權利要求書： 1.一種廢水處理系統(tǒng)，用于對晶圓背面減薄裝置的研磨廢水進行處理，所述晶圓背面減薄裝置的內(nèi)部設有研磨機和排水管(100)，所述研磨機產(chǎn)生的研磨廢水通過所述排水管(100)排出，其特征在于，所述廢水處理系統(tǒng)包括：管路式粉碎機(200)，所述管路式粉碎機(200)設置在所述排水管(100)上，所述管路式粉碎機(200)用于對所述排水管(100)內(nèi)的所述研磨廢水中的晶渣進行粉碎；以及廢水分離箱(300)，所述廢水分離箱(300)與所述排水管(100)的排水口連通，所述廢水分離箱(300)被配置將所述管路式粉碎機(200)處理后的所述研磨廢水進行固液分離，經(jīng)過所述廢水分離箱(300)固液分離后的所述研磨廢水收集到排放池(400)內(nèi)。

2.根據(jù)權利要求1所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述廢水分離箱(300)包括箱體(310)和過濾網(wǎng)(320)，所述過濾網(wǎng)(320)設置在所述箱體(310)內(nèi)，所述箱體(310)上設有進液口(330)和出液口(340)，所述進液口(330)設置在所述過濾網(wǎng)(320)的上方，所述進液口(330)與所述排水管(100)的排水口連通，所述出液口(340)設置在所述過濾網(wǎng)(320)的下方，所述出液口(340)與所述排放池(400)連通。

3.根據(jù)權利要求2所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述過濾網(wǎng)(320)設置為“凹”字形結構，所述過濾網(wǎng)(320)包括第一橫網(wǎng)板(321)、豎網(wǎng)板(322)和第二橫網(wǎng)板(323)，所述第一橫網(wǎng)板(321)、所述豎網(wǎng)板(322)、所述第二橫網(wǎng)板(323)、所述豎網(wǎng)板(322)、所述第一橫網(wǎng)板(321)依次連接，所述第一橫網(wǎng)板(321)與所述箱體(310)的側壁連接。

4.根據(jù)權利要求3所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一橫網(wǎng)板(321)的截面面積大于所述進液口(330)的截面面積。

5.根據(jù)權利要求2所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述廢水處理系統(tǒng)包括第一管路，所述第一管路的一端連通所述排水管(100)的排水口，所述第一管路的另一端連通所述廢水分離箱(300)的所述進液口(330)。

6.根據(jù)權利要求5所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述廢水處理系統(tǒng)包括第二管路，所述第二管路的一端連通所述廢水分離箱(300)的所述出液口(340)，所述第二管路的另一端連通所述排放池(400)。

7.根據(jù)權利要求6所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第二管路的截面面積大于或等于所述第一管路的截面面積。

8.根據(jù)權利要求2所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述箱體(310)的頂部設有開口，所述開口處設有密封蓋(350)，所述密封蓋(350)能夠將所述箱體(310)密封。

9.根據(jù)權利要求2所述的廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述過濾網(wǎng)(320)的網(wǎng)孔的直徑小于或等于2mm。

10.一種晶圓背面減薄裝置，其特征在于，所述晶圓背面減薄裝置包括研磨機、排水管(100)和如權利要求1?9中任一項所述的廢水處理系統(tǒng)，所述研磨機用于對半導體材料進行削磨，所述研磨機削磨產(chǎn)生的研磨廢水通過所述排水管(100)排出，所述廢水處理系統(tǒng)與所述排水管(100)的排水口連通，所述廢水處理系統(tǒng)用于對所述晶圓背面減薄裝置的所述研磨廢水進行處理。

說明書： 一種廢水處理系統(tǒng)及晶圓背面減薄裝置技術領域[0001] 本實用新型涉及半導體晶圓加工技術領域，尤其涉及一種廢水處理系統(tǒng)及晶圓背面減薄裝置。背景技術[0002] 晶圓背面減薄設備是BSI工藝最重要的環(huán)節(jié)之一，通常利用金剛石砂輪旋轉帶來的摩檫力來對半導體材料進行拋光或者研磨減薄，在拋光或研磨的過程中會產(chǎn)生大量的研磨廢水，加工產(chǎn)生的研磨廢水會隨著晶圓背面減薄設備的排水管道排放至用戶終端污水處理裝置。然而從設備端到用戶終端污水處理系統(tǒng)的排水管道，極易被研磨廢水內(nèi)較大顆粒的晶渣堵塞，導致排水管道流通不暢。[0003] 目前，現(xiàn)有的技術方案中通常采用在晶圓背面減薄設備內(nèi)部的排水口添加一個過濾網(wǎng)來對研磨廢水進行過濾，研磨廢水通過過濾網(wǎng)后，大部分晶渣會留在過濾網(wǎng)內(nèi)，維護人員需要定期清理一次濾網(wǎng)。然而當晶圓背面減薄設備的研磨機產(chǎn)能過高時，晶渣在過濾網(wǎng)堆積的速率會加快，排水口容易被晶渣堵塞，研磨廢水在研磨機內(nèi)出現(xiàn)堆積返流，造成設備無法正常加工，且清理濾網(wǎng)的頻率會增加，嚴重影響設備生產(chǎn)效率。[0004] 因此，亟需一種廢水處理系統(tǒng)及晶圓背面減薄裝置，來解決研磨廢水中的晶渣導致的排水口堵塞的問題。實用新型內(nèi)容

[0005] 本實用新型的目的在于提供一種廢水處理系統(tǒng)及晶圓背面減薄裝置，能夠解決研磨廢水中的晶渣堵塞排水口，導致廢水回流的問題，同時減少過濾網(wǎng)的清理頻率，保證晶圓減薄機的生產(chǎn)效率。[0006] 為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：[0007] 一方面，本實用新型提供一種廢水處理系統(tǒng)，該廢水處理系統(tǒng)用于對晶圓背面減薄裝置的研磨廢水進行處理，所述晶圓背面減薄裝置的內(nèi)部設有研磨機和排水管，所述研磨機產(chǎn)生的研磨廢水通過所述排水管排出，該廢水處理系統(tǒng)包括：[0008] 管路式粉碎機，所述管路式粉碎機設置在所述排水管上，所述管路式粉碎機用于對所述排水管內(nèi)的所述研磨廢水中的晶渣進行粉碎；[0009] 廢水分離箱，所述廢水分離箱與所述排水管的排水口連通，所述廢水分離箱被配置將所述管路式粉碎機處理后的所述研磨廢水進行固液分離，經(jīng)過所述廢水分離箱固液分離后的所述研磨廢水收集到排放池內(nèi)。[0010] 可選地，所述廢水分離箱包括箱體和過濾網(wǎng)，所述過濾網(wǎng)設置在所述箱體內(nèi)，所述箱體上設有進液口和出液口，所述進液口設置在所述過濾網(wǎng)的上方，所述進液口與所述排水管的排水口連通，所述出液口設置在所述過濾網(wǎng)的下方，所述出液口與所述排放池連通。[0011] 可選地，所述過濾網(wǎng)設置為“凹”字形結構，所述過濾網(wǎng)包括第一橫網(wǎng)板、豎網(wǎng)板和第二橫網(wǎng)板，所述第一橫網(wǎng)板、所述豎網(wǎng)板、所述第二橫網(wǎng)板、所述豎網(wǎng)板、所述第一橫網(wǎng)板依次連接，所述第一橫網(wǎng)板與所述箱體的側壁連接。[0012] 可選地，所述第一橫網(wǎng)板的截面面積大于所述進液口的截面面積。[0013] 可選地，所述廢水處理系統(tǒng)包括第一管路，所述第一管路的一端連通所述排水管的排水口，所述第一管路的另一端連通所述廢水分離箱的所述進液口。[0014] 可選地，所述廢水處理系統(tǒng)包括第二管路，所述第二管路的一端連通所述廢水分離箱的所述出液口，所述第二管路的另一端連通所述排放池。[0015] 可選地，所述第二管路的截面面積大于或等于所述第一管路的截面面積。[0016] 可選地，所述箱體的頂部設有開口，所述開口處設有密封蓋，所述密封蓋能夠將所述箱體密封。[0017] 可選地，所述過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔的直徑小于或等于2mm。[0018] 另一方面，本實用新型還提供一種晶圓背面減薄裝置，所述晶圓背面減薄裝置包括研磨機、排水管和上述任一方案中的廢水處理系統(tǒng)，所述研磨機用于對半導體材料進行削磨，所述研磨機削磨產(chǎn)生的研磨廢水通過所述排水管排出，所述廢水處理系統(tǒng)與所述排水管的排水口連通，所述廢水處理系統(tǒng)用于對所述晶圓背面減薄裝置的所述研磨廢水進行處理。[0019] 本實用新型的有益效果為：[0020] 本實用新型提供一種廢水處理系統(tǒng)，該廢水處理系統(tǒng)用于對晶圓背面減薄裝置的研磨廢水進行處理，該廢水處理系統(tǒng)包括管路式粉碎機和廢水分離箱，管路式粉碎機設置在晶圓背面減薄裝置的內(nèi)部的排水管上，管路式粉碎機能夠對排水管內(nèi)研磨廢水中的晶渣進行粉碎，粉碎處理后的研磨廢水通過排水管的排水口流入廢水分離箱，廢水分離箱將研磨廢水進行固液分離，經(jīng)過廢水分離箱固液分離后的研磨廢水收集到排放池內(nèi)。通過管路式粉碎機將排水管內(nèi)研磨廢水中的大顆粒的晶渣進行粉碎，避免了晶渣堵塞排水管的排水口的問題，并且通過廢水分離箱能夠將研磨廢水中的晶渣過濾掉，保證了研磨廢水排入排放池的管路通暢。[0021] 本實用新型還提供一種晶圓背面減薄裝置，包括上述的廢水處理系統(tǒng)，通過該廢水處理系統(tǒng)能夠對晶圓背面減薄裝置的研磨機產(chǎn)生的研磨廢水進行處理，避免研磨廢水中的晶渣堵塞排水口的問題。附圖說明[0022] 圖1是本實用新型實施例中提供的廢水處理系統(tǒng)的原理示意圖；[0023] 圖2是本實用新型實施例中提供的廢水分離箱的結構示意圖。[0024] 圖中：[0025] 100、排水管；200、管路式粉碎機；300、廢水分離箱；310、箱體；320、過濾網(wǎng)；321、第一橫網(wǎng)板；322、豎網(wǎng)板；323、第二橫網(wǎng)板；330、進液口；340、出液口；350、密封蓋；400、排放池。具體實施方式[0026] 下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的詳細說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本實用新型，而非對本實用新型的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本實用新型相關的部分而非全部結構。[0027] 在本實用新型的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“相連”、“連接”、“固定”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。[0028] 在本實用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸，也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它們之間的另外的特征接觸。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。[0029] 在本實施例的描述中，術語“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述和簡化操作，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術語“第一”、“第二”僅僅用于在描述上加以區(qū)分，并沒有特殊的含義。[0030] 如圖1所示，本實施例提供一種廢水處理系統(tǒng)，晶圓背面減薄裝置的內(nèi)部通常設有研磨機和排水管100，研磨機產(chǎn)生的研磨廢水通過排水管100排出，該廢水處理系統(tǒng)能夠用于對晶圓背面減薄裝置產(chǎn)生的研磨廢水進行處理，該廢水處理系統(tǒng)包括管路式粉碎機200和廢水分離箱300，管路式粉碎機200設置在排水管100上，管路式粉碎機200能夠對排水管100內(nèi)的研磨廢水中較大顆粒的晶渣進行粉碎，從而減小晶渣的顆粒尺寸，避免研磨廢水中的晶渣堵塞排水管100的排水口，導致研磨廢水返流的狀況，廢水分離箱300與排水管100的排水口連通，經(jīng)過管路式粉碎機200處理后的研磨廢水通過排水管100的排水口流入廢水分離箱300內(nèi)，通過廢水分離箱300能夠對管路式粉碎機200處理后的研磨廢水進行固液分離將研磨廢水中的晶渣分離出來，避免懸浮在研磨廢水中的晶渣堵塞管路的問題，之后經(jīng)過廢水分離箱300固液分離后的研磨廢水被收集到排放池400內(nèi)，并且由于晶渣經(jīng)過了管路式粉碎機200的粉碎和廢水分離箱300的分離，排入到排放池400內(nèi)的研磨廢水中的晶渣含量較少，從而減少了維護人員清理排放池400內(nèi)晶渣的頻率，保證晶圓減薄機的生產(chǎn)效率。

[0031] 可選地，廢水處理系統(tǒng)包括第一管路和第二管路，第一管路的一端連通排水管100的排水口，第一管路的另一端連通廢水分離箱300的進液口330，第二管路的一端連通廢水分離箱300的出液口340，第二管路的另一端連通排放池400。通過第一管路和第二管路的設置，完成了廢水處理系統(tǒng)各部件之間的連通工作。[0032] 進一步地，參見圖2，本實施例中的廢水分離箱300包括箱體310和過濾網(wǎng)320，過濾網(wǎng)320設置在箱體310內(nèi)，箱體310上設有進液口330和出液口340，示例性地，進液口330可以設置在箱體310的側壁上，并且進液口330設置在過濾網(wǎng)320的上方，進液口330與排水管100的排水口連通，出液口340也設置在箱體310的側壁上，并且出液口340設置在過濾網(wǎng)320的下方，出液口340與排放池400連通。通過過濾網(wǎng)320的設置，能夠快速分離研磨廢水中的晶渣，并且過濾后的晶渣經(jīng)過處理后還可以回收至晶圓廠，被再次利用，節(jié)約了能源，經(jīng)濟效益較高。[0033] 可選地，本實施例中的過濾網(wǎng)320設置為“凹”字形結構，過濾網(wǎng)320包括第一橫網(wǎng)板321、豎網(wǎng)板322和第二橫網(wǎng)板323，第一橫網(wǎng)板321、豎網(wǎng)板322和第二橫網(wǎng)板323上均設有網(wǎng)孔，示例性地，本實施例中的第一橫網(wǎng)板321和豎網(wǎng)板322均包括兩塊，第一橫網(wǎng)板321、豎網(wǎng)板322、第二橫網(wǎng)板323、豎網(wǎng)板322、第一橫網(wǎng)板321依次連接，兩塊第一橫網(wǎng)板321與箱體310的側壁連接，兩塊豎網(wǎng)板322設置在第二橫網(wǎng)板323的兩側，豎網(wǎng)板322與第一橫版321相連，從而形成一個能夠容納研磨廢水的容納槽，容納槽能夠對進入箱體310內(nèi)的研磨廢水起到緩沖的作用，并且研磨廢水可以同時經(jīng)過第二橫網(wǎng)板323和豎網(wǎng)板322的過濾進入到箱體

310的底部，進而從出液口340流出，增大了過濾的面積，固液分離的效率較高。

[0034] 過濾網(wǎng)320的網(wǎng)孔的直徑小于或等于2mm，從而保證經(jīng)過廢水分離箱300后的研磨廢水中的晶渣的顆粒尺寸較小，避免晶渣在第二管路內(nèi)沉積，導致第二管路堵塞，保證研磨廢水順利排入排放池400內(nèi)。示例性地，過濾網(wǎng)320的網(wǎng)孔的直徑可以設置為1.5mm、1.6mm、1.7mm、1.8mm、1.9mm或2mm，只要能夠保證箱體310內(nèi)的研磨廢水不囤積，第二管路內(nèi)的研磨廢水流通順暢即可，本實施例對此不做限定。

[0035] 更為優(yōu)選地，第二管路的截面面積大于或等于第一管路的截面面積，第一橫網(wǎng)板321的截面面積大于進液口330的截面面積，從而保證過濾網(wǎng)320的處理量能夠滿足過濾要求，避免研磨廢水在箱體310內(nèi)囤積，造成返流的情況。

[0036] 廢水分離箱300的箱體310的頂部設有開口，開口處設有密封蓋350，密封蓋350能夠將箱體310密封，當箱體310內(nèi)的過濾網(wǎng)320需要清理時，可以打開密封蓋350清理過濾網(wǎng)320上的晶渣，通過密封蓋350的設置，方便維護人員清理過濾網(wǎng)320。

[0037] 本實施例還提供一種晶圓背面減薄裝置，該晶圓背面減薄裝置包括研磨機、排水管100和上述的廢水處理系統(tǒng)，研磨機用于對半導體材料進行削磨，研磨機削磨產(chǎn)生的研磨廢水通過排水管100排出，廢水處理系統(tǒng)與排水管100的排水口連通，廢水處理系統(tǒng)用于對晶圓背面減薄裝置的研磨廢水進行處理，避免研磨廢水中的晶渣堵塞排水口的問題，同時排入到排放池400內(nèi)的研磨廢水中的晶渣含量較少，減少了維護人員清理排放池400內(nèi)晶渣的頻率，保證晶圓減薄機的生產(chǎn)效率。[0038] 具體工作過程：[0039] 晶圓背面減薄裝置的研磨機對半導體材料進行削磨后，研磨機削磨產(chǎn)生的研磨廢水通過排水管100排出，通過排水管100上設置的管路式粉碎機200能夠對排水管100內(nèi)的研磨廢水中較大顆粒的晶渣進行粉碎，之后排水管100內(nèi)的研磨廢水通過排水管100的排水口流出，通過第一管路流入廢水分離箱300內(nèi)，廢水分離箱300對管路式粉碎機200處理后的研磨廢水進行固液分離，以將研磨廢水中的晶渣分離出來，經(jīng)過濾后的研磨廢水通過第二管路流入到排放池內(nèi)，從而減少了維護人員清理排放池400內(nèi)晶渣的頻率，保證晶圓減薄機的生產(chǎn)效率。[0040] 顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為了清楚說明本實用新型所作的舉例，而并非是對本實用新型的實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，能夠進行各種明顯的變化、重新調整和替代而不會脫離本實用新型的保護范圍。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型權利要求的保護范圍之內(nèi)。