本發(fā)明屬于微電子技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種信息處理方法、裝置、介質(zhì)、校正器、模組及設(shè)備?;诠忄徑?yīng)的仿真和校正,通過(guò)對(duì)工藝參數(shù)的預(yù)處理,使得相關(guān)的測(cè)試過(guò)程的效率提高、失效率降低,該方法對(duì)于光刻工藝窗口較窄的應(yīng)用場(chǎng)景,有較強(qiáng)的適應(yīng)性,在預(yù)設(shè)的焦距能量矩陣范圍內(nèi),提升了信息獲取的效率。
聲明:
“信息處理方法、裝置、介質(zhì)、校正器、模組及設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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