權(quán)利要求書: 1.一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),其特征在于,包括水平設(shè)置的基臺(tái)、兩個(gè)相對(duì)且間隔設(shè)置在基臺(tái)上表面的立柱、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件和兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架;
所述安裝架下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧,兩個(gè)所述壓縮彈簧位于形頂靠件的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;
兩個(gè)立柱的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,所述驅(qū)動(dòng)組件包括兩個(gè)分別設(shè)于立柱的相對(duì)面上且可沿所述相對(duì)面移動(dòng)的滑塊和共同作用于兩個(gè)滑塊且控制滑塊移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件,所述形頂靠件位于兩個(gè)滑塊的對(duì)稱軸上且所述壓縮彈簧對(duì)應(yīng)滑塊的上端面設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述滑塊的上端面設(shè)有容納槽,兩個(gè)所述滑塊的上端面的容納槽共同形成用于放置待彎曲試樣的容納空間,所述壓縮彈簧位于容納空間的正上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述立柱的相對(duì)面上設(shè)有突出邊沿,所述滑塊與相對(duì)面接觸的側(cè)面上設(shè)有與所述突出邊沿相適配的凹槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)件包括螺桿和限位塊;兩個(gè)滑塊相對(duì)面上設(shè)有限位槽,所述限位塊嵌設(shè)于兩個(gè)限位槽內(nèi)且所述螺桿一端與限位塊固定連接,所述螺桿另一端與外部的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),其特征在于,所述基臺(tái)位于兩個(gè)立柱之間的位置設(shè)有供螺桿穿過(guò)的通孔,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)置于所述基臺(tái)的下方。
說(shuō)明書: 一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及腐蝕試驗(yàn)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)。背景技術(shù)[0002] 現(xiàn)有的腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),正如申請(qǐng)?zhí)枮?01920175512.X,名稱為一種晶間腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)專用彎曲機(jī)的中國(guó)實(shí)用新型專利,其在使用過(guò)程中,先將試樣放置于工作臺(tái)上,通過(guò)調(diào)節(jié)工作臺(tái)與壓頭之間的間距,如將工作臺(tái)上行,逐漸靠近壓頭,實(shí)現(xiàn)對(duì)試樣進(jìn)行彎曲處理。然而,當(dāng)工作臺(tái)上行過(guò)程中,試樣是自由放置于工作臺(tái)上的,因而容易受工作臺(tái)上行振動(dòng)影響或工作臺(tái)非絕對(duì)水平等因素而導(dǎo)致試樣發(fā)生偏移,以致于當(dāng)試樣與壓頭(如下文中的形頂靠件)接觸時(shí),接觸點(diǎn)并非是指定的彎曲處,進(jìn)而影響彎曲效果。實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),能夠減少試樣在靠近形頂靠件過(guò)程中的偏移量。[0004] 為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:[0005] 一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),包括水平設(shè)置的基臺(tái)、兩個(gè)相對(duì)且間隔設(shè)置在基臺(tái)上表面的立柱、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件和兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架;[0006] 所述安裝架下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧,兩個(gè)所述壓縮彈簧位于形頂靠件的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;[0007] 兩個(gè)立柱的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,所述驅(qū)動(dòng)組件包括兩個(gè)分別設(shè)于立柱的相對(duì)面上且可沿所述相對(duì)面移動(dòng)的滑塊和共同作用于兩個(gè)滑塊且控制滑塊移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件,所述形頂靠件位于兩個(gè)滑塊的對(duì)稱軸上且所述壓縮彈簧對(duì)應(yīng)滑塊的上端面設(shè)置。[0008] 進(jìn)一步的,所述滑塊的上端面設(shè)有容納槽,兩個(gè)所述滑塊的上端面的容納槽共同形成用于放置待彎曲試樣的容納空間,所述壓縮彈簧位于容納空間的正上方。[0009] 進(jìn)一步的,所述立柱的相對(duì)面上設(shè)有突出邊沿,所述滑塊與相對(duì)面接觸的側(cè)面上設(shè)有與所述突出邊沿相適配的凹槽。[0010] 進(jìn)一步的,所述驅(qū)動(dòng)件包括螺桿和限位塊;兩個(gè)滑塊相對(duì)面上設(shè)有限位槽,所述限位塊嵌設(shè)于兩個(gè)限位槽內(nèi)且所述螺桿一端與限位塊固定連接,所述螺桿另一端與外部的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)連接。[0011] 進(jìn)一步的,所述基臺(tái)位于兩個(gè)立柱之間的位置設(shè)有供螺桿穿過(guò)的通孔,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)置于所述基臺(tái)的下方。[0012] 本實(shí)用新型的有益效果在于:[0013] 本實(shí)用新型提供的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),通過(guò)在基臺(tái)上表面設(shè)置立柱、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件、設(shè)于所述立柱頂部的形頂靠件和兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架;所述安裝架下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧,兩個(gè)所述壓縮彈簧位于形頂靠件的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;當(dāng)待彎曲試驗(yàn)的鋼片置于兩個(gè)滑塊的頂端面上時(shí),控制驅(qū)動(dòng)件向上移動(dòng)帶動(dòng)滑塊也向上移動(dòng),壓縮彈簧的下端面會(huì)優(yōu)先接觸鋼片,起到限制鋼片發(fā)生偏移的作用,從而能夠減少試樣在靠近形頂靠件過(guò)程中的偏移量,接著鋼片繼續(xù)與形頂靠件底部接觸后滑塊繼續(xù)移動(dòng),鋼片逐漸彎曲,由于兩個(gè)立柱的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,因此在滑塊向上移動(dòng)過(guò)程中,兩個(gè)滑塊之間的間隙逐漸增大,留出供鋼片形變的空間,進(jìn)而完成鋼片的彎曲試驗(yàn)。附圖說(shuō)明[0014] 圖1所示為本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖;[0015] 圖2所示為本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)的結(jié)構(gòu)分解示意圖;[0016] 圖3所示為本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)的正視圖;[0017] 圖4所示為圖3的結(jié)構(gòu)分解示意圖;[0018] 圖5所示為本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)的俯視圖;[0019] 標(biāo)號(hào)說(shuō)明:[0020] 1、基臺(tái);11、通孔;[0021] 2、立柱;21、突出邊沿;[0022] 3、安裝架;31、形頂靠件;32、壓縮彈簧;[0023] 4、滑塊;41、限位槽;42、容納槽;43、凹槽;[0024] 5、螺桿;6、限位塊。具體實(shí)施方式[0025] 為詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、所實(shí)現(xiàn)目的及效果,以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖予以說(shuō)明。[0026] 請(qǐng)參照?qǐng)D1至圖5所示,本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),包括水平設(shè)置的基臺(tái)、兩個(gè)相對(duì)且間隔設(shè)置在基臺(tái)上表面的立柱、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件和兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架;[0027] 所述安裝架下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧,兩個(gè)所述壓縮彈簧位于形頂靠件的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;[0028] 兩個(gè)立柱的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,所述驅(qū)動(dòng)組件包括兩個(gè)分別設(shè)于立柱的相對(duì)面上且可沿所述相對(duì)面移動(dòng)的滑塊和共同作用于兩個(gè)滑塊且控制滑塊移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件,所述形頂靠件位于兩個(gè)滑塊的對(duì)稱軸上且所述壓縮彈簧對(duì)應(yīng)滑塊的上端面設(shè)置。[0029] 從上述描述可知,本實(shí)用新型的有益效果在于:[0030] 本實(shí)用新型提供的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),通過(guò)在基臺(tái)上表面設(shè)置立柱、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件、設(shè)于所述立柱頂部的形頂靠件和兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架;所述安裝架下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧,兩個(gè)所述壓縮彈簧位于形頂靠件的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;當(dāng)待彎曲試驗(yàn)的鋼片置于兩個(gè)滑塊的頂端面上時(shí),控制驅(qū)動(dòng)件向上移動(dòng)帶動(dòng)滑塊也向上移動(dòng),壓縮彈簧的下端面會(huì)優(yōu)先接觸鋼片,起到限制鋼片發(fā)生偏移的作用,從而能夠減少試樣在靠近形頂靠件過(guò)程中的偏移量,接著鋼片繼續(xù)與形頂靠件底部接觸后滑塊繼續(xù)移動(dòng),鋼片逐漸彎曲,由于兩個(gè)立柱的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,因此在滑塊向上移動(dòng)過(guò)程中,兩個(gè)滑塊之間的間隙逐漸增大,留出供鋼片形變的空間,進(jìn)而完成鋼片的彎曲試驗(yàn)。[0031] 進(jìn)一步的,所述滑塊的上端面設(shè)有容納槽,兩個(gè)所述滑塊的上端面的容納槽共同形成用于放置待彎曲試樣的容納空間,所述壓縮彈簧位于容納空間的正上方。[0032] 從上述描述可知,試驗(yàn)時(shí),將待彎曲試樣放置于容納空間內(nèi),可盡可能限制其在水平面上的偏移,加上壓縮彈簧在豎直面上的限制,進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)能夠減少試樣在靠近形頂靠件過(guò)程中的偏移量。[0033] 進(jìn)一步的,所述立柱的相對(duì)面上設(shè)有突出邊沿,所述滑塊與相對(duì)面接觸的側(cè)面上設(shè)有與所述突出邊沿相適配的凹槽。[0034] 從上述描述可知,通過(guò)上述結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)滑塊能夠沿立柱的側(cè)面移動(dòng)。[0035] 進(jìn)一步的,所述驅(qū)動(dòng)件包括螺桿和限位塊;兩個(gè)滑塊相對(duì)面上設(shè)有限位槽,所述限位塊嵌設(shè)于兩個(gè)限位槽內(nèi)且所述螺桿一端與限位塊固定連接,所述螺桿另一端與外部的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)連接。[0036] 從上述描述可知,通過(guò)上述結(jié)構(gòu),限位塊與兩個(gè)限位槽相互配合,并通過(guò)螺桿與限位塊連接,實(shí)現(xiàn)控制滑塊的移動(dòng)。[0037] 進(jìn)一步的,所述基臺(tái)位于兩個(gè)立柱之間的位置設(shè)有供螺桿穿過(guò)的通孔,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)置于所述基臺(tái)的下方。[0038] 從上述描述可知,通過(guò)上述結(jié)構(gòu),驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為螺桿提供驅(qū)動(dòng)力。[0039] 請(qǐng)參照?qǐng)D1至圖5所示,本實(shí)用新型的實(shí)施例一為:[0040] 本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī),包括水平設(shè)置的基臺(tái)1、兩個(gè)相對(duì)且間隔設(shè)置在基臺(tái)上表面的立柱2、設(shè)于所述立柱上的驅(qū)動(dòng)組件、兩端分別與兩個(gè)立柱的頂端固定連接的安裝架3和置于所述基臺(tái)的下方的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu);[0041] 所述驅(qū)動(dòng)組件包括兩個(gè)分別設(shè)于立柱的相對(duì)面上且可沿所述相對(duì)面移動(dòng)的滑塊4和共同作用于兩個(gè)滑塊且控制滑塊移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件,所述驅(qū)動(dòng)件包括螺桿5和限位塊6;兩個(gè)滑塊4相對(duì)面上均設(shè)有限位槽41,所述限位塊6嵌設(shè)于兩個(gè)限位槽41內(nèi)且所述螺桿一端與限位塊6固定連接,所述基臺(tái)1位于兩個(gè)立柱之間的位置設(shè)有供螺桿5穿過(guò)的通孔11;所述螺桿5另一端穿過(guò)所述通孔11與外部的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)連接。限位塊與兩個(gè)限位槽相互配合,并通過(guò)螺桿與限位塊連接,實(shí)現(xiàn)控制滑塊的移動(dòng)。
[0042] 所述安裝架3下表面的中間位置設(shè)有形頂靠件31;所述安裝架下表面還設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的壓縮彈簧32,兩個(gè)所述壓縮彈簧32位于形頂靠件31的兩側(cè)且以形頂靠件為對(duì)稱軸對(duì)稱分布,所述壓縮彈簧32在自由狀態(tài)下其下端面的水平高度低于所述形頂靠件的最低端的水平高度;兩個(gè)所述壓縮彈簧的水平間距根據(jù)待彎曲試樣的長(zhǎng)度設(shè)置,只要滿足能夠接觸試樣兩端部即可。[0043] 兩個(gè)立柱2的相對(duì)面呈傾斜設(shè)置且兩個(gè)立柱的延長(zhǎng)線共同形成形狀,所述形頂靠件位于兩個(gè)滑塊的對(duì)稱軸上且所述壓縮彈簧對(duì)應(yīng)滑塊的上端面設(shè)置。[0044] 所述滑塊4的上端面設(shè)有容納槽42,兩個(gè)所述滑塊的上端面的容納槽共同形成用于放置待彎曲試樣的容納空間,所述壓縮彈簧位于容納空間的正上方。[0045] 所述立柱2的相對(duì)面的兩側(cè)邊位置上分別設(shè)有突出邊沿21,所述滑塊4與相對(duì)面接觸的側(cè)面上設(shè)有與所述突出邊沿相適配的凹槽43,從而可以限制滑塊的移動(dòng)軌跡,實(shí)現(xiàn)滑塊能夠沿立柱的側(cè)面移動(dòng)。[0046] 本實(shí)用新型的一種腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)的工作原理為:[0047] 試驗(yàn)時(shí),首先將待彎曲試樣(鋼片)水平放置于容納空間內(nèi);接著啟動(dòng)上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)螺桿豎直向上移動(dòng),螺桿同步帶動(dòng)限位塊移動(dòng),由于限位塊與兩個(gè)滑塊上的限位槽配合,即帶動(dòng)滑塊向上移動(dòng),由于滑塊上的凹槽與立柱上的突出邊沿相配合,因而滑塊則會(huì)沿著立柱側(cè)面向上移動(dòng),再移動(dòng)過(guò)程中,兩個(gè)滑塊之間的間距會(huì)逐漸增大,留出供鋼片形變的空間。位于容納空間內(nèi)的待彎曲試樣(鋼片)會(huì)先接觸到壓縮彈簧的下端面,可使待彎曲試樣(鋼片)被壓制在容納空間內(nèi),起到限制鋼片發(fā)生偏移的作用,從而能夠減少試樣在靠近形頂靠件過(guò)程中的偏移量,壓縮彈簧在壓縮過(guò)程中,待彎曲試樣(鋼片)接觸形頂靠件下端面,在繼續(xù)移動(dòng)過(guò)程中,使待彎曲試樣(鋼片)進(jìn)行彎曲操作,進(jìn)而完成鋼片的彎曲試驗(yàn)。最后,驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)反向操作,即可使設(shè)備恢復(fù)初始狀態(tài)。[0048] 以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等同變換,或直接或間接運(yùn)用在相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
聲明:
“腐蝕試樣彎曲試驗(yàn)機(jī)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)