本實(shí)用新型公開了一種沉淀反應(yīng)用分布反應(yīng)器,包括:反應(yīng)容器,具有上部開口的容納腔;分布器環(huán)繞設(shè)置且中心形成有安裝讓位,所述分布器設(shè)有分布腔,所述分布腔連通有若干分布孔,所述分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置;蓋體蓋設(shè)于反應(yīng)容器上端以封閉容納腔上部開口。本實(shí)用新型攪拌軸從安裝讓位穿過,安裝時,不產(chǎn)生結(jié)構(gòu)干涉;利用分布孔實(shí)現(xiàn)液體均勻分散添加,且由于分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置,使得液體剛進(jìn)入分布腔時,不會立馬從分布孔出來,而是等液位高度高于分布孔的出液液位高度時,才從分布孔出去,這樣可以盡量減少分布孔由于位置分布的差異而導(dǎo)致的出液量的差異,提高液體添加的均勻性。
聲明:
“沉淀反應(yīng)用分布反應(yīng)器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)