本發(fā)明公開了一種磷化銦切割片化學(xué)拋光液和磷化銦切割片的位錯測定方法,屬于半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)領(lǐng)域。拋光液由磷酸、氫溴酸和雙氧水組成。磷化銦切割片的位錯測定方法,包括以下步驟:(1)配制化學(xué)拋光液,化學(xué)拋光液由磷酸、氫溴酸和雙氧水組成;(2)將磷化銦切割片放入所述拋光液中進(jìn)行化學(xué)拋光腐蝕,化學(xué)拋光腐蝕完畢后取出用水清洗干凈,干燥;(3)配制位錯腐蝕液:位錯腐蝕液由磷酸和氫溴酸組成;(4)將步驟(2)干燥后的切割片放入位錯腐蝕液中腐蝕,腐蝕完成后取出用水清洗,干燥,利用顯微鏡測定位錯密度。本發(fā)明可以快速測量晶體中的位錯密度,操作過程工藝簡單,經(jīng)濟(jì)高效,不受晶體形狀的影響。
聲明:
“磷化銦切割片化學(xué)拋光液及磷化銦切割片的位錯測定方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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