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薄膜制備設備

955   編輯：管理員   來源：中冶有色技術網  
2023-03-19 07:57:10
本實用新型公開了一種薄膜制備設備，包括：將注入反應液進行化學沉積反應的反應槽(10)；設置在反應槽(10)外部的循環(huán)裝置(20)，循環(huán)裝置(20)的一端與反應槽(10)底部連通，另一端與反應槽(10)上部連通，循環(huán)裝置(20)將經反應槽(10)上部溢出的反應液輸送至外部加熱器加熱，然后經反應槽(10)底部的注液口注入該反應液，還包括：至少一個加熱裝置(30)，設置在反應槽(10)下部或底部外側，用于非接觸地對反應槽(10)內的反應液加熱；測溫儀(40)，設置在反應槽(10)上部出口附近，用于檢測反應槽(10)溢流反應液的溫度。采用本實施方案，有效地解決加熱時延問題，并使反應槽(10)內反應液迅速升溫的同時溫度均勻分布。
聲明：
“薄膜制備設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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