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原位光學檢測裝置

1053   編輯：管理員   來源：中冶有色技術網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:13
本發(fā)明公開一種原位光學檢測裝置，應用于原子層沉積設備，包括光學測試系統(tǒng)和光學鏡頭配套組件，光學測試系統(tǒng)設置在原子層沉積設備的反應腔室外部，光學鏡頭配套組件包括鏡頭腔和設置在鏡頭腔內(nèi)的光學鏡頭、轉角組件和光學鏡頭延長管，轉角組件兩端分別連接光學鏡頭和光學鏡頭延長管；光學測試系統(tǒng)通過光學組件與光學鏡頭延長管連接，形成測試光路；鏡頭腔通過第一法蘭組件固定在反應腔室的側壁上。本發(fā)明可進行光學無損檢測，并且可以在光學原位檢測的輔佐下控制薄膜初始生長階段的模式。同時，在原子層沉積系統(tǒng)中，可進一步的設計和開發(fā)新的人工改性半導體材料，為各種高質(zhì)量、具有特異性能的二維薄膜的制備，提供有力的理論及實驗基礎。
聲明：
“原位光學檢測裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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無損檢測
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