用超聲波清除顆粒表面包層的方法,是采用超聲波撞擊溶液中的顆粒,清除顆粒表面包層,使顆粒裸露自身表面的方法。所述的超聲波,頻率為15-200kHz,聲強為0.5-200w/cm2。所述的顆粒表面包層,包括顆粒自身的表面包層和顆粒在溶液中新生的表面包層。所述的方法的用途,包括超聲硫化工藝、超聲
浮選工藝、超聲浸出工藝和超聲凈化工藝。
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“用超聲波清除溶液中顆粒表面包層的方法、工藝及用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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