本發(fā)明公開了一種單晶硅外延片生產(chǎn)用廢氣處理系統(tǒng),包括儲氣罐、吸附池、燃燒室、暫存罐和分離罐,儲氣罐的側(cè)壁上連接有排廢管和排氣管,排氣管上連接有曝氣管,且曝氣管置于吸附池內(nèi),吸附池內(nèi)裝有用于吸附氨氣的溶液,吸附池連接有氨氣提純裝置,吸附池上設(shè)有燃燒室,儲氣罐安裝有與燃燒室連通的液體過濾裝置,吸附池內(nèi)還設(shè)有伸入燃燒室的氫氣傳送管,燃燒室一側(cè)依次連接有暫存罐和分離罐,分離罐內(nèi)設(shè)有
過濾機(jī)構(gòu)。本發(fā)明可提高氨氣回收的純度,通過燃燒室可燃燒多余的氫氣,利用氫氣提高燃燒室的溫度,同時利用高溫燃燒三甲基鎵,使三甲基鎵燃燒,然后對燃燒后的氣體進(jìn)行處理,以防止三甲基鎵直接排放造成的危害。
聲明:
“單晶硅外延片生產(chǎn)用廢氣處理系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)