本實用新型公開了一種真空燒結(jié)氣淬爐,屬于材料真空燒結(jié)、真空熱處理領(lǐng)域,包括真空室雙層殼體,內(nèi)設(shè)有加熱體、屏蔽層、換熱器、風機、水冷氣流分布板、冷卻翅片。加熱體水平布置在被處理材料的上下兩側(cè),也可只布置在上側(cè)或下側(cè)。本實用新型的目的是針對在同一爐內(nèi)熱處理外觀尺寸相同或相近的許多小件物體提供一種均勻加熱和淬火的真空燒結(jié)氣淬爐,使爐內(nèi)被熱處理的物體升溫、降溫均勻,物體性能一致,熱處理時間縮短,熱處理效率提高,節(jié)約能源。
聲明:
“真空燒結(jié)氣淬爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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