權(quán)利要求書: 1.一種電解電容器加工撥正用輔助裝置,包括支撐架(1),其特征在于:所述支撐架(1)的上部右側(cè)固定連接有檢測裝置(101),檢測裝置(101)的內(nèi)部開設(shè)有圓形槽(102),檢測裝置(101)的內(nèi)部且在圓形槽(102)的下部前后兩側(cè)均設(shè)置有導(dǎo)向塊(103),檢測裝置(101)的下部且在導(dǎo)向塊(103)的左側(cè)開設(shè)有氣孔(104),支撐架(1)的上部設(shè)置有傳送帶(2),傳送帶(2)的上部設(shè)置有電容(3),電容(3)的右側(cè)設(shè)置有引腳(301),檢測裝置(101)的內(nèi)部前后兩側(cè)均設(shè)置有供氣裝置(4),供氣裝置(4)的下端固定連接有與氣孔(104)對應(yīng)的氣管(5),檢測裝置(101)的內(nèi)部且在導(dǎo)向塊(103)內(nèi)均滑動連接有磁桿(6),磁桿(6)的里側(cè)端均轉(zhuǎn)動連接有定位輪(7),磁桿(6)的下端固定連接有彈簧(8),彈簧(8)的下側(cè)且在檢測裝置(101)內(nèi)設(shè)置有線圈(9),檢測裝置(101)的內(nèi)部且在圓形槽(102)的內(nèi)壁上端固定連接有照明燈(10),檢測裝置(101)的內(nèi)部且在圓形槽(102)的前后側(cè)壁均固定連接有電板(11),檢測裝置(101)的內(nèi)部且在圓形槽(102)的下側(cè)設(shè)置有與照明燈(10)對應(yīng)的凸面鏡(12),凸面鏡(12)的下側(cè)設(shè)置有光敏電阻(13);所述圓形槽(102)的下側(cè)開設(shè)有與傳送帶(2)對應(yīng)的凹槽;所述傳送帶(2)的上部設(shè)置有與電容(3)對應(yīng)的弧形槽;所述氣管(5)與氣孔(104)連通,且其均對稱分布在檢測裝置(101)的兩側(cè);所述線圈(9)產(chǎn)生的磁場與相對面的磁桿(6)的磁極相同;所述照明燈(10)寬度與傳送帶(2)的寬度相對應(yīng);所述電板(11)的水平中心線與電容(3)的軸線在同一水平面;所述凸面鏡(12)的弧面與光敏電阻(13)的弧面同心。
說明書: 一種電解電容器加工撥正用輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及電容加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種電解電容器加工撥正用輔助裝置。
背景技術(shù)[0002] 電解電容是一種用于
儲能的電子元器件,包括電解電容本體和兩個引腳為了避免電容器引腳易被彎折的問題,通常會在電容器引腳上插上兩個保護(hù)套筒,該保護(hù)套筒具有
彈性形變,保護(hù)套筒內(nèi)設(shè)有用于容納引腳的容納槽,但是由于電容本體為圓柱體易滾動,在
放置或傳送的過程中,部分電解電容的引腳會隨電解電容本體發(fā)生不同角度的偏轉(zhuǎn),導(dǎo)致
電解電容引腳無法準(zhǔn)確插入到保護(hù)套筒內(nèi),從而影響電解電容下一步加工流程。
[0003] 現(xiàn)有的電容器引腳撥正設(shè)備是通過擠壓引腳帶動電容器轉(zhuǎn)動,雖然能達(dá)到將電解電容的引腳撥正到水平,但是擠壓引腳帶動電容器轉(zhuǎn)動易造成電容器的磨損,且現(xiàn)有的電
容器引腳撥正自動化程度較低,從而增大了工人的工作強(qiáng)度,另外撥正之后只能人為的觀
察,當(dāng)保證設(shè)備出現(xiàn)較大誤差時,不能及時糾正,從而導(dǎo)致保護(hù)套筒與容納引腳無法插接,
進(jìn)一步導(dǎo)致引腳彎折。為了解決這一問題我們提出了一種電解電容器加工撥正用輔助裝
置。
發(fā)明內(nèi)容[0004] (一)解決的技術(shù)問題[0005] 針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供了一種電解電容器加工撥正用輔助裝置,具備避免電容磨損、自動化程度高、降低工作強(qiáng)度和避免引腳彎折的優(yōu)點(diǎn),解決了現(xiàn)有電容引腳
撥正裝置易使得電容磨損、自動化程度低、工人工作強(qiáng)度大和引腳易彎折的問題。
[0006] (二)技術(shù)方案[0007] 為實(shí)現(xiàn)具備避免電容磨損、自動化程度高、降低工作強(qiáng)度和避免引腳彎折的目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種電解電容器加工撥正用輔助裝置,包括支撐架,所述支撐架
的上部右側(cè)固定連接有檢測裝置,檢測裝置的內(nèi)部開設(shè)有圓形槽,檢測裝置的內(nèi)部且在圓
形槽的下部前后兩側(cè)均設(shè)置有導(dǎo)向塊,檢測裝置的下部且在導(dǎo)向塊的左側(cè)開設(shè)有氣孔,支
撐架的上部設(shè)置有傳送帶,傳送帶的上部設(shè)置有電容,電容的右側(cè)設(shè)置有引腳,檢測裝置的
內(nèi)部前后兩側(cè)均設(shè)置有供氣裝置,供氣裝置的下端固定連接有與氣孔對應(yīng)的氣管,檢測裝
置的內(nèi)部且在導(dǎo)向塊內(nèi)均滑動連接有磁桿,磁桿的里側(cè)端均轉(zhuǎn)動連接有定位輪,磁桿的下
端固定連接有彈簧,彈簧的下側(cè)且在檢測裝置的內(nèi)設(shè)置有線圈,檢測裝置的內(nèi)部且在圓形
槽的內(nèi)壁上端固定連接有照明燈,檢測裝置的內(nèi)部且在圓形槽的前后側(cè)壁均固定連接有電
板,檢測裝置的內(nèi)部且在圓形槽的下側(cè)設(shè)置有與照明燈對應(yīng)的凸面鏡,凸面鏡的下側(cè)設(shè)置
有光敏電阻。
[0008] 優(yōu)選的,所述圓形槽的下側(cè)開設(shè)有與傳送帶對應(yīng)的凹槽。[0009] 優(yōu)選的,所述傳送帶的上部設(shè)置有與電容對應(yīng)的弧形槽,從而保證電容在傳送帶的限位。
[0010] 優(yōu)選的,所述氣管與氣孔連通,且其均對稱分布在檢測裝置的兩側(cè),從而保證電容受到的氣體吹動的合力方向向上。
[0011] 優(yōu)選的,所述線圈產(chǎn)生的磁場與相對面的磁桿的磁極相同,從而保證線圈產(chǎn)生的磁場推動磁桿對電容進(jìn)行定位。
[0012] 優(yōu)選的,所述照明燈寬度與傳送帶的寬度相對應(yīng),從而保證電容上的引腳達(dá)到水平時,進(jìn)一步保證引腳通過照明燈投影在傳送帶的兩側(cè)。
[0013] 優(yōu)選的,所述電板的水平中心線與電容的軸線在同一水平面,從而保證引腳受到電板上電荷吸引的最大吸力,且使得電容最終保持靜止。
[0014] 優(yōu)選的,所述凸面鏡的弧面與光敏電阻的弧面同心,通過凸面鏡放大引腳的在光敏電阻上的投影。
[0015] (三)有益效果[0016] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明提供了一種電解電容器加工撥正用輔助裝置,具備以下有益效果:
[0017] 1、該電解電容器加工撥正用輔助裝置,通過傳送帶在支撐架上運(yùn)輸電容,當(dāng)傳送帶上的電容移動到氣孔的上方時,通過供氣裝置和氣管對電容進(jìn)行吹氣,氣管與氣孔連通,
且其均對稱分布在檢測裝置的兩側(cè),從而保證電容受到的氣體吹動的合力方向向上,這一
結(jié)構(gòu)不僅達(dá)到清除電容上灰塵的效果,且使得電容在豎直方向上存在向下很小的合力,從
而保證電容在撥正轉(zhuǎn)動時與傳送帶摩擦力非常小。
[0018] 2、該電解電容器加工撥正用輔助裝置,通過檢測裝置前后側(cè)設(shè)置的電板對電容上的引腳進(jìn)行吸附,這一結(jié)構(gòu)利用電能的吸附性來完成對引腳的無接觸控制,從而避免外部
設(shè)置的機(jī)械機(jī)構(gòu)進(jìn)行撥正,不僅減小了空間的占用,且避免了接觸磨損。
[0019] 3、該電解電容器加工撥正用輔助裝置,通過電容抵住定位輪,電容上的引腳在照明燈的作用下通過凸面鏡放大在光敏電阻上的投影,當(dāng)引腳撥正后,與光敏電阻的線圈通
電產(chǎn)生的磁場減弱,此時,在線圈產(chǎn)生的磁場與相對面的磁桿的磁極相同,在彈簧的作用下
拉動磁桿帶動定位輪脫離電容的下部,從而保證撥正后的電容進(jìn)入下一道工序,綜合以上
結(jié)構(gòu)之間的配合,本發(fā)明解決了現(xiàn)有電容引腳撥正裝置易使得電容磨損、自動化程度低、工
人工作強(qiáng)度大和引腳易彎折的問題。
附圖說明[0020] 圖1為本發(fā)明整體俯視結(jié)構(gòu)示意圖;[0021] 圖2為本發(fā)明整體俯視結(jié)構(gòu)剖視圖;[0022] 圖3為本發(fā)明整體俯視部分結(jié)構(gòu)剖視圖;[0023] 圖4為本發(fā)明圖1中A?A處的結(jié)構(gòu)剖視圖;[0024] 圖5為本發(fā)明圖2中B?B處的結(jié)構(gòu)剖視圖;[0025] 圖6為本發(fā)明圖5中C處的結(jié)構(gòu)放大圖;[0026] 圖7為本發(fā)明圖3中D?D處的結(jié)構(gòu)剖視圖;[0027] 圖8為本發(fā)明圖7中撥正后引腳投影遮擋范圍示意圖;[0028] 圖9為本發(fā)明圖7中撥正前引腳投影遮擋范圍示意圖;[0029] 圖10為本發(fā)明圖7中引腳投影范圍圈與照明燈夾角示意圖。[0030] 圖中:1支撐架、101檢測裝置、102圓形槽、103導(dǎo)向塊、104氣孔、2傳送帶、3電容、301引腳、4供氣裝置、5氣管、6磁桿、7定位輪、8彈簧、9線圈、10照明燈、11電板、12凸面鏡、13
光敏電阻。
具體實(shí)施方式[0031] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;?br>
本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他
實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0032] 請參閱圖1?10,一種電解電容器加工撥正用輔助裝置,包括支撐架1,支撐架1的上部右側(cè)固定連接有檢測裝置101,檢測裝置101的內(nèi)部開設(shè)有圓形槽102,檢測裝置101的內(nèi)
部且在圓形槽102的下部前后兩側(cè)均設(shè)置有導(dǎo)向塊103,檢測裝置101的下部且在導(dǎo)向塊103
的左側(cè)開設(shè)有氣孔104,支撐架1的上部設(shè)置有傳送帶2,圓形槽102的下側(cè)開設(shè)有與傳送帶2
對應(yīng)的凹槽。傳送帶2的上部設(shè)置有電容3,電容3的右側(cè)設(shè)置有引腳301,傳送帶2的上部設(shè)
置有與電容3對應(yīng)的弧形槽,從而保證電容3在傳送帶2的限位。檢測裝置101的內(nèi)部前后兩
側(cè)均設(shè)置有供氣裝置4,供氣裝置4的下端固定連接有與氣孔104對應(yīng)的氣管5,氣管5與氣孔
104連通,且其均對稱分布在檢測裝置101的兩側(cè),從而保證電容3受到的氣體吹動的合力方
向向上。
[0033] 檢測裝置101的內(nèi)部且在導(dǎo)向塊103內(nèi)均滑動連接有磁桿6,磁桿6的里側(cè)端均轉(zhuǎn)動連接有定位輪7,磁桿6的下端固定連接有彈簧8,彈簧8的下側(cè)且在檢測裝置101的內(nèi)設(shè)置有
線圈9,線圈9產(chǎn)生的磁場與相對面的磁桿6的磁極相同,從而保證線圈9產(chǎn)生的磁場推動磁
桿6對電容3進(jìn)行定位。檢測裝置101的內(nèi)部且在圓形槽102的內(nèi)壁上端固定連接有照明燈
10,照明燈10寬度與傳送帶2的寬度相對應(yīng),從而保證電容3上的引腳301達(dá)到水平時,進(jìn)一
步保證引腳301通過照明燈10投影在傳送帶2的兩側(cè)檢測裝置101的內(nèi)部且在圓形槽102的
前后側(cè)壁均固定連接有電板11,電板11的水平中心線與電容3的軸線在同一水平面,從而保
證引腳301受到電板11上電荷吸引的最大吸力,且使得電容3最終保持靜止。檢測裝置101的
內(nèi)部且在圓形槽102的下側(cè)設(shè)置有與照明燈10對應(yīng)的凸面鏡12,凸面鏡12的下側(cè)設(shè)置有光
敏電阻13,凸面鏡12的弧面與光敏電阻13的弧面同心,通過凸面鏡12放大引腳301的在光敏
電阻13上的投影。
[0034] 工作原理:該電解電容器加工撥正用輔助裝置,在工作時,通過傳送帶2在支撐架1上運(yùn)輸電容3,當(dāng)傳送帶2上的電容3移動到氣孔104的上方時,通過供氣裝置4和氣管5對電
容3進(jìn)行吹氣,氣管5與氣孔104連通,且其均對稱分布在檢測裝置101的兩側(cè),從而保證電容
3受到的氣體吹動的合力方向向上,這一結(jié)構(gòu)不僅達(dá)到清除電容3上灰塵的效果,且使得電
容3在豎直方向上存在向下很小的合力,從而保證電容3在撥正轉(zhuǎn)動時與傳送帶2摩擦力非
常小。
[0035] 通過檢測裝置101前后側(cè)設(shè)置的電板11對電容3上的引腳301進(jìn)行吸附,這一結(jié)構(gòu)利用電能的吸附性來完成對引腳301的無接觸控制,從而避免外部設(shè)置的機(jī)械機(jī)構(gòu)進(jìn)行撥
正,不僅減小了空間的占用,且避免了接觸磨損。
[0036] 通過電容3抵住定位輪7,電容3上的引腳301在照明燈10的作用下通過凸面鏡12放大在光敏電阻13上的投影,撥正前的投影如圖9所示,撥正后的投影如圖7或8所示,圖中7內(nèi)
的加上傳送帶2的投影總范圍大于圖9中加上傳送帶2的投影總范圍,從而光敏電阻13上接
受的光照強(qiáng)度不同,此時,當(dāng)引腳301撥正后,與光敏電阻13的線圈9通電產(chǎn)生的磁場減弱,
此時,在線圈9產(chǎn)生的磁場與相對面的磁桿6的磁極相同,在彈簧8的作用下拉動磁桿6帶動
定位輪7脫離電容3的下部,從而保證撥正后的電容3進(jìn)入下一道工序,綜合以上結(jié)構(gòu)之間的
配合,本發(fā)明解決了現(xiàn)有電容引腳撥正裝置易使得電容磨損、自動化程度低、工人工作強(qiáng)度
大和引腳易彎折的問題。
[0037] 盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換
和變型,本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
聲明:
“電解電容器加工撥正用輔助裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)