本發(fā)明公開了一種高透電磁屏蔽鍍膜玻璃及其生產(chǎn)制備方法,高透電磁屏蔽鍍膜玻璃包括玻璃基體,所述玻璃基體的上表面設(shè)置光學鍍層A,所述玻璃基體的下表面設(shè)置屏蔽層,所述屏蔽層下部設(shè)置光學鍍層B,所述光學鍍層A包括二氧化硅層A、五氧化二鈮層,所述二氧化硅層A設(shè)置于五氧化二鈮層上部;高透電磁屏蔽鍍膜玻璃的生產(chǎn)制備方法,包括如下步驟:基片清洗、基片運輸、抽真空、基片加熱、濺鍍、緩沖退火、卸片、包裝;有效解決電子系統(tǒng)與電子設(shè)備間的電磁干擾,防止電磁信息泄漏,防護電磁輻射污染;有效保障儀器設(shè)備正常工作,保障機密信息的安全,保障工作人員身體健康;并且整體透光性能好,提高可見光波段透射率,提升整體顯示效果。
聲明:
“一種高透電磁屏蔽鍍膜玻璃及其生產(chǎn)制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)