本發(fā)明公開了一種低成本的去除冶金硅中雜質(zhì)硼的方法,采用高溫?zé)嵫趸ㄊ紫仍谝苯鸸璞砻嫔L(zhǎng)二氧化硅薄層,其次通過(guò)熱處理方式,調(diào)控雜質(zhì)硼在二氧化硅/硅界面處的分凝,以及調(diào)控雜質(zhì)硼過(guò)飽和析出、富集并偏析至硅晶界處,使得冶金硅內(nèi)部的雜質(zhì)硼擴(kuò)散到二氧化硅/硅界面附近,然后去除二氧化硅,最后采用化學(xué)濕法酸處理,達(dá)到去除雜質(zhì)的目的。本發(fā)明提出的新方法的總雜質(zhì)去除率大于96%,雜質(zhì)硼去除率大于93%,具有總雜質(zhì)和硼雜質(zhì)去除效率高、工藝流程短、生產(chǎn)成本低、污染小等特點(diǎn),很容易在產(chǎn)業(yè)化上進(jìn)行推廣應(yīng)用。
聲明:
“低成本去除冶金硅中雜質(zhì)硼的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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