本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射用端頭性能檢測(cè)裝置,包括機(jī)體和氦氣
檢測(cè)儀,所述機(jī)體上側(cè)的左方安裝有檢測(cè)腔體,所述檢測(cè)腔體的上側(cè)安裝有待測(cè)端頭,所述待測(cè)端頭內(nèi)的后側(cè)安裝有伺服馬達(dá),所述機(jī)體前側(cè)的左上方安裝有控制面板,所述機(jī)體前側(cè)的左右兩方分別安裝有一處壓力表,所述機(jī)體前側(cè)的中間安裝有U形壓力計(jì),所述機(jī)體的前側(cè)安裝有閥門;本實(shí)用新型一種磁控濺射用端頭性能檢測(cè)裝置,通過在待檢端頭的右方設(shè)置冷卻水回路、真空回路和冷卻水旁路,利用和閥門、壓力表、U形壓力計(jì)、差分泵、接口、氦氣檢測(cè)儀的配合,可以對(duì)磁控濺射用端頭操作環(huán)境的密封性進(jìn)行全面精準(zhǔn)地檢測(cè),為磁控濺射操作的正常進(jìn)行保駕護(hù)航。
聲明:
“一種磁控濺射用端頭性能檢測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)