本發(fā)明公開了一種工藝腔室用控溫裝置、控溫方法和工藝腔室。包括第一測溫單元,用于測量測溫窗的當(dāng)前溫度;第二測溫單元,用于測量硅片的當(dāng)前溫度;第一溫度控制單元,用于將測溫窗的當(dāng)前溫度與預(yù)設(shè)的測溫窗目標(biāo)溫度進(jìn)行比較,當(dāng)兩者不一致時,調(diào)整測溫窗的當(dāng)前溫度,以使得兩者一致。能夠有效避免因測溫窗溫度過低出現(xiàn)的反應(yīng)氣體在測溫窗內(nèi)凝結(jié)的現(xiàn)象以及因溫度過高出現(xiàn)的反應(yīng)氣體在測溫窗內(nèi)發(fā)生化學(xué)沉積的現(xiàn)象,提高測量硅片的溫度的準(zhǔn)確性。
聲明:
“工藝腔室用控溫裝置及方法、工藝腔室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)