本實(shí)用新型涉及一種工藝終點(diǎn)檢測(cè)裝置,與化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)臺(tái)配合使用,其包括:一光發(fā)射模塊以及一光檢測(cè)模塊,其特征在于,化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)臺(tái)的拋光平臺(tái)設(shè)有一上下貫通的窗口,待檢晶圓置于拋光平臺(tái)上并遮蔽窗口,終點(diǎn)檢測(cè)裝置位于拋光平臺(tái)下方并與其分離設(shè)置,光發(fā)射模塊發(fā)出光束自窗口投射至待檢晶圓表面,光檢測(cè)模塊經(jīng)由窗口接收待檢晶圓表面薄膜表面的反射光束,并計(jì)算表面薄膜厚度以確定化學(xué)機(jī)械拋光工藝的終點(diǎn)。其便于拆卸、更換或維護(hù)。
聲明:
“工藝終點(diǎn)檢測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)