本發(fā)明涉及高熔點(diǎn)金屬(難熔金屬及貴金屬)化學(xué)氣相沉積制備所用的專用設(shè)備。設(shè)備由3部分組成:(一)主體結(jié)構(gòu);(二)動(dòng)力傳動(dòng)裝置;(三)氣體調(diào)配系統(tǒng)。主體部分結(jié)構(gòu)由5個(gè)功能部件組成,分別為:沉積室(I),密封室(II),蝸輪箱(III),升降操縱箱(IV),熱電勢信號接轉(zhuǎn)裝置(V)。本發(fā)明在于實(shí)現(xiàn)基體沉積件在高溫、高真空或多種氣氛(氬氣、氧氣、氯氣、一氧化碳以及甲烷等)條件下,按設(shè)定參數(shù)進(jìn)行材料的沉積,基體可進(jìn)行軸向圓周、螺旋以及自動(dòng)循環(huán)運(yùn)動(dòng)。輸入溫度、氣氛壓力和流量均可精確控制。所制備的難熔金屬和貴金屬材料的致密性達(dá)到或接近理論密度,硬度(耐磨性)超過熔鑄和
粉末冶金法生產(chǎn)的同類材料。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)