本發(fā)明提供了一種鉻硅合金濺射靶材及其制備方法,所述制備方法包括以下步驟:(1)篩分純度≥99.98%的鉻硅合金原料,得到鉻硅合金粉末;(2)將步驟(1)所得鉻硅合金粉末進行真空熱壓燒結(jié)處理,得到鉻硅合金靶坯;(3)將步驟(2)所得鉻硅合金靶坯進行機加工,得到鉻硅合金濺射靶材;其中,步驟(2)所述真空熱壓燒結(jié)處理包括順次進行的第一保溫處理、第二保溫處理與保溫保壓處理,且所述保溫保壓處理的加壓過程分為至少2個加壓階段。本發(fā)明提供的制備方法保證了靶材的高密度,改善了微觀結(jié)構(gòu)均勻性和濺射性能,同時簡化了工藝流程,提升了生產(chǎn)效率,降低了生產(chǎn)成本,拓寬了適用范圍。
聲明:
“鉻硅合金濺射靶材及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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