一種電沉積制備ZIF?8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用,本發(fā)明涉及一種電沉積制備ZIF?8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用。本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有制備方法存在的厚度不均、缺陷難以控制的問(wèn)題。由基底膜和ZIF?8分離層構(gòu)成;分離層是一層致密、厚度均勻的ZIF?8晶體分離層膜孔小且均勻,膜層厚度均勻且薄,對(duì)于水中的小分子污染物分離能力較強(qiáng)。方法:基底膜濺射貴金屬導(dǎo)電后,將基底膜與石墨紙分別作為工作電極和對(duì)電極浸入盛有前驅(qū)液的電解池中以基底膜作為陰極,在常溫常壓下通過(guò)一步電沉積法合成。本發(fā)明所制備的復(fù)合膜對(duì)較小的染料分子表現(xiàn)出優(yōu)異的截留性能,通量較傳統(tǒng)方法制備的MOFs復(fù)合膜更大。本發(fā)明用于染料廢水截留。
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