本發(fā)明涉及一種銅蝕刻液及其循環(huán)使用的方法,這種銅蝕刻液以使用有機(jī)胺和氧化劑為特征,銅蝕刻液的銅濃度通過(guò)采用選擇性分離銅的方法使其控制在蝕刻銅過(guò)程所要求的范圍內(nèi),使銅蝕刻液的循環(huán)使用成為可能。
聲明:
“銅蝕刻液及其循環(huán)使用方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)