本發(fā)明公開一種大口徑平面光學元件拋光機及拋光和精度控制方法,實現(xiàn)工件的轉(zhuǎn)速及校正板位置的自由調(diào)節(jié);避免工件出現(xiàn)轉(zhuǎn)速不均勻甚至不轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)的情況,同時通過激光位移傳感器對拋光盤面形精度進行檢測;壓電式微位移驅(qū)動器控制拋光盤的面形分布以及環(huán)境影響因素的控制,從拋光工藝的宏觀和微觀的物理和化學因素入手,提出一個精準的拋光精度控制工藝及路線;并通過控制拋光工藝主要影響因素,引入新型可控高效拋光新技術(shù),該技術(shù)較傳統(tǒng)環(huán)拋具有可控影響因素多、可主動控制面形精度、高效高精等優(yōu)點;結(jié)果可大大提高大口徑平面光學元件加工效率和精度,可為研制大口徑平面拋光新技術(shù)機床樣機,研究大口徑拋光技術(shù)做重要準備。
聲明:
“大口徑平面光學元件拋光機及拋光和精度控制方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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