本發(fā)明屬于
濕法冶金領(lǐng)域,具體涉及一種?;螂錊聚合物復(fù)合包容膜,包括聚合物膜基底以及復(fù)合在其中的?;螂濉1景l(fā)明還涉及所述的包容膜的制備和在
稀貴金屬的選擇性吸附方面的應(yīng)用。本發(fā)明提供了一種聚合物包覆有式I~式III化合物的全
新材料,且研究表明,將所述的全新材料應(yīng)用于稀貴金屬提取方面,能夠意外地表現(xiàn)出優(yōu)異的稀貴金屬提取容量、提取選擇性和循環(huán)提取穩(wěn)定性。
聲明:
“酰化硫脲@聚合物復(fù)合包容膜及其制備和在稀貴金屬離子提取中的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)