止按鈕，工作指示燈

高真空機組 1382     

 0

LVU-110分子泵真空系統(tǒng)如圖所示，采用分子泵作為主工作泵，機械泵作為分子泵前級真空泵，真空泵內(nèi)部已配有隔斷放氣裝置，主要由連接管道、分子泵、機械泵構(gòu)成，通過標(biāo)準(zhǔn)配件連接，全部采用不銹鋼材料，電拋光處理。該系統(tǒng)設(shè)計具有預(yù)抽功能，系統(tǒng)的面板有數(shù)顯復(fù)合真空計，以便隨時觀察和控制本系統(tǒng)的工作狀態(tài)。分子泵和機械泵之間配有電動壓差閥，斷電后，壓差閥自動關(guān)閉，避免對分子泵產(chǎn)生影響。

石墨烯生長專用設(shè)備——雙溫區(qū)滑軌CVD系統(tǒng) 1836     

 0

滑軌式快速升降溫爐是專為生長薄膜石墨烯研制的，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗，操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。

真空井式坩堝爐 2397     

 0

BTF-1200C-VF真空井式坩堝爐,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱式爐。

晶體材料：摻鐵鈦酸鍶（Fe:SiTiO3） 3694     

 0

簡介：摻鐵鈦酸鍶（Fe:SiTiO3）與鈦酸鍶單晶有著相似的結(jié)構(gòu)，目前我們可以提供0.005%、0.05%等摻鐵濃度的單晶基片。

晶體材料：PMN-PT 3013     

 0

鈮鎂鈦酸鉛[（PbMg0.33Nb0.67O3）1-x:（PbTiO3）x ]具有優(yōu)異的壓電性能、非線性光學(xué)性能和熱釋電性能，是成為新一代高性能壓電換能器、非線性光學(xué)器件和光電探測器件（例如：紅外探測器）的核心材料。

晶體材料：釔鋁石榴石（YAG） 3443     

 0

釔鋁石榴石（YAG即Y3Al5O12）是一種新型基片和紫外及紅外光學(xué)窗口材料，適用于高溫和高能領(lǐng)域。YAG在2～3μm范圍內(nèi)沒有跟蹤吸收，然后玻璃由于強的氫氧鍵在該范圍內(nèi)被充分吸收。YAG晶體的機械化學(xué)性能穩(wěn)定，類似于藍寶石，但它又沒有雙折射，且具有很高的光學(xué)均勻性。

晶體材料：鋁酸鑭（LaAlO3） 3351     

 0

鋁酸鑭（LaAlO3）單晶是當(dāng)前非常重要的大尺寸高溫超導(dǎo)薄膜基片單晶材料。它對多種鈣鈦礦結(jié)構(gòu)材料晶格匹配好，是外延生長高溫超導(dǎo)薄膜和巨磁阻薄膜極好的襯底材料，介電常數(shù)較低，微波損耗小，適用于制作高溫超導(dǎo)微波電子器件（例如：遠程通訊中的高溫超導(dǎo)微波濾波器等）。