本發(fā)明公開了一種原位X?射線吸收譜測量系統(tǒng)及測量方法;測量系統(tǒng)包括:
電化學(xué)工作站、PC機(jī)以及QXAFS電子學(xué)設(shè)備;PC機(jī)分別與電化學(xué)工作站和QXAFS電子學(xué)設(shè)備連接,用于控制電化學(xué)測試和X?射線吸收譜測試同步進(jìn)行;電化學(xué)工作站連接三電極電化學(xué)系統(tǒng),其包括參比電極、對電極和工作電極,所述電極均置于含有電解質(zhì)溶液的電化學(xué)反應(yīng)池內(nèi);工作電極上涂覆有測試樣品;QXAFS電子學(xué)設(shè)備連接有X?射線發(fā)射裝置以及X?射線探測器;X?射線發(fā)射裝置朝向工作電極上的測試樣品發(fā)射X?射線;X?射線探測器用于接收測試樣品被激發(fā)的X?射線熒光信號。通過該系統(tǒng)可以實現(xiàn)樣品在同一條件下的多模式測試,將樣品的結(jié)構(gòu)與性能一一對應(yīng)。
聲明:
“原位X-射線吸收譜測量系統(tǒng)及測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)