本發(fā)明涉及一種使用冶金級(jí)硅制備多孔硅納米線的方法,它包括以下步驟:(a)將冶金級(jí)硅浸入不同有機(jī)溶液中,分別超聲處理15~30分鐘;(b)將超聲處理后的冶金級(jí)硅浸入氧化溶液中,在50~90℃條件下反應(yīng)0.5~5小時(shí)得氧化冶金級(jí)硅;(c)置于質(zhì)量濃度為10~30%氫氟酸溶液;(d)真空濺射30~60秒得到銀沉積冶金級(jí)硅;(e)將所述銀沉積冶金級(jí)硅浸入氫氟酸與強(qiáng)氧化物的混合溶液中,在40~80℃條件下超聲1~5小時(shí)后取出放入管式爐中通含氟氣體2~3小時(shí)并進(jìn)行干燥;(f)表面進(jìn)行剝離得到多孔硅納米線。一方面離子濺射儀沉積的銀納米粒子顆粒均勻,有利于在硅納米線上形成孔徑均勻的多孔結(jié)構(gòu);另一方面縮短時(shí)間、提高效率;而且該發(fā)明簡單易行,適于大規(guī)模生產(chǎn)。
聲明:
“使用冶金級(jí)硅制備多孔硅納米線的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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