本發(fā)明公開了一種間接空冷機組循環(huán)水系統(tǒng)腐蝕控制方法,包含:配制還原劑,所述還原劑包含水合聯(lián)氨和L?抗壞血酸;檢測循環(huán)水系統(tǒng)的PH值;當(dāng)循環(huán)水系統(tǒng)pH≦8.5時,向循環(huán)水加入還原劑:聯(lián)氨10μg/L?20μg/L;抗壞血酸濃度:0μg/L;當(dāng)循環(huán)水系統(tǒng)pH>8.5時,向循環(huán)水加入還原劑:聯(lián)氨30μg/L?40μg/L;抗壞血酸濃度:40μg/L。本發(fā)明通過向循環(huán)水系統(tǒng)系統(tǒng)中加入復(fù)配的還原劑,改變了循環(huán)系統(tǒng)中的
電化學(xué)平衡,降低了循環(huán)系統(tǒng)中的電偶腐蝕速度。
聲明:
“間接空冷機組循環(huán)水系統(tǒng)腐蝕控制方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)