本發(fā)明公開了一種用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的基底自動恒溫技術(shù),其特征是采用雙熱電偶分別對基底側(cè)面、背面溫度進行測量并校正,由帶負(fù)反饋功能PID調(diào)節(jié)器、后備操作器、電動調(diào)節(jié)閥組成的閉環(huán)控制系統(tǒng)進行精確控溫,并開發(fā)了基于BT2000工控組態(tài)軟件平臺的WINDOWS人機交互界面,用于溫度、閥位、沉積過程的監(jiān)控、數(shù)據(jù)采集和存儲。本發(fā)明具有控制精度高,操作方便,極其適合直流弧光放電等離子體化學(xué)氣相金剛石薄膜的制備。
聲明:
“直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的基底恒溫技術(shù)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)