本發(fā)明公開了一種模擬計(jì)算任意雙相不銹鋼顯微組織磁導(dǎo)率的方法。該方法基于linux操作系統(tǒng)下用于生成多晶體模型的軟件和圖像處理軟件,根據(jù)生成的模型照片或?qū)嶋H金相照片建立任意雙相不銹鋼微觀組織有限元模型。通過本專利公開的方法,能夠計(jì)算任意相組成、相分布和任意晶粒尺寸的雙相不銹鋼微觀組織的磁導(dǎo)率,并能夠單獨(dú)或者綜合分析晶粒尺寸、第二相粒子、相分?jǐn)?shù)、相分布以及晶界等微觀組織相關(guān)參數(shù)對(duì)磁導(dǎo)率的影響,模擬計(jì)算的結(jié)果與實(shí)際結(jié)果的誤差小于5%。解決了雙相不銹鋼微觀組織模擬精度不高、難以計(jì)算雙相不銹鋼微觀組織磁導(dǎo)率的問題,彌補(bǔ)了宏觀層面計(jì)算磁導(dǎo)率的方法由于“尺寸效應(yīng)”造成的錯(cuò)誤,為雙向不銹鋼電磁無損檢測(cè)系統(tǒng)提供數(shù)據(jù)參考。
聲明:
“模擬計(jì)算任意雙相不銹鋼顯微組織磁導(dǎo)率的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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