權(quán)利要求書： 1.一種混凝土地面抹平裝置，其特征在于，包括：機體(10)；

至少兩個抹盤機構(gòu)(20)，所述抹盤機構(gòu)(20)設(shè)置在所述機體(10)的下方，其中，所述抹盤機構(gòu)(20)可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，以在所述抹盤機構(gòu)(20)的抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動所述機體(10)在所述混凝土地面移動，同時通過所述抹平平面對混凝土地面進行打磨；

導(dǎo)向機構(gòu)(30)，所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)環(huán)繞所述機體(10)的外側(cè)設(shè)置并可繞機體(10)進行轉(zhuǎn)動，所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的至少一部分在所述混凝土地面的正投影超出所述機體(10)和所述抹盤機構(gòu)(20)在所述混凝土地面的正投影，以使所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)優(yōu)先于所述機體(10)和所述抹盤機構(gòu)(20)接觸障礙物(1)，以實現(xiàn)所述混凝土地面抹平裝置的導(dǎo)向；

支撐件(40)，所述支撐件(40)設(shè)置在所述機體(10)上，所述支撐件(40)位于所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的內(nèi)側(cè)并與所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)接觸，以通過所述支撐件(40)支撐所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)，以抵消所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)與所述障礙物(1)接觸時所受到的部分擠壓力；

所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)包括：同步帶(32)，所述同步帶(32)環(huán)繞所述機體(10)設(shè)置，所述同步帶(32)與所述機體(10)連接；

凸起塊(31)，所述凸起塊(31)設(shè)置在所述同步帶(32)靠近所述障礙物的一側(cè)，所述凸起塊(31)為多個，多個所述凸起塊(31)沿所述同步帶(32)的延伸方向相間隔地設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述支撐件(40)上設(shè)置有限位槽，所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)至少部分安裝在所述限位槽內(nèi)，以使所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)沿所述限位槽的延伸方向移動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，多個所述抹盤機構(gòu)(20)包括第一抹盤機構(gòu)(21)、第二抹盤機構(gòu)(22)和第三抹盤機構(gòu)(23)，所述第一抹盤機構(gòu)(21)和所述第三抹盤機構(gòu)(23)設(shè)置在所述第二抹盤機構(gòu)(22)的兩側(cè)；

其中，所述第一抹盤機構(gòu)(21)的第一抹平平面與水平面之間具有第一預(yù)定夾角，所述第三抹盤機構(gòu)(23)的第二抹平平面與水平面之間具有第二預(yù)定夾角，所述第一抹平平面與所述第二抹平平面之間具有第三預(yù)定夾角。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述混凝土地面抹平裝置還包括：

兩組第一驅(qū)動組件(50)，安裝在所述機體(10)上，一組所述第一驅(qū)動組件(50)驅(qū)動所述第一抹盤機構(gòu)(21)轉(zhuǎn)動，另一組所述第一驅(qū)動組件(50)驅(qū)動所述第三抹盤機構(gòu)(23)轉(zhuǎn)動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，一組所述第一驅(qū)動組件(50)包括第一驅(qū)動部件(51)，所述第一驅(qū)動部件(51)與所述第一抹盤機構(gòu)(21)驅(qū)動連接，以通過所述第一驅(qū)動部件(51)驅(qū)動所述第一抹盤機構(gòu)(21)轉(zhuǎn)動；

另一組所述第一驅(qū)動組件(50)包括第三驅(qū)動部件(54)，所述第三驅(qū)動部件(54)與所述第三抹盤機構(gòu)(23)驅(qū)動連接，以通過所述第三驅(qū)動部件(54)驅(qū)動所述第三抹盤機構(gòu)(23)轉(zhuǎn)動；

其中，所述第一驅(qū)動部件(51)的轉(zhuǎn)軸和所述第三驅(qū)動部件(54)的轉(zhuǎn)軸均相對垂直方向傾斜設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述機體(10)上設(shè)置有第一安裝孔和第二安裝孔，所述第一驅(qū)動部件(51)的至少部分穿過所述第一安裝孔以與所述第一抹盤機構(gòu)(21)驅(qū)動連接，所述第三驅(qū)動部件(54)的至少部分穿過所述第二安裝孔與所述第三抹盤機構(gòu)(23)驅(qū)動連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述混凝土地面抹平裝置還包括：

第二驅(qū)動組件(60)，所述第二驅(qū)動組件(60)與所述第二抹盤機構(gòu)(22)驅(qū)動連接，以通過所述第二驅(qū)動組件(60)驅(qū)動所述第二抹盤機構(gòu)(22)轉(zhuǎn)動。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述第二驅(qū)動組件(60)包括：

第二驅(qū)動部件(61)，所述第二驅(qū)動部件(61)與所述第二抹盤機構(gòu)(22)驅(qū)動連接，以通過所述第二驅(qū)動部件(61)驅(qū)動所述第二抹盤機構(gòu)(22)轉(zhuǎn)動。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述第二驅(qū)動組件(60)還包括：

安裝座(62)，安裝在所述機體(10)上，所述安裝座(62)上設(shè)置有安裝空間，所述第二驅(qū)動部件(61)的至少部分安裝在所述安裝空間內(nèi)；

止擋板(63)，所述止擋板(63)設(shè)置在所述機體(10)上并位于所述安裝座(62)的上方，所述止擋板(63)環(huán)繞所述第二驅(qū)動部件(61)設(shè)置；

壓縮彈簧(64)，所述壓縮彈簧(64)的第一端設(shè)置在所述止擋板(63)上，所述壓縮彈簧(64)的第二端設(shè)置在所述安裝座(62)上，以通過所述壓縮彈簧(64)使所述第二驅(qū)動部件(61)沿豎直方向可移動地設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述第二驅(qū)動組件(60)還包括：

導(dǎo)向柱(65)，所述導(dǎo)向柱(65)的第一端與所述止擋板(63)固定連接，所述導(dǎo)向柱(65)的第二端與所述安裝座(62)連接，所述安裝座(62)上設(shè)置有導(dǎo)向孔，所述導(dǎo)向柱(65)的至少部分插入所述導(dǎo)向孔內(nèi)，所述壓縮彈簧(64)套設(shè)在所述導(dǎo)向柱(65)的外側(cè)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述混凝土地面抹平裝置還包括：

第三驅(qū)動組件(70)，所述第三驅(qū)動組件(70)與所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)驅(qū)動連接，以在所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)與障礙物接觸的同時，通過所述第三驅(qū)動組件(70)驅(qū)動所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)繞所述機體(10)轉(zhuǎn)動，以使所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)對所述機體(10)進行導(dǎo)向。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述第三驅(qū)動組件(70)包括：

第一同步帶輪(71)和第二同步帶輪(72)，所述第一同步帶輪(71)和所述第二同步帶輪(72)均安裝在所述機體(10)上，所述同步帶(32)套設(shè)在所述第一同步帶輪(71)和所述第二同步帶輪(72)上。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述第三驅(qū)動組件(70)包括：

驅(qū)動齒輪(73)，所述第一同步帶輪(71)套設(shè)在所述驅(qū)動齒輪(73)的外側(cè)；

主動齒輪(74)，所述主動齒輪(74)套設(shè)在驅(qū)動軸的驅(qū)動端，所述主動齒輪(74)與所述驅(qū)動齒輪(73)相互嚙合，以使所述主動齒輪(74)帶動所述驅(qū)動齒輪(73)轉(zhuǎn)動，以通過所述驅(qū)動齒輪(73)帶動所述第一同步帶輪(71)轉(zhuǎn)動。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述混凝土地面抹平裝置還包括：

激光測量儀，所述激光測量儀安裝在所述機體(10)上，以在所述機體(10)移動的過程中，測量所述地面與所述機體(10)之間的距離，以測得所述地面的平整度。

15.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的混凝土地面抹平裝置，其特征在于，所述混凝土地面抹平裝置還包括：

控制組件(2)，所述控制組件(2)的至少部分設(shè)置在所述機體(10)上，用于控制所述機體(10)移動；所述支撐件(40)的一部分設(shè)置在所述控制組件(2)的第一側(cè)，以支撐所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的第一部分，所述支撐件(40)的另一部分設(shè)置在所述控制組件(2)的另一側(cè)，以支撐所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的另一部分。

說明書： 混凝土地面抹平裝置[0001] 本發(fā)明是申請日為2019年11月19日，申請?zhí)枮?01911135967.X，發(fā)明名稱為《混凝土地面抹平裝置》的發(fā)明專利的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域[0002] 本發(fā)明涉及機械設(shè)計領(lǐng)域，具體而言，涉及一種混凝土地面抹平裝置。背景技術(shù)[0003] 在建筑領(lǐng)域當(dāng)中，在混凝土地面凝固成型前，對混凝土面進行抹平是一道重要的工序，主要作用是避免混凝土后期開裂以及地面的水平度及平整度，還有利于后續(xù)對地面

進行裝修或二次找平等技術(shù)。

[0004] 目前，地面抹平工作大多依靠抹平機實現(xiàn)，現(xiàn)有的抹平機大多通過人工駕駛，通過多個驅(qū)動部件串聯(lián)，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，自動化程度低，對于地面邊角的地方往往出現(xiàn)抹平漏區(qū)，使

地面抹平不均勻。

發(fā)明內(nèi)容[0005] 本發(fā)明的主要目的在于提供一種混凝土地面抹平裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的混凝土地面抹平不均勻的問題。

[0006] 為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種混凝土地面抹平裝置，包括：機體；至少兩個抹盤機構(gòu)，抹盤機構(gòu)設(shè)置在機體的下方，其中，抹盤機構(gòu)可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，以在抹盤機構(gòu)的

抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動機體在混凝土地面移動，同時通過抹平平面對混凝土

地面進行打磨；導(dǎo)向機構(gòu)，導(dǎo)向機構(gòu)環(huán)繞機體的外側(cè)設(shè)置并可繞機體進行轉(zhuǎn)動，導(dǎo)向機構(gòu)的

至少一部分在混凝土地面的正投影超出機體和抹盤機構(gòu)在混凝土地面的正投影，以使導(dǎo)向

機構(gòu)優(yōu)先于機體和抹盤機構(gòu)接觸障礙物，以實現(xiàn)混凝土地面抹平裝置的導(dǎo)向；支撐件，支撐

件設(shè)置在機體上，支撐件位于導(dǎo)向機構(gòu)的內(nèi)側(cè)并與導(dǎo)向機構(gòu)接觸，以通過支撐件支撐導(dǎo)向

機構(gòu)，以抵消導(dǎo)向機構(gòu)與障礙物接觸時所受到的部分擠壓力。

[0007] 進一步地，支撐件上設(shè)置有限位槽，導(dǎo)向機構(gòu)至少部分安裝在限位槽內(nèi)，以使導(dǎo)向機構(gòu)沿限位槽的延伸方向移動。

[0008] 進一步地，多個抹盤機構(gòu)包括第一抹盤機構(gòu)、第二抹盤機構(gòu)和第三抹盤機構(gòu)，第一抹盤機構(gòu)和第三抹盤機構(gòu)設(shè)置在第二抹盤機構(gòu)的兩側(cè)；其中，第一抹盤機構(gòu)的第一抹平平

面與水平面之間具有第一預(yù)定夾角，第三抹盤機構(gòu)的第二抹平平面與水平面之間具有第二

預(yù)定夾角，第一抹平平面與第二抹平平面之間具有第三預(yù)定夾角。

[0009] 進一步地，混凝土地面抹平裝置還包括：兩組第一驅(qū)動組件，安裝在機體上，一組第一驅(qū)動組件驅(qū)動第一抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動，另一組第一驅(qū)動組件驅(qū)動第三抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動。

[0010] 進一步地，第一驅(qū)動組件包括：一組第一驅(qū)動組件包括第一驅(qū)動部件，第一驅(qū)動部件與第一抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接，以通過第一驅(qū)動部件驅(qū)動第一抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動；另一組第一驅(qū)

動組件包括第三驅(qū)動部件，第三驅(qū)動部件與第三抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接，以通過第三驅(qū)動部件

驅(qū)動第三抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動；其中，第一驅(qū)動部件的轉(zhuǎn)軸和第三驅(qū)動部件的轉(zhuǎn)軸均相對垂直方

向傾斜設(shè)置。

[0011] 進一步地，機體上設(shè)置有第一安裝孔和第二安裝孔，第一驅(qū)動部件的至少部分穿過第一安裝孔以與第一抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接，第三驅(qū)動部件的至少部分穿過第二安裝孔與第

三抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接。

[0012] 進一步地，混凝土地面抹平裝置還包括：第二驅(qū)動組件，第二驅(qū)動組件與第二抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接，以通過第二驅(qū)動組件驅(qū)動第二抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動。

[0013] 進一步地，第二驅(qū)動組件包括：第二驅(qū)動部件，第二驅(qū)動部件與第二抹盤機構(gòu)驅(qū)動連接，以通過第二驅(qū)動部件驅(qū)動第二抹盤機構(gòu)轉(zhuǎn)動。

[0014] 進一步地，第二驅(qū)動組件還包括：安裝座，安裝在機體上，安裝座上設(shè)置有安裝空間，第二驅(qū)動部件的至少部分安裝在安裝空間內(nèi)；止擋板，止擋板設(shè)置在機體上并位于安裝

座的上方，止擋板環(huán)繞第二驅(qū)動部件設(shè)置；壓縮彈簧，壓縮彈簧的第一端設(shè)置在止擋板上，

壓縮彈簧的第二端設(shè)置在安裝座上，以通過壓縮彈簧使第二驅(qū)動部件沿豎直方向可移動地

設(shè)置。

[0015] 進一步地，第二驅(qū)動組件還包括：導(dǎo)向柱，導(dǎo)向柱的第一端與止擋板固定連接，導(dǎo)向柱的第二端與安裝座連接，安裝座上設(shè)置有導(dǎo)向孔，導(dǎo)向柱的至少部分插入導(dǎo)向孔內(nèi)，壓

縮彈簧套設(shè)在導(dǎo)向柱的外側(cè)。

[0016] 進一步地，導(dǎo)向機構(gòu)包括：同步帶，同步帶環(huán)繞機體設(shè)置，同步帶與機體連接；凸起塊，凸起塊設(shè)置在同步帶靠近障礙物的一側(cè)，凸起塊為多個，多個凸起塊沿同步帶的延伸方

向相間隔地設(shè)置。

[0017] 進一步地，混凝土地面抹平裝置還包括：第三驅(qū)動組件，第三驅(qū)動組件與導(dǎo)向機構(gòu)驅(qū)動連接，以在導(dǎo)向機構(gòu)與障礙物接觸的同時，通過第三驅(qū)動組件驅(qū)動導(dǎo)向機構(gòu)繞機體轉(zhuǎn)

動，以使導(dǎo)向機構(gòu)對機體進行導(dǎo)向。

[0018] 進一步地，第三驅(qū)動組件包括：第一同步帶輪和第二同步帶輪，第一同步帶輪和第二同步帶輪均安裝在機體上，同步帶套設(shè)在第一同步帶輪和第二同步帶輪上。

[0019] 進一步地，第三驅(qū)動組件包括：驅(qū)動齒輪，第一同步帶輪套設(shè)在驅(qū)動齒輪的外側(cè)；主動齒輪，主動齒輪套設(shè)在驅(qū)動軸的驅(qū)動端，主動齒輪與驅(qū)動齒輪相互嚙合，以使主動齒輪

帶動驅(qū)動齒輪轉(zhuǎn)動，以通過驅(qū)動齒輪帶動第一同步帶輪轉(zhuǎn)動。

[0020] 進一步地，混凝土地面抹平裝置還包括：激光測量儀，激光測量儀安裝在機體上，以在機體移動的過程中，測量地面與機體之間的距離，以測得地面的平整度。

[0021] 進一步地，混凝土地面抹平裝置還包括：控制組件，控制組件的至少部分設(shè)置在機體上，用于控制機體移動；支撐件的一部分設(shè)置在控制組件的第一側(cè)，以支撐導(dǎo)向機構(gòu)的第

一部分，支撐件的另一部分設(shè)置在控制組件的另一側(cè)，以支撐導(dǎo)向機構(gòu)的另一部分。

[0022] 應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，混凝土地面抹平裝置包括：機體、至少兩個抹盤機構(gòu)、導(dǎo)向機構(gòu)和支撐件，抹盤機構(gòu)設(shè)置在機體的下方，其中，抹盤機構(gòu)可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，以在抹盤機

構(gòu)的抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動機體在混凝土地面移動，同時通過抹平平面對混

凝土地面進行打磨；導(dǎo)向機構(gòu)環(huán)繞機體的外側(cè)設(shè)置并可繞機體進行轉(zhuǎn)動，導(dǎo)向機構(gòu)的至少

一部分在混凝土地面的正投影超出機體和抹盤機構(gòu)在混凝土地面的正投影，以使導(dǎo)向機構(gòu)

優(yōu)先于機體和抹盤機構(gòu)接觸障礙物，以實現(xiàn)混凝土地面抹平裝置的導(dǎo)向；支撐件設(shè)置在機

體上，支撐件位于導(dǎo)向機構(gòu)的內(nèi)側(cè)并與導(dǎo)向機構(gòu)接觸，以通過支撐件支撐導(dǎo)向機構(gòu)，以抵消

導(dǎo)向機構(gòu)與障礙物接觸時所受到的部分擠壓力。利用本發(fā)明提供的混凝土地面抹平裝置，

能夠抹平混凝土地面的邊緣地區(qū)，避免出現(xiàn)抹平死角，同時利用導(dǎo)向機構(gòu)與圍成混凝土地

面的障礙物之間的相互貼合以帶動機體移動，還能夠保證機體運行軌跡的穩(wěn)定性，對機體

進行導(dǎo)向，使機體帶動多個抹盤機構(gòu)沿混凝土地面的邊緣移動，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的混凝

土地面抹平不均勻的問題。

附圖說明[0023] 構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

[0024] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的混凝土地面抹平裝置的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；[0025] 圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的混凝土地面抹平裝置的俯視圖；[0026] 圖3示出了根據(jù)圖2的混凝土地面抹平裝置的A?A面的截面圖；[0027] 圖4示出了根據(jù)圖3的混凝土地面抹平裝置的A部分的放大圖；[0028] 圖5示出了根據(jù)圖3的混凝土地面抹平裝置的B部分的放大圖；[0029] 圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的混凝土地面抹平裝置的第一工作狀態(tài)圖；[0030] 圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的混凝土地面抹平裝置的第二工作狀態(tài)圖；以及[0031] 圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的混凝土地面抹平裝置的第三工作狀態(tài)圖。[0032] 其中，上述附圖包括以下附圖標記：[0033] 1、障礙物；2、控制組件；10、機體；20、抹盤機構(gòu)；30、導(dǎo)向機構(gòu)；31、凸起塊；32、同步帶；40、支撐件；21、第一抹盤機構(gòu)；22、第二抹盤機構(gòu)；23、第三抹盤機構(gòu)；50、第一驅(qū)動組件；

51、第一驅(qū)動部件；52、固定件；53、墊塊；54、第三驅(qū)動部件；60、第二驅(qū)動組件；61、第二驅(qū)動

部件；62、安裝座；63、止擋板；64、壓縮彈簧；65、導(dǎo)向柱；70、第三驅(qū)動組件；71、第一同步帶

輪；72、第二同步帶輪；73、驅(qū)動齒輪；74、主動齒輪。

具體實施方式[0034] 需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本發(fā)明。

[0035] 本發(fā)明提供了一種混凝土地面抹平裝置，請參考圖1至圖8，包括：機體10；至少兩個抹盤機構(gòu)20，抹盤機構(gòu)20設(shè)置在機體10的下方，其中，抹盤機構(gòu)20可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，以在抹

盤機構(gòu)20的抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動機體10在混凝土地面移動，同時通過抹平

平面對混凝土地面進行打磨；導(dǎo)向機構(gòu)30，導(dǎo)向機構(gòu)30環(huán)繞機體10的外側(cè)設(shè)置并可繞機體

10進行轉(zhuǎn)動，導(dǎo)向機構(gòu)30的至少一部分在混凝土地面的正投影超出機體10和抹盤機構(gòu)20在

混凝土地面的正投影，以使導(dǎo)向機構(gòu)30優(yōu)先于機體10和抹盤機構(gòu)20接觸障礙物，以實現(xiàn)混

凝土地面抹平裝置的導(dǎo)向；支撐件40，支撐件40設(shè)置在機體10上，支撐件40位于導(dǎo)向機構(gòu)30

的內(nèi)側(cè)并與導(dǎo)向機構(gòu)30接觸，以通過支撐件40支撐導(dǎo)向機構(gòu)30，以抵消導(dǎo)向機構(gòu)30與障礙

物1接觸時所受到的部分擠壓力。

[0036] 根據(jù)本發(fā)明提供的混凝土地面抹平裝置，包括：機體10、至少兩個抹盤機構(gòu)20、導(dǎo)向機構(gòu)30和支撐件40，抹盤機構(gòu)20設(shè)置在機體10的下方，其中，抹盤機構(gòu)20可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，

以在抹盤機構(gòu)20的抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動機體10在混凝土地面移動，同時通

過抹平平面對混凝土地面進行打磨；導(dǎo)向機構(gòu)30環(huán)繞機體10的外側(cè)設(shè)置并可繞機體10進行

轉(zhuǎn)動，導(dǎo)向機構(gòu)30的至少一部分在混凝土地面的正投影超出機體10和抹盤機構(gòu)20在混凝土

地面的正投影，以使導(dǎo)向機構(gòu)30優(yōu)先于機體10和抹盤機構(gòu)20接觸障礙物，以實現(xiàn)混凝土地

面抹平裝置的導(dǎo)向；支撐件40設(shè)置在機體10上，支撐件40位于導(dǎo)向機構(gòu)30的內(nèi)側(cè)并與導(dǎo)向

機構(gòu)30接觸，以通過支撐件40支撐導(dǎo)向機構(gòu)30，以抵消導(dǎo)向機構(gòu)30與障礙物1接觸時所受到

的部分擠壓力。利用本發(fā)明提供的混凝土地面抹平裝置，能夠抹平混凝土地面的邊緣地區(qū)，

避免出現(xiàn)抹平死角，同時利用導(dǎo)向機構(gòu)30與圍成混凝土地面的障礙物1之間的相互貼合以

帶動機體10移動，還能夠保證機體10運行軌跡的穩(wěn)定性，對機體進行導(dǎo)向，使機體帶動多個

抹盤機構(gòu)沿混凝土地面的邊緣移動，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的混凝土地面抹平不均勻的問題。

[0037] 本發(fā)明中，通過設(shè)置支撐件40，使支撐件40對導(dǎo)向機構(gòu)30進行支撐，防止導(dǎo)向機構(gòu)30在與障礙物貼合的過程中，導(dǎo)向機構(gòu)30受到障礙物1的擠壓產(chǎn)生凹陷，通過支撐件40的支

撐，使導(dǎo)向機構(gòu)30與障礙物1的接觸面的面積更大，以便于導(dǎo)向機構(gòu)30對機體10進行導(dǎo)向，

使機體10帶動多個抹盤機構(gòu)20沿混凝土地面的邊緣移動，以對混凝土地面的邊緣區(qū)域進行

打磨。

[0038] 優(yōu)選地，為了使導(dǎo)向機構(gòu)30安裝的更加穩(wěn)定，支撐件40的支撐面上設(shè)置有限位槽，導(dǎo)向機構(gòu)30至少部分安裝在限位槽內(nèi)，以使導(dǎo)向機構(gòu)30沿限位槽的延伸方向移動。

[0039] 具體地，如圖1所示，多個抹盤機構(gòu)20包括第一抹盤機構(gòu)21、第二抹盤機構(gòu)22和第三抹盤機構(gòu)23，第一抹盤機構(gòu)21和第三抹盤機構(gòu)23設(shè)置在第二抹盤機構(gòu)22的兩側(cè)；其中，第

一抹盤機構(gòu)21的第一抹平平面與水平面之間具有第一預(yù)定夾角，第三抹盤機構(gòu)23的第二抹

平平面與水平面之間具有第二預(yù)定夾角，第一抹平平面與第二抹平平面之間具有第三預(yù)定

夾角。這樣設(shè)置使第一抹盤機構(gòu)21與第三抹盤機構(gòu)23與對地面產(chǎn)生的壓強不同，通過第一

抹盤機構(gòu)21和第三抹盤機構(gòu)23對地面不同的摩擦力，使機體10沿預(yù)定方向移動，同時貼合

障礙物1。

[0040] 在具體實施的過程中，如圖7和圖8所示，通過控制第一抹盤機構(gòu)21和第三抹盤機構(gòu)23的旋轉(zhuǎn)角度，能夠控制機體10的運行軌跡，當(dāng)?shù)谝荒ūP機構(gòu)21與第三抹盤機構(gòu)23沿同

一方向轉(zhuǎn)動時，機體10沿地面邊緣向前移動，當(dāng)?shù)谝荒ūP機構(gòu)21與第三抹盤機構(gòu)23沿相反

方向轉(zhuǎn)動時，機體10沿地面邊緣向后移動，通過在第一抹盤機構(gòu)21與第三抹盤機構(gòu)23之間

設(shè)置第二抹盤機構(gòu)22，第二抹盤機構(gòu)22的第三抹平平面與地面貼合，以將第一抹盤機構(gòu)21

與第三抹盤機構(gòu)23之間的打磨雜質(zhì)推至兩側(cè)，防止打磨雜質(zhì)堆積在第一抹盤機構(gòu)21與第三

抹盤機構(gòu)23之間，防止影響激光測量儀測量地面平整度數(shù)據(jù)。

[0041] 如圖2至圖5所示，混凝土地面抹平裝置還包括：兩組第一驅(qū)動組件50，安裝在機體10上，一組第一驅(qū)動組件50驅(qū)動第一抹盤機構(gòu)21轉(zhuǎn)動，另一組第一驅(qū)動組件50驅(qū)動第三抹

盤機構(gòu)23轉(zhuǎn)動。

[0042] 具體地，一組第一驅(qū)動組件50包括：第一驅(qū)動部件51，第一驅(qū)動部件51與第一抹盤機構(gòu)21驅(qū)動連接，以通過第一驅(qū)動部件51驅(qū)動第一抹盤機構(gòu)21轉(zhuǎn)動；另一組第一驅(qū)動組件

50包括第三驅(qū)動部件54，第三驅(qū)動部件54與第三抹盤機構(gòu)23驅(qū)動連接，以通過第三驅(qū)動部

件54驅(qū)動第三抹盤機構(gòu)23轉(zhuǎn)動，其中，第一驅(qū)動部件51的轉(zhuǎn)軸和第三驅(qū)動部件54的轉(zhuǎn)軸均

相對垂直方向傾斜設(shè)置。這樣設(shè)置以通過第一驅(qū)動部件51帶動第一抹盤機構(gòu)21的第一抹平

平面與地面之間形成第一預(yù)定夾角，通過第三驅(qū)動部件54帶動第三抹盤機構(gòu)23的第二抹平

平面與地面之間形成第二預(yù)定夾角。

[0043] 為了便于第一驅(qū)動部件51的安裝，機體10上設(shè)置有第一安裝孔，第一驅(qū)動部件51的至少部分穿過第一安裝孔以與第一抹盤機構(gòu)21連接；第一驅(qū)動組件50還包括：固定件52，

固定件52設(shè)置在圍成第一安裝孔的機體10上，固定件52的至少部分與第一驅(qū)動部件51連

接，以通過固定件52將第一驅(qū)動部件51安裝在機體10上；其中，固定件52為兩個，兩個固定

件52分別設(shè)置在第一驅(qū)動部件51的兩側(cè)；墊塊53，墊塊53位于第一驅(qū)動部件51的一側(cè)，墊塊

53設(shè)置在固定件52與機體10之間，以使第一驅(qū)動部件51與水平面之間呈第一預(yù)定夾角。優(yōu)

選地，第一安裝孔與第一驅(qū)動部件51之間為間隙配合，以在設(shè)置墊塊53時，使第一驅(qū)動部件

51相對于第一安裝孔的孔心線發(fā)生傾斜。

[0044] 在本發(fā)明提供的實施例中，機體10上還設(shè)置有第二安裝孔，第三驅(qū)動部件54的至少部分穿過第二安裝孔與第三磨盤機構(gòu)23驅(qū)動連接。

[0045] 為了實現(xiàn)第二抹盤機構(gòu)22的轉(zhuǎn)動，混凝土地面抹平裝置還包括：第二驅(qū)動組件60，第二驅(qū)動組件60與第二抹盤機構(gòu)22驅(qū)動連接，以通過第二驅(qū)動組件60驅(qū)動第二抹盤機構(gòu)22

轉(zhuǎn)動。

[0046] 在具體實施的過程中，第二驅(qū)動組件60包括：第二驅(qū)動部件61，第二驅(qū)動部件61與第二抹盤機構(gòu)22驅(qū)動連接，以通過第二驅(qū)動部件61驅(qū)動第二抹盤機構(gòu)22轉(zhuǎn)動；其中，第二驅(qū)

動部件61沿豎直方向可移動地設(shè)置。以在工作過程中，使第二抹盤機構(gòu)22能夠隨第二驅(qū)動

部件61浮動，以減小第二抹盤機構(gòu)22與地面之間的摩擦力。

[0047] 進一步地，第二驅(qū)動組件60還包括：安裝座62，安裝在機體10上，安裝座62上設(shè)置有安裝空間，第二驅(qū)動部件61的至少部分安裝在安裝空間內(nèi)；止擋板63，止擋板63設(shè)置在機

體10上并位于安裝座62的上方，止擋板63環(huán)繞第二驅(qū)動部件61設(shè)置；壓縮彈簧64，壓縮彈簧

64的第一端設(shè)置在止擋板63上，壓縮彈簧64的第二端設(shè)置在安裝座62上，以通過壓縮彈簧

64使第二驅(qū)動部件61沿豎直方向可移動地設(shè)置。

[0048] 第二驅(qū)動組件60還包括：導(dǎo)向柱65，導(dǎo)向柱65的第一端與止擋板63固定連接，導(dǎo)向柱65的第二端與安裝座62連接，安裝座62上設(shè)置有導(dǎo)向孔，導(dǎo)向柱65的至少部分插入導(dǎo)向

孔內(nèi)，壓縮彈簧64套設(shè)在導(dǎo)向柱65的外側(cè)。這樣設(shè)置以通過導(dǎo)向柱65對壓縮彈簧64進行導(dǎo)

向。

[0049] 在本發(fā)明提供的實施例中，混凝土地面抹平裝置還包括：第三驅(qū)動組件70，第三驅(qū)動組件70與導(dǎo)向機構(gòu)30驅(qū)動連接，以在導(dǎo)向機構(gòu)30與圍成混凝土地面的障礙物接觸的同

時，通過第三驅(qū)動組件70驅(qū)動導(dǎo)向機構(gòu)30繞機體10轉(zhuǎn)動，以使導(dǎo)向機構(gòu)30對機體10進行導(dǎo)

向。

[0050] 在具體實施的過程中，導(dǎo)向機構(gòu)30包括：同步帶32，同步帶32環(huán)繞機體10設(shè)置，同步帶32與機體10連接；凸起塊31，凸起塊31設(shè)置在同步帶32靠近障礙物的一側(cè)，凸起塊31為

多個，多個凸起塊31沿同步帶32的延伸方向相間隔地設(shè)置。利用同步帶32上設(shè)置的凸起塊

31，增大同步帶32與障礙物之間的摩擦力，以進一步地穩(wěn)定導(dǎo)向機構(gòu)對機體的導(dǎo)向作用。

[0051] 具體地，第三驅(qū)動組件70包括：第一同步帶輪71和第二同步帶輪72，第一同步帶輪71和第二同步帶輪72均安裝在機體10上，同步帶32套設(shè)在第一同步帶輪71和第二同步帶輪

72上。這樣設(shè)置使第一同步帶輪71與第二同步帶輪72相互配合，以驅(qū)動同步帶轉(zhuǎn)動。

[0052] 第三驅(qū)動組件70包括：驅(qū)動齒輪73，第一同步帶輪71套設(shè)在驅(qū)動齒輪73的外側(cè)；主動齒輪74，主動齒輪74套設(shè)在驅(qū)動軸的驅(qū)動端，主動齒輪74與驅(qū)動齒輪73相互嚙合，以使主

動齒輪74帶動驅(qū)動齒輪73轉(zhuǎn)動，以通過驅(qū)動齒輪73帶動第一同步帶輪71轉(zhuǎn)動。

[0053] 混凝土地面抹平裝置還包括：激光測量儀，激光測量儀安裝在機體10上，以在機體10移動的過程中，測量地面與機體10之間的距離，以測得地面的平整度。

[0054] 在本發(fā)明提供的實施例中，混凝土地面抹平裝置還包括：控制組件2，控制組件2的至少部分設(shè)置在機體10上，用于控制機體10移動；支撐件40的一部分設(shè)置在控制組件2的第

一側(cè)，以支撐導(dǎo)向機構(gòu)30的第一部分，支撐件40的另一部分設(shè)置在控制組件2的另一側(cè)，以

支撐導(dǎo)向機構(gòu)30的另一部分。

[0055] 在本發(fā)明中的障礙物1以鋼筋組件為例，在導(dǎo)向機構(gòu)30環(huán)繞機體10轉(zhuǎn)動地過程中，多個凸起塊31中的至少一個伸入至鋼筋組架的縫隙中，以與鋼筋組架中的鋼筋進行止擋，

以帶動機體10沿地面的邊緣移動，以對地面的邊緣進行抹平，利用本發(fā)明提供的混凝土地

面抹平裝置，能夠抹平混凝土地面的邊緣地區(qū)，避免出現(xiàn)抹平死角，同時利用凸起塊31與鋼

筋之間的相互止擋帶動機體10移動，

[0056] 從以上的描述中，可以看出，本發(fā)明上述的實施例實現(xiàn)了如下技術(shù)效果：[0057] 根據(jù)本發(fā)明提供的混凝土地面抹平裝置，包括：機體10、至少兩個抹盤機構(gòu)20、導(dǎo)向機構(gòu)30和支撐件40，抹盤機構(gòu)20設(shè)置在機體10的下方，其中，抹盤機構(gòu)20可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，

以在抹盤機構(gòu)20的抹平平面與混凝土地面接觸時，驅(qū)動機體10在混凝土地面移動，同時通

過抹平平面對混凝土地面進行打磨；導(dǎo)向機構(gòu)30環(huán)繞機體10的外側(cè)設(shè)置并可繞機體10進行

轉(zhuǎn)動，導(dǎo)向機構(gòu)30的至少一部分在混凝土地面的正投影超出機體10和抹盤機構(gòu)20在混凝土

地面的正投影，以使導(dǎo)向機構(gòu)30優(yōu)先于機體10和抹盤機構(gòu)20接觸障礙物，以實現(xiàn)混凝土地

面抹平裝置的導(dǎo)向；支撐件40設(shè)置在機體10上，支撐件40位于導(dǎo)向機構(gòu)30的內(nèi)側(cè)并與導(dǎo)向

機構(gòu)30接觸，以通過支撐件40支撐導(dǎo)向機構(gòu)30，以抵消導(dǎo)向機構(gòu)30與障礙物1接觸時所受到

的部分擠壓力。利用本發(fā)明提供的混凝土地面抹平裝置，能夠抹平混凝土地面的邊緣地區(qū)，

避免出現(xiàn)抹平死角，同時利用導(dǎo)向機構(gòu)30與圍成混凝土地面的障礙物1之間的相互貼合以

帶動機體10移動，還能夠保證機體10運行軌跡的穩(wěn)定性，對機體進行導(dǎo)向，使機體帶動多個

抹盤機構(gòu)沿混凝土地面的邊緣移動，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的混凝土地面抹平不均勻的問題。

[0058] 以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、

等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。