本實(shí)用新型涉及一種半連續(xù)真空感應(yīng)加熱鎂還原爐,屬于
有色金屬生產(chǎn)領(lǐng)域,適用于碳熱法還原
金屬鎂及硅熱法還原金屬鎂。還原爐由半連續(xù)加料系統(tǒng)、感應(yīng)加熱系統(tǒng)、出渣系統(tǒng)、鎂蒸氣冷凝系統(tǒng)、鎂錠澆注系統(tǒng)以及真空系統(tǒng)組成。還原區(qū)域采用真空感應(yīng)加熱,加熱溫度不低于1000℃;鎂蒸氣冷凝系統(tǒng)采用電阻加熱,確保鎂蒸氣不以粉末形式冷凝。還原爐渣從還原罐下部排出,金屬鎂從鎂澆注系統(tǒng)澆注為鎂錠。實(shí)現(xiàn)了進(jìn)料,出渣,澆注鎂錠的半連續(xù)生產(chǎn)。將反應(yīng)容器和鎂蒸氣收集器分離。該還原爐能夠半連續(xù)進(jìn)出料,適合皮江法和碳熱還原法煉鎂工藝的真空冶金設(shè)備,取代皮江法傳統(tǒng)的間斷式的還原罐工藝,提高熱效率,提高產(chǎn)量,降低能耗,降低污染以及設(shè)備損耗。
聲明:
“半連續(xù)真空感應(yīng)加熱鎂還原爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)