一種高硅鋼材料的制備方法,步驟包括靶材、金屬基材表面清理;排除密閉容器內(nèi)空氣、通保護(hù)氣;雙輝光等離子預(yù)轟擊靶材和基材,凈化表面;等離子濺射、加熱、保溫;緩慢冷卻取出。預(yù)轟擊靶材、基材,去除表面吸附層、活化基材,交替升高基材電壓、靶材電壓,使靶材中的合金元素被離子轟擊而濺射出來、擴(kuò)散進(jìn)入基材內(nèi)部形成表面高硅鋼層?!半p輝光等離子表面冶金技術(shù)”制備高硅鋼的工藝簡(jiǎn)單易行、可控性高、成本低、無污染且基體和表面的結(jié)合力高,適合大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn);更重要的是該方法采用交替離子轟擊、擴(kuò)滲速度快,結(jié)合強(qiáng)度高,得到硅含量均勻分布或呈梯度分布的高硅鋼材料,為制備更高品質(zhì)的無噪音、低鐵損的高硅鋼產(chǎn)業(yè)化奠定基礎(chǔ)。
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