權(quán)利要求書：

 1.一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，其特征在于，包括：動磨盤和靜磨盤；所述動磨盤為圓盤形結(jié)構(gòu)；所述靜磨盤為圓形空心結(jié)構(gòu)；所述動磨盤和靜磨盤的直徑相同；所述動磨盤與靜磨盤之間的磨盤間隙為0.5～1mm；所述動磨盤和靜磨盤的研磨面上設(shè)置若干條內(nèi)凹型磨齒；所述動磨盤包括相鄰的圓心區(qū)域和環(huán)形的研磨區(qū)域；所述研磨區(qū)域分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)、中研磨區(qū)、外研磨區(qū)和平面區(qū)；所述靜磨盤的研磨面分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)、中研磨區(qū)、外研磨區(qū)和平面區(qū)；所述動磨盤和靜磨盤的磨齒分為具有不同長度及深度的長磨齒、中磨齒和短磨齒，在研磨面上均勻交錯(cuò)分布；所述長磨齒有若干個(gè)，對于任意一條長磨齒，其兩端分別位于內(nèi)研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣；所述中磨齒有若干個(gè)，對于任意一條中磨齒，其兩端分別位于中研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣；所述短磨齒有若干個(gè)，對于任意一條短磨齒，其兩端分別位于外研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣；所述動磨盤磨齒的齒槽中心線與圓心區(qū)域外緣圓弧相切；所述靜磨盤磨齒的齒槽中心線與研磨面內(nèi)緣圓弧相切；所述動磨盤的研磨面傾角為4～8°；所述靜磨盤的研磨面傾角為3～6°；所述動磨盤的研磨面與靜磨盤的研磨區(qū)域形成磨盤內(nèi)腔；所述靜磨盤中央的空心區(qū)域與動磨盤的圓心區(qū)域形成進(jìn)料口；所述動磨盤的圓心區(qū)域的直徑與靜磨盤中央的空心區(qū)域的直徑相同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，其特征在于，所述動磨盤和靜磨盤的直徑均為250mm；所述動磨盤或靜磨盤的內(nèi)研磨區(qū)，位于磨盤直徑65～100mm的工作區(qū)間；所述動磨盤或靜磨盤的中研磨區(qū)，位于磨盤直徑100～170mm的工作區(qū)間；所述動磨盤或靜磨盤的外研磨區(qū)，位于磨盤直徑170～230mm的工作區(qū)間；所述動磨盤或靜磨盤的平面區(qū)，位于磨盤直徑230～250mm的工作區(qū)間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，其特征在于，所述長磨齒在內(nèi)研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為5mm，其深度為均勻的2mm；所述長磨齒在中研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；所述長磨齒在外研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；所述中磨齒在中研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；所述中磨齒在外研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；所述短磨齒寬度為3mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，其特征在于，所述中磨齒的數(shù)量為長磨齒的2倍；所述短磨齒的數(shù)量與中磨齒相同。

說明書： 一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明屬于粉體研磨技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤。背景技術(shù)[0002] 磨盤，也稱為磨片，是旋轉(zhuǎn)工作的摩擦元件，在金屬研磨、造紙制漿、日常生活的粉料研磨等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。磨盤磨齒的齒形結(jié)構(gòu)與磨片的使用壽命、物料被研磨時(shí)的運(yùn)動狀態(tài)、料粉研磨所需時(shí)間、原料間進(jìn)行能量傳遞的方式都密切相關(guān)，而且對料粉制備過程中的物料質(zhì)量、產(chǎn)量及設(shè)備能耗也有很大影響。通過實(shí)踐研究表明，合理的磨盤結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可以大幅提高出料細(xì)度均勻性，降低磨粉機(jī)的能耗，并且其使用壽命大大延長，可以節(jié)約大量的資金，有效降低生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容[0003] 針對上述存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，包括：動磨盤和靜磨盤；[0004] 所述動磨盤為圓盤形結(jié)構(gòu)；所述靜磨盤為圓形空心結(jié)構(gòu)；[0005] 所述動磨盤1與靜磨盤2之間的磨盤間隙為0.5～1mm；[0006] 所述動磨盤和靜磨盤的直徑相同；[0007] 所述動磨盤和靜磨盤的研磨面上設(shè)置若干條內(nèi)凹型磨齒。[0008] 所述動磨盤的研磨面傾角為4～8°；所述靜磨盤的研磨面傾角為3～6°。[0009] 所述動磨盤的研磨面包括相鄰的圓心區(qū)域和環(huán)形的研磨區(qū)域；所述研磨區(qū)域分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)、中研磨區(qū)、外研磨區(qū)和平面區(qū)；[0010] 所述靜磨盤的研磨面分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)、中研磨區(qū)、外研磨區(qū)和平面區(qū)。

[0011] 所述動磨盤和靜磨盤的直徑均為250mm；[0012] 所述動磨盤或靜磨盤的內(nèi)研磨區(qū)，位于磨盤直徑65～100mm的工作區(qū)間；[0013] 所述動磨盤或靜磨盤的中研磨區(qū)，位于磨盤直徑100～170mm的工作區(qū)間；[0014] 所述動磨盤或靜磨盤的外研磨區(qū)，位于磨盤直徑170～230mm的工作區(qū)間；[0015] 所述動磨盤或靜磨盤的平面區(qū)，位于磨盤直徑230～250mm的工作區(qū)間。[0016] 所述動磨盤的研磨面與靜磨盤的研磨區(qū)域形成磨盤內(nèi)腔；所述靜磨盤中央的空心區(qū)域與動磨盤的圓心區(qū)域形成進(jìn)料口；所述動磨盤的圓心區(qū)域的直徑與靜磨盤中央的空心區(qū)域的直徑相同。

[0017] 所述動磨盤和靜磨盤的磨齒分為具有不同長度及深度的長磨齒、中磨齒和短磨齒，在研磨面上均勻交錯(cuò)分布。

[0018] 所述長磨齒有若干個(gè)，對于任意一條長磨齒，其兩端分別位于內(nèi)研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣；[0019] 所述長磨齒在內(nèi)研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為5mm，其深度為均勻的2mm；[0020] 所述長磨齒在中研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；[0021] 所述長磨齒在外研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；[0022] 所述中磨齒有若干個(gè)，對于任意一條中磨齒，其兩端分別位于中研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣；[0023] 所述中磨齒在中研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；[0024] 所述中磨齒在外研磨區(qū)內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；[0025] 所述短磨齒有若干個(gè)，對于任意一條短磨齒，其兩端分別位于外研磨區(qū)內(nèi)緣和外研磨區(qū)的外緣，其寬度為3mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm。

[0026] 所述中磨齒的數(shù)量為長磨齒的2倍；所述短磨齒的數(shù)量與中磨齒相同。[0027] 本發(fā)明的有益效果：[0028] 本發(fā)明提出一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，有助于提高物料粉碎質(zhì)量，即通過設(shè)計(jì)磨齒的幾何形狀和排列方式，提高磨粉機(jī)的出料細(xì)度及出料均勻性，降低磨粉機(jī)的能耗。

[0029] 本發(fā)明與普通磨盤在相同能耗下，料粉出產(chǎn)效率更高，料粉細(xì)度均勻性更好。[0030] 本發(fā)明設(shè)計(jì)合理，易于實(shí)現(xiàn)，具有很好的實(shí)用價(jià)值。附圖說明[0031] 圖1為本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖；[0032] 圖2為本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述動磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖；[0033] 圖3為本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述物料粉末細(xì)度的分布密度占比情況統(tǒng)計(jì)圖。[0034] 圖中：1、動磨盤；2、靜磨盤；3、進(jìn)料口；4、磨盤內(nèi)腔；5、內(nèi)研磨區(qū)；6、中研磨區(qū)；7、外研磨區(qū)；8、平面區(qū)。

具體實(shí)施方式[0035] 為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施實(shí)例，對本發(fā)明做出進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

[0036] 本發(fā)明提供一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，如圖1所示，包括動磨盤1和靜磨盤2；[0037] 所述動磨盤1為圓盤形結(jié)構(gòu)；[0038] 所述動磨盤1的研磨面包括相鄰的圓心區(qū)域和環(huán)形的研磨區(qū)域；所述研磨區(qū)域分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)5、中研磨區(qū)6、外研磨區(qū)7和平面區(qū)8；[0039] 所述動磨盤1的研磨面傾角為4～8°；[0040] 所述靜磨盤2如圖2所示，為空心圓環(huán)形結(jié)構(gòu)；[0041] 所述靜磨盤2的研磨面分為依次相鄰的4個(gè)圓環(huán)區(qū)域，從研磨面內(nèi)緣至外緣依次為內(nèi)研磨區(qū)5、中研磨區(qū)6、外研磨區(qū)7和平面區(qū)8；[0042] 所述靜磨盤2的研磨面傾角為3～6°；[0043] 所述動磨盤1和靜磨盤2的直徑相同；所述動磨盤1的研磨區(qū)域與靜磨盤2的研磨面形成磨盤內(nèi)腔4；所述靜磨盤2中央的空心區(qū)域與動磨盤1的圓心區(qū)域形成進(jìn)料口3；所述靜磨盤2中央的空心區(qū)域與動磨盤1的圓心區(qū)域的直徑相同；[0044] 所述動磨盤1和靜磨盤2的直徑均為250mm；[0045] 所述動磨盤1或靜磨盤2的內(nèi)研磨區(qū)5，位于磨盤直徑65～100mm的工作區(qū)間；[0046] 所述動磨盤1或靜磨盤2的中研磨區(qū)6，位于磨盤直徑100～170mm的工作區(qū)間；[0047] 所述動磨盤1或靜磨盤2的外研磨區(qū)7，位于磨盤直徑170～230mm的工作區(qū)間；[0048] 所述動磨盤1或靜磨盤2的平面區(qū)8，位于磨盤直徑230～250mm的工作區(qū)間；[0049] 所述動磨盤1與靜磨盤2之間的磨盤間隙為0.5～1mm；[0050] 所述動磨盤1和靜磨盤2的研磨面上設(shè)置若干條內(nèi)凹型磨齒；[0051] 所述動磨盤1磨齒的齒槽中心線與磨盤內(nèi)緣圓弧相切；所述靜磨盤2磨齒的齒槽中心線與圓心區(qū)域外緣圓弧相切，使齒刃方向與原料進(jìn)入磨盤內(nèi)腔4時(shí)的運(yùn)動方向接近，有利于加快物料的進(jìn)料速度，減小磨盤工作阻力，降低磨粉機(jī)主軸負(fù)荷；[0052] 所述動磨盤1和靜磨盤2磨齒方向與研磨過程中物料的運(yùn)動方向相同，有利于物料在磨盤工作表面的均勻擴(kuò)散及料粉的排出，避免物料聚集在磨盤內(nèi)腔4，從而提高生產(chǎn)效率；[0053] 所述動磨盤1和靜磨盤2的磨齒分為具有不同長度及深度的長磨齒、中磨齒和短磨齒，在研磨面上均勻交錯(cuò)分布；[0054] 所述長磨齒有若干個(gè)，對于任意一條長磨齒，其兩端分別位于內(nèi)研磨區(qū)5內(nèi)緣和外研磨區(qū)7的外緣；[0055] 所述長磨齒在內(nèi)研磨區(qū)5內(nèi)的部分，其寬度為5mm，其深度為均勻的2mm；[0056] 所述長磨齒在中研磨區(qū)6內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；[0057] 所述長磨齒在外研磨區(qū)7內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；

[0058] 所述中磨齒有若干個(gè)，對于任意一條中磨齒，其兩端分別位于中研磨區(qū)6內(nèi)緣和外研磨區(qū)7的外緣；

[0059] 所述中磨齒在中研磨區(qū)6內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度為均勻的2mm；[0060] 所述中磨齒在外研磨區(qū)7內(nèi)的部分，其寬度為4mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；

[0061] 所述短磨齒有若干個(gè)，對于任意一條短磨齒，其兩端分別位于外研磨區(qū)7內(nèi)緣和外研磨區(qū)7的外緣，其寬度為3mm，其深度由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm；

[0062] 所述長磨齒、中磨齒和短磨齒的寬度設(shè)定，有利于獲得細(xì)度較小的料粉，提高磨粉機(jī)粉碎物料的效率；其深度設(shè)定，有利于料粉送出磨盤，降低了物料填塞齒槽造成料粉細(xì)度不均勻、生產(chǎn)率較低的可能性；

[0063] 所述中磨齒的數(shù)量為長磨齒的2倍；所述短磨齒的數(shù)量與中磨齒相同；[0064] 一種立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤的操作方法，采用所述立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，包括以下內(nèi)容：

[0065] 物料由進(jìn)料口3勻速的送入磨盤內(nèi)腔4，設(shè)置動磨盤1與靜磨盤2之間的磨盤間隙，開始研磨，靜磨盤2靜止，動磨盤1旋轉(zhuǎn)；物料在磨盤內(nèi)腔4，依次流經(jīng)內(nèi)動磨盤和靜磨盤的內(nèi)研磨區(qū)5、中研磨區(qū)6和外研磨區(qū)7，物料受到動磨盤1與靜磨盤2的壓力和摩擦力而破碎；

[0066] 本實(shí)施例中，所述物料為大米，其平均顆粒大小為6.5mm；[0067] 在內(nèi)研磨區(qū)5內(nèi)，物料所在齒槽寬度為5mm，深度為2mm，因受到離心力和摩擦力的作用，物料沿內(nèi)研磨區(qū)5內(nèi)緣圓弧切線方向，即齒槽中心線方向轉(zhuǎn)移到中研磨區(qū)6；

[0068] 在中研磨區(qū)6內(nèi)，物料所在齒槽寬度為4mm，深度為2mm，物料得到了充分的研磨，緊接著，物料進(jìn)一步轉(zhuǎn)移到外研磨區(qū)7；

[0069] 在外研磨區(qū)7內(nèi)，物料所在齒槽寬度為3mm或4mm，由內(nèi)向外從2mm漸變?yōu)?mm，物料被進(jìn)一步精細(xì)粉碎；研磨結(jié)束，收集物料粉末；所述物料粉末為0.5～500um的超細(xì)粉末。

[0070] 采用所述立式雙盤磨粉機(jī)的超細(xì)研磨盤，磨盤間隙為0.6～0.8mm時(shí)其物料粉末細(xì)度的分布密度占比情況如圖3所示。