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無損測量納米顆粒應(yīng)力狀態(tài)的方法

829   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:58
本發(fā)明涉及一種無損測量納米顆粒應(yīng)力狀態(tài)的新方法,屬于X射線測量領(lǐng)域。采用X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜測量包裹在介質(zhì)材料中的納米顆粒原子間距離,通過分析納米顆粒原子間距離的變化,可以計(jì)算得到納米顆粒的應(yīng)力狀態(tài)和大小。該方法與現(xiàn)有的應(yīng)力測量方法最根本不同之處是采用X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜這種無損檢測方法分析測量納米顆粒的應(yīng)力。該方法從根本上填補(bǔ)了納米顆粒應(yīng)力分析的空白,在分析納米顆粒的應(yīng)力狀態(tài)、控制納米顆粒的有序生長和量子器件的實(shí)用化方面有明顯的應(yīng)用價(jià)值。
聲明:
“無損測量納米顆粒應(yīng)力狀態(tài)的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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