本發(fā)明公開了一種測量光刻膠掩模槽形結(jié)構(gòu)參數(shù)的方法,其特征在于:采用TE/TM線偏振光為入射光,入射角為被測掩模的閃耀角,分別測量標(biāo)準(zhǔn)反射片的反射光的光譜分布D0(λ);被測掩模的反射衍射零級復(fù)色光的光譜分布D(λ);采用比較法,計算出介質(zhì)膜光柵掩模實際的反射衍射零級的光譜分布Rg(λ),對其進(jìn)行光譜反演,得到掩模的槽形參數(shù):光刻膠的剩余厚度、槽深和占寬比。本發(fā)明實現(xiàn)了對于面積、重量均較大的待測掩模的槽形參數(shù)的無損檢測;且可以避免測量系統(tǒng)的誤差,對光譜儀測量系統(tǒng)以及光源沒有特別要求,測量方法簡單易行。
聲明:
“測量光刻膠掩模槽形結(jié)構(gòu)參數(shù)的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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