本發(fā)明涉及一種用于成分檢測(cè)的光譜分析系統(tǒng)及光譜分析方法,其中光譜分析系統(tǒng)應(yīng)用于金屬成分分析裝置中,光譜分析設(shè)備包括:降噪處理模塊,用于對(duì)校正金屬樣本的光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行降噪處理,以及對(duì)檢測(cè)金屬樣本的光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行降噪處理;校正建模模塊,用于基于校正金屬樣本的光譜數(shù)據(jù)用化學(xué)計(jì)量學(xué)軟件進(jìn)行建模,得到金屬成分測(cè)定模型;檢測(cè)分析模塊,用于采用金屬成分測(cè)定模型和檢測(cè)金屬樣本的光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行分析;以及通信模塊。采用該種技術(shù),結(jié)合化學(xué)計(jì)量學(xué)和建模建立金屬成分分析的校正模型,有選擇性地提取與分類目標(biāo)有關(guān)的信息并抑制非相關(guān)特征和噪聲的影響,可以有效消除各種非目標(biāo)因素對(duì)光譜造成的影響,實(shí)現(xiàn)光譜分析更好的技術(shù)效果。
聲明:
“用于成分檢測(cè)的光譜分析系統(tǒng)及光譜分析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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