1.本發(fā)明涉及晶硅廢片回收處理設備機領域，尤其涉及一種用于處理晶硅廢片上殘留膠板的燒膠爐。

背景技術：

2.晶體硅，又稱晶硅，是最主要的光伏材料，性質(zhì)為帶有金屬光澤的灰黑色固體、熔點高(1410)、硬度大、有脆性、常溫下化學性質(zhì)不活潑。其市場占有率在90％以上，而且在今后相當長的一段時期也依然是太陽能電池的主流材料；

3.在制作太陽能電池時會有大量的表膠料或者受損的晶硅廢片產(chǎn)生，而這些晶硅廢片在回收處理時需要將粘附在其表面的攪拌進行去除，現(xiàn)有除膠方式為利用晶硅熔點高的性質(zhì)對晶硅廢片進行加熱，使得附著在其表面的膠板融化后與晶硅廢片表面的膠板融化，現(xiàn)有的加熱設備一般為現(xiàn)有的加熱爐，通過改變其加熱溫度后來直接對晶硅廢片進行回收作業(yè)，而晶硅廢片表面的攪拌在受熱融化時會產(chǎn)生飛塵和有還氣體，常用的加熱爐無法對其進行回收處理，這樣會導致在加熱過程中對環(huán)境造成二次污染，且還會對操作人員的身體造成危害，且在向加熱爐進行物料投放時大多使用提升機進行直接投放，連續(xù)性的作業(yè)會導致加熱設備的進料端無法閉合，會加劇廢氣的泄露。

技術實現(xiàn)要素：

4.本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術中的不足，提供一種能夠進行連續(xù)性下料且能避免廢棄泄露后污染環(huán)境的自給式晶硅燒膠爐。

5.本發(fā)明是通過以下技術方案實現(xiàn)的：一種自給式晶硅燒膠爐，包括加熱爐、設置在加熱爐進料端的給料設備以及與加熱爐連接的除塵設備；

6.所述加熱爐包括支架，所述支架的上方設置有防護殼體，所述防護殼體內(nèi)設置有滾筒，所述支架的一端設置有用于驅(qū)動滾筒轉(zhuǎn)動的電機；

7.所述給料設備包括輸送帶，所述支架的一端設置有與滾筒連接的下料斗；

8.所述除塵設備包括設置在加熱爐一側(cè)的除塵器，所述加熱爐的兩端設置有除塵罩，兩個除塵罩通過管道連接，所述管道上設置有與除塵器連接的送風管。

9.進一步地，所述除塵器包括密封殼體，所述密封殼體的上方設置有出風管，所述密封殼體的側(cè)壁上設置有用于連接送風管的進風口，所述密封殼體內(nèi)設置有過濾組件，所述密封殼體的底部設置有排渣倉。

10.進一步地，所述過濾組件包括多個沿著密封殼體的高度方向分布的過濾網(wǎng)板，每個過濾網(wǎng)板均與密封殼體的內(nèi)側(cè)壁可拆卸式連接。

11.進一步地，所述密封殼體的一側(cè)設置有檢修門，所述過濾網(wǎng)板朝向檢修門的一側(cè)設置有插接板，所述檢修門的內(nèi)側(cè)壁上設置有與插接板配合使用避位槽。

12.進一步地，所述排渣倉的上部設置有密封隔板，所述密封隔板的下表面設置有振動器。

13.進一步地，所述密封隔板的中部設置有弧頂，所述弧頂位于進風口的下方，所述密封隔板的四周與排渣倉的內(nèi)側(cè)壁之間設置有下料間隙。

14.進一步地，所述下料斗的下方設置有與支架連接的安裝座，所述安裝座的上表面設置有用于安裝下料斗的彈簧座，所述下料斗的下表面設置有振動電機，所述下料斗的側(cè)壁上設置有延伸至滾筒內(nèi)的導料板。

15.進一步地，所述防護殼體的內(nèi)側(cè)壁上設置有保溫層，所述保溫層的內(nèi)設置有加熱板。

16.進一步地，所述支架的中部設置有用于固定防護殼體的支撐板，所述支撐板的一端與安裝支架鉸接，另一端與支架之間設置有升降桿。

17.進一步地，所述支架上設置有位于支撐板兩側(cè)的限位托輥，每個限位托輥的下方均設置有與支架連接的調(diào)節(jié)座。

18.本發(fā)明的有益效果在于：該自給式晶硅燒膠爐，包括加熱爐、設置在加熱爐進料端的給料設備以及與加熱爐連接的除塵設備，將晶硅廢片投放至加熱內(nèi)，通過加熱使晶硅廢片表面附著的參膠融化后與晶硅分離，通過在加熱爐的兩端增設除塵罩，利用除塵罩在進料端和出料端對其作業(yè)中的廢氣進行收集后輸送至除塵器中進行處理后再排放，以此來減小作業(yè)過程中對環(huán)境的污染。

附圖說明

19.圖1為本發(fā)明的主視圖；

20.圖2為本發(fā)明的側(cè)視圖；

21.圖3為本發(fā)明中密封殼體的結構示意圖；

22.圖4為本發(fā)明中加熱爐的結構示意圖；

23.圖5為本發(fā)明中密封隔板的結構示意圖；

24.圖6為本發(fā)明中密封隔板與排渣倉上部的連接結構示意圖；

25.圖7為本發(fā)明中檢修門與過濾網(wǎng)板的機構示意圖；

26.圖8為本發(fā)明中檢修門的結構示意圖。

27.其中：1-加熱爐；2-防護殼體；3-滾筒；4-電機；5-輸送帶；6-下料斗；7-除塵罩；8-管道；9-送風管；10-密封殼體；11-出風管；12-進風口；13-排渣倉；14-過濾網(wǎng)板；15-檢修門；16-插接板；17-避位槽；18-弧形壓板；19-導向柱；20-密封膠墊；21-密封隔板；22-振動器；23-弧頂；24-下料間隙；25-安裝座；26-彈簧座；27-振動電機；28-導料板；29-保溫層；30-加熱板；31-支撐板；32-升降桿；33-限位托輥；34-調(diào)節(jié)座。

具體實施方式

28.在本發(fā)明的描述中，還需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“設置”、“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發(fā)明中的具體含義。

29.下面將結合發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整

地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

30.實施例1

31.如圖1-8所示，一種自給式晶硅燒膠爐，包括加熱爐1、設置在加熱爐1進料端的給料設備以及與加熱爐1連接的除塵設備，將晶硅廢片投放至加熱內(nèi)，通過加熱使晶硅廢片表面附著的參膠融化后與晶硅分離；

32.加熱爐1包括支架，支架的上方固定安裝有防護殼體2，防護殼體2內(nèi)設置有滾筒3，支架的一端設置有用于驅(qū)動滾筒3轉(zhuǎn)動的電機4，滾筒3的內(nèi)側(cè)壁上均勻的焊接有擋料板，便于對滾動下落的物料進行打散，進而提升物料的吸熱效率；

33.給料設備包括輸送帶5，輸送帶5為裙帶式輸送提升機，輸送帶5的表面設有隔板避免物料下滑，支架的一端設置有與滾筒3連接的下料斗6，通過下料斗6對輸送帶5傳輸?shù)奈锪线M行懲戒和暫存，然后向滾筒3中及性功能勻速投料，可以減少投料步驟的人力同時控制下料速度，避免物料下落過快后在滾筒3內(nèi)發(fā)生堆積，導致部分物料受熱不均勻；

34.除塵設備包括設置在加熱爐1一側(cè)的除塵器，加熱爐1的兩端均設置有可拆卸式的除塵罩7，兩個除塵罩7均與防護殼體2的側(cè)壁貼且連接處設有密封墊，避免煙塵及廢氣自縫隙處泄漏，兩個除塵罩7通過管道8連接，管道8上設置有與除塵器連接的送風管9，通過管道8連接后的除塵罩7可以使用同一臺風機進行抽取廢氣，起到節(jié)省生產(chǎn)成本作用。

35.除塵器包括密封殼體10，密封殼體10的上方設置有出風管11，出風管11上安裝有離心風機為除塵器吸取煙氣提供動力，密封殼體10內(nèi)設置有過濾組件，密封殼體10的側(cè)壁上設置有用于連接送風管9的進風口12，進風口12位于過濾組件的下方，含有雜質(zhì)的廢氣自進風口12進入密封殼體10內(nèi)，經(jīng)過過濾組件后將雜質(zhì)過濾后自上部的出風管11內(nèi)排出，密封殼體10的底部設置有排渣倉13，雜質(zhì)經(jīng)過過濾后落至排渣倉13內(nèi)暫存，定期對排渣倉13內(nèi)的雜質(zhì)進行清潔。

36.過濾組件包括多個沿著密封殼體10的高度方向分布的過濾網(wǎng)板14，位于最下方的過濾板網(wǎng)板采用過濾網(wǎng)用于過濾顆粒狀的雜質(zhì)，位于上方的過濾網(wǎng)板14為活性炭過濾網(wǎng)板14，每個過濾網(wǎng)板14均與密封殼體10的內(nèi)側(cè)壁可拆卸式連接，過濾網(wǎng)板14的兩側(cè)設有延板，密封殼體10的內(nèi)側(cè)壁上設有限位板，將延板搭放在限位板上后利用螺栓進行鎖緊。

37.密封殼體10的一側(cè)設置有檢修門15，過濾網(wǎng)板14朝向檢修門15的一側(cè)設置有插接板16，檢修門15的內(nèi)側(cè)壁上設置有與插接板16配合使用避位槽17，避位槽17開口處的上下兩個側(cè)邊上均設有弧形壓板18，兩個弧形壓板18相對的一側(cè)貼合，插接板16自過濾網(wǎng)板14處向檢修門15延伸，厚度逐漸減小且朝向檢修門15的一端設有與兩個弧形壓板18配合使用的導向柱19，插接板16的上下兩個側(cè)壁上均覆蓋有密封膠墊20，在閉合檢修門15時，插接板16在進入避位槽17時會擠壓兩個弧形壓板18，待導向柱19滑動至避位槽17內(nèi)時弧形壓板18的與密封膠墊20貼合，利用此種設計在增加檢修門15與過濾網(wǎng)板14之間的密封性，避免雜質(zhì)自過濾網(wǎng)板14與檢修門15之間的間隙處泄漏，同時能夠省略檢修門15與密封殼體10的外部連接，只需在檢修門15的外側(cè)壁上安裝一個把手機記性推拉即可。

38.排渣倉13的上部設置有密封隔板21，密封隔板21的下表面設置有振動器22，通過振動器22進行間歇性的震動，進而避免雜質(zhì)在密封隔板21的的表面進行堆積。

39.密封隔板21的中部設置有弧頂23，弧頂23位于進風口12的下方，密封隔板21的四周與排渣倉13的內(nèi)側(cè)壁之間設置有下料間隙24密封隔板21，密封隔板21由四個三角形的板材拼接成一個四棱錐，四棱柱的頂端為弧形，震動器安裝在四棱錐頂端的下表面且在安裝振動器22的位置設有加強板。

40.下料斗6的下方設置有與支架連接的安裝座25，安裝座25的上表面設置有用于安裝下料斗6的彈簧座26，下料斗6的下表面設置有振動電機274，下料斗6的側(cè)壁上設置有延伸至滾筒3內(nèi)的導料板28，通過震動電機4與彈簧座26進行震動下料，通過改變震動電機4的頻率來控制下料速度，配合轉(zhuǎn)筒的轉(zhuǎn)速和加熱效果來控制物料的投放速度，盡可能的使硅晶廢片進行更均勻的吸熱。

41.防護殼體2的內(nèi)側(cè)壁上設置有保溫層29，保溫層29的內(nèi)側(cè)壁上設置有加熱板30，保溫層29采用耐火隔熱材料進行制作，在保溫層29安裝位于滾筒3下、左、右三個方向的加熱板30，加熱板30嵌合在保溫層29內(nèi)。

42.支架的中部設置有用于固定防護殼體2的支撐板31，支撐板31的一端與安裝支架的表面鉸接，另一端與支架之間設置有升降桿32，支撐板31傾斜放置且可以通過升降桿32進行傾斜度的調(diào)節(jié)，以此來配合控制晶硅廢片在滾筒3內(nèi)的移動速度。

43.支架上設置有位于支撐板31兩側(cè)的限位托輥33，每個限位托輥33的下方均設置有與支架連接的調(diào)節(jié)座34，調(diào)節(jié)座34隨著支撐板31進行同步調(diào)節(jié)上表面始終與支撐板31的表面平行。

44.在具體使用時在整個設備的外部連接plc臺進行協(xié)助操作，通過plc控制臺來對加熱溫度、轉(zhuǎn)速以及震動電機4、振動器22進行遠程檢測和控制，以此來提升設備使用的便捷性，使得操作更加簡單。

45.最后應說明的是：以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。技術特征：

1.一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：包括加熱爐、設置在加熱爐進料端的給料設備以及與加熱爐連接的除塵設備；所述加熱爐包括支架，所述支架的上方設置有防護殼體，所述防護殼體內(nèi)設置有滾筒，所述支架的一端設置有用于驅(qū)動滾筒轉(zhuǎn)動的電機；所述給料設備包括輸送帶，所述支架的一端設置有與滾筒連接的下料斗；所述除塵設備包括設置在加熱爐一側(cè)的除塵器，所述加熱爐的兩端設置有除塵罩，兩個除塵罩通過管道連接，所述管道上設置有與除塵器連接的送風管。2.根據(jù)權利要求1所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述除塵器包括密封殼體，所述密封殼體的上方設置有出風管，所述密封殼體的側(cè)壁上設置有用于連接送風管的進風口，所述密封殼體內(nèi)設置有過濾組件，所述密封殼體的底部設置有排渣倉。3.根據(jù)權利要求2所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述過濾組件包括多個沿著密封殼體的高度方向分布的過濾網(wǎng)板，每個過濾網(wǎng)板均與密封殼體的內(nèi)側(cè)壁可拆卸式連接。4.根據(jù)權利要求3所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述密封殼體的一側(cè)設置有檢修門，所述過濾網(wǎng)板朝向檢修門的一側(cè)設置有插接板，所述檢修門的內(nèi)側(cè)壁上設置有與插接板配合使用避位槽。5.根據(jù)權利要求2所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述排渣倉的上部設置有密封隔板，所述密封隔板的下表面設置有振動器。6.根據(jù)權利要求5所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述密封隔板的中部設置有弧頂，所述弧頂位于進風口的下方，所述密封隔板的四周與排渣倉的內(nèi)側(cè)壁之間設置有下料間隙。7.根據(jù)權利要求1所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述下料斗的下方設置有與支架連接的安裝座，所述安裝座的上表面設置有用于安裝下料斗的彈簧座，所述下料斗的下表面設置有振動電機，所述下料斗的側(cè)壁上設置有延伸至滾筒內(nèi)的導料板。8.根據(jù)權利要求1所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述防護殼體的內(nèi)側(cè)壁上設置有保溫層，所述保溫層的內(nèi)設置有加熱板。9.根據(jù)權利要求1所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述支架的中部設置有用于固定防護殼體的支撐板，所述支撐板的一端與安裝支架鉸接，另一端與支架之間設置有升降桿。10.根據(jù)權利要求9所述的一種自給式晶硅燒膠爐，其特征在于：所述支架上設置有位于支撐板兩側(cè)的限位托輥，每個限位托輥的下方均設置有與支架連接的調(diào)節(jié)座。

技術總結

本發(fā)明涉及晶硅廢片回收處理設備機領域，尤其涉及一種自給式晶硅燒膠爐，包括加熱爐、設置在加熱爐進料端的給料設備以及與加熱爐連接的除塵設備，將晶硅廢片投放至加熱內(nèi)，通過加熱使晶硅廢片表面附著的參膠融化后與晶硅分離，通過在加熱爐的兩端增設除塵罩，利用除塵罩在進料端和出料端對其作業(yè)中的廢氣進行收集后輸送至除塵器中進行處理后再排放，以此來減小作業(yè)過程中對環(huán)境的污染。此來減小作業(yè)過程中對環(huán)境的污染。此來減小作業(yè)過程中對環(huán)境的污染。

技術研發(fā)人員：郭英麗 聶勇 胡勝魁 賈丹丹 郭玉濤 程小敏

受保護的技術使用者：河南省眾邦偉業(yè)科技有限公司

技術研發(fā)日：2022.09.09

技術公布日：2023/1/12