本發(fā)明公開了一種薄膜厚度微區(qū)成像的檢測裝置及方法,屬于薄膜厚度無損檢測的技術(shù)領(lǐng)域,所述檢測裝置包括:計算機,分別與計算機通信連接的光源發(fā)生器和面陣檢測器;所述光源發(fā)生器用于產(chǎn)生波長可調(diào)的單色光;照明及成像光路,所述照明及成像光路用于將單色光垂直或接近垂直方向入射到樣品表面的待測區(qū)域,并將反射光收集并成像到面陣檢測器上;檢測過程包括:檢測過程包括:通過計算機控制光源發(fā)生器進行波長掃描和面陣檢測器進行逐個波長反射圖像的采集,并獲得不同波長的反射光圖像,通過數(shù)據(jù)處理方法將反射光圖像轉(zhuǎn)變?yōu)楸∧ず穸确植紙D像,以達到通過獲得成像范圍內(nèi)大量點的薄膜厚度,能應(yīng)用于分析厚度不均勻薄膜,預(yù)期在材料腐蝕、光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域具有良好應(yīng)用前景的目的。
聲明:
“薄膜厚度微區(qū)成像的檢測裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)