一種用于處理基板的裝置包括：殼體，具有處理基板的處理空間；支撐單元，在處理空間中支撐基板；噴嘴，將化學(xué)物質(zhì)分配到基板上；化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)單元，將化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)到噴嘴；以及控制器，控制化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)單元?；瘜W(xué)物質(zhì)供應(yīng)單元包括：罐，具有儲(chǔ)存化學(xué)物質(zhì)的內(nèi)部空間；傳感器，檢測(cè)儲(chǔ)存在罐中的化學(xué)物質(zhì)的剩余量；入口管線，將化學(xué)物質(zhì)從化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)源供應(yīng)到罐；出口管線，將化學(xué)物質(zhì)從罐供應(yīng)到噴嘴；以及排放管線，排出罐中的化學(xué)物質(zhì)。在化學(xué)物質(zhì)保留在罐中的狀態(tài)下，當(dāng)由傳感器檢測(cè)到的剩余量達(dá)到第一預(yù)設(shè)量或更少時(shí)，控制器控制化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)單元將新的化學(xué)物質(zhì)從化學(xué)物質(zhì)供應(yīng)源供應(yīng)到罐。