本實(shí)用新型公開了一種晶圓清洗拋光裝置,包括:清洗拋光機(jī)構(gòu),所述清洗拋光機(jī)構(gòu)外壁上設(shè)置有與其外徑相匹配的擋水圈,且清洗拋光機(jī)構(gòu)頂端固定連接有同軸線的隔圈件,并且隔圈件的內(nèi)壁上水平固定連接有濾網(wǎng),所述隔圈件的外壁上固定連接有同軸線的承載盤,所述擋水圈外壁的一側(cè)連通有出氣管,且出氣管的出氣端連通有風(fēng)機(jī)。該晶圓清洗拋光裝置通過風(fēng)機(jī)可通過出氣管將隔圈件內(nèi)的水分進(jìn)行抽取,然后水分在重力的作用下可進(jìn)入到清洗拋光機(jī)構(gòu)下端的收集器內(nèi)進(jìn)行收集,這樣撐架就可快速風(fēng)干,接著通過水泵可將廢水集中輸送到承載盤內(nèi),然后可通過廢水初步對(duì)承載盤進(jìn)行清理,這樣可使廢水得到再次利用。
聲明:
“晶圓清洗拋光裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)