本發(fā)明公開了一種光刻膠返工去膠刷片機(jī),包括機(jī)箱與位于所述機(jī)箱上的第一清洗組件;所述機(jī)箱上設(shè)置有料倉與移料組件,所述第一清洗組件包括容納盒體、位于所述容納盒體上方開口位置處的噴淋桿以及位于所述容納盒體內(nèi)的載料臺,所述噴淋桿上設(shè)有噴淋口,所述載料臺上設(shè)置有吸盤。本發(fā)明在機(jī)箱、第一清洗組件、料倉以及移料組件的配合作用下,實(shí)現(xiàn)了對藍(lán)寶石晶片的快速清洗,大大減少了丙酮溶液的消耗,并且無需采用濃硫酸對晶片作進(jìn)一步處理,減少了成本的消耗,減少了?;窂U液的產(chǎn)生,更為環(huán)保,同時還能夠保證晶片清洗后的品質(zhì)穩(wěn)定性。
聲明:
“一種光刻膠返工去膠刷片機(jī)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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