本發(fā)明公開了一種兩段式等離子體氣化熔融爐處理含有機(jī)固體廢棄物裝置,裝置包括1氣化室、2熔融室、3安裝底座、4尾渣水淬箱,所述裂解位于熔融爐上方,氣化室自內(nèi)而外依次設(shè)有釋電腔室、磁力匯聚室、水冷通道;熔融爐置于安裝底座上,熔融爐上設(shè)有安裝位,等離子體炬安裝于所述安裝位上,等離子體炬電極伸入熔融爐內(nèi);熔融室底部設(shè)有熔渣出口,側(cè)面設(shè)有高溫尾氣口;通過(guò)上述優(yōu)化設(shè)計(jì)的兩段式氣化熔融爐處理含有機(jī)固體廢棄物裝置,有機(jī)物在上部氣化室內(nèi)可充分氣化,提高效率20%以上,無(wú)機(jī)物落入下方熔融爐,進(jìn)行等離子體高溫熔融處理,形成玻璃體產(chǎn)物。
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“兩段式氣化熔融爐處理含有機(jī)固體廢棄物裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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