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半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu)

855   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來(lái)源:江蘇新智達(dá)新能源設(shè)備有限公司  
2023-11-29 13:39:24
權(quán)利要求書(shū): 1.一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),包括有供放置封裝框架(1)的底板(2)和蓋合于所述底板(2)上方的頂蓋(3),所述底板(2)中設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)所述封裝框架(1)的移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4),其特征在于:所述底板(2)上設(shè)置有真空部(5),所述真空部(5)包括設(shè)置于所述底板(2)上的真空底倉(cāng)(501)和加熱底板(502),所述真空底倉(cāng)(501)為頂部開(kāi)口的中空結(jié)構(gòu),所述加熱底板(502)設(shè)置于所述真空底倉(cāng)(501)內(nèi)部,所述加熱底板(502)和所述真空底倉(cāng)(501)之間具有間隙,所述真空底倉(cāng)(501)中穿設(shè)有支撐固定所述加熱底板(502)的支撐管(503);

所述加熱底板(502)上,沿所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)的轉(zhuǎn)運(yùn)方向橫向設(shè)置有移轉(zhuǎn)槽(504),所述真空底倉(cāng)(501)的頂面高度低于所述移轉(zhuǎn)槽(504)的槽底高度,所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)伸入所述移轉(zhuǎn)槽(504)中;所述真空底倉(cāng)(501)的頂面設(shè)有環(huán)形的密封槽(507),所述頂蓋(3)上設(shè)置有真空頂倉(cāng)(506)和驅(qū)動(dòng)所述真空頂倉(cāng)(506)上下運(yùn)動(dòng)的啟閉機(jī)構(gòu)(505),所述真空頂倉(cāng)(506)為底部開(kāi)口的中空結(jié)構(gòu),所述真空頂倉(cāng)(506)的底壁壓合于所述真空底倉(cāng)(501)的頂壁,所述密封槽(507)中設(shè)有密封圈(508);

所述真空底倉(cāng)(501)的底部連通有抽真空管(510)和氮?dú)夤埽?09)。

2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),其特征在于:所述啟閉機(jī)構(gòu)(505)包括固定于所述頂蓋(3)上的安裝座(5051),所述安裝座(5051)上豎直設(shè)置有若干個(gè)導(dǎo)套(5052),所述導(dǎo)套(5052)中豎直穿設(shè)有導(dǎo)柱(5053),所述導(dǎo)柱(5053)的末端與所述真空頂倉(cāng)(506)的頂部固定;所述安裝座(5051)上豎直設(shè)置有啟閉氣缸(5054),所述啟閉氣缸(5054)的活塞桿末端與所述真空頂倉(cāng)(506)的頂部固定。

3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),其特征在于:在所述頂蓋(3)上,位于所述真空部(5)左右兩側(cè)分別設(shè)置有氮?dú)夤饽K(511);在所述頂蓋(3)上設(shè)置有隔套(512),所述真空頂倉(cāng)(506)間隙配合設(shè)置于隔套(512)中且在所述啟閉機(jī)構(gòu)(505)驅(qū)動(dòng)下沿隔套(512)上下運(yùn)動(dòng)。

4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),其特征在于:所述真空固化機(jī)構(gòu)包括與所述底板(2)固定連接的固定座(6),所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)包括橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有橫移座(401),所述橫移座(401)橫向滑動(dòng)安裝于所述固定座(6)上;

豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),安裝于所述橫移座(401)上,所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有豎向移動(dòng)的豎移座(408);

移轉(zhuǎn)支架(409),與所述豎移座(408)固定連接,所述移轉(zhuǎn)支架(409)上部左右兩側(cè)分別設(shè)置有承托所述封裝框架(1)的托舉桿(411);

二次橫移機(jī)構(gòu)(410),位于上部左側(cè),設(shè)置有橫向滑動(dòng)安裝的二次橫移架(4101);左側(cè)所述托舉桿(411)安裝在所述二次橫移架(4101)上。

5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),其特征在于:所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括橫向設(shè)置在所述固定座(6)上的橫向絲杠(402)、安裝于橫向絲杠(402)的橫向滑塊(404)、驅(qū)動(dòng)所述橫向絲杠(402)轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述橫向滑塊(404)移動(dòng)的橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī)(403),所述橫移座(401)固定安裝在所述橫向滑塊(404)上;

所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括豎向設(shè)置在所述橫移座(401)上的豎向絲杠(405)、安裝于所述豎向絲杠(405)的豎向滑塊(406)、驅(qū)動(dòng)所述豎向絲杠(405)轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述豎向滑塊(406)移動(dòng)的豎向電機(jī)(407),所述豎移座(408)固定安裝在所述豎向滑塊(406)上;

所述二次橫移機(jī)構(gòu)(410)包括橫向設(shè)置在所述移轉(zhuǎn)支架(409)上的第二橫向絲杠(4102)、安裝于第二橫向絲杠(4102)的第二橫向滑塊(4103)、驅(qū)動(dòng)所述第二橫向絲杠(4102)轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述第二橫向滑塊(4103)移動(dòng)的第二橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4104),所述二次橫移架(4101)固定安裝在所述第二橫向滑塊(4103)上。

6.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),其特征在于:所述真空底倉(cāng)(501)內(nèi)設(shè)置有環(huán)形冷卻管路,所述環(huán)形冷卻管路外接冷卻水管;所述支撐管(503)中穿設(shè)有用于所述真空底倉(cāng)(501)與外界電性連接的電纜。

說(shuō)明書(shū): 半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,尤其涉及一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)。背景技術(shù)[0002] 在半導(dǎo)體分立器件封裝過(guò)程中,在完成晶圓芯片與封裝框架的取晶、固晶(DieBond)后通常會(huì)采用固化方式來(lái)完成芯片與金屬框架的實(shí)質(zhì)連接?,F(xiàn)有技術(shù)中通常會(huì)采用

真空焊接的方式來(lái)控制固化過(guò)程中空洞率的產(chǎn)生以便保證固化之后的器件性能。

[0003] 現(xiàn)有的真空固化中采用的結(jié)構(gòu)多是倒扣型真空倉(cāng)直接罩扣在加熱臺(tái)面的結(jié)構(gòu)形式,并在真空倉(cāng)頂部直接通過(guò)氮?dú)獾缺Wo(hù)氣體以及接入抽真空管制造真空。這種形式通常

采用上部真空倉(cāng)設(shè)置密封圈,并通過(guò)水冷的方式來(lái)改善密封圈作業(yè)環(huán)境,防止過(guò)熱損壞密

封圈。但是這種結(jié)構(gòu)中,加熱臺(tái)面的熱傳遞影響直接傳導(dǎo)到與之直接接觸的真空倉(cāng)上,造成

了真空倉(cāng)溫度上升速度較快,雖然有水冷降低也無(wú)法保障密封圈的工作環(huán)境,造成了密封

圈壽命較短,影響真空倉(cāng)密封性能的故障,并且,強(qiáng)制水冷的真空倉(cāng)直接的熱傳遞也影響了

封裝框架的作業(yè)溫度,導(dǎo)致了封裝質(zhì)量的降低。

[0004] 同時(shí),在現(xiàn)有的固化機(jī)構(gòu)中采用的是等步距封裝形式,封裝設(shè)備需要根據(jù)最大步距設(shè)計(jì)要求進(jìn)行設(shè)計(jì),一方面單次移動(dòng)大步距耗費(fèi)了過(guò)多移轉(zhuǎn)時(shí)間、降低了封裝效率,另一

方面也造成設(shè)備尺寸過(guò)大,無(wú)法滿足現(xiàn)行封裝現(xiàn)場(chǎng)緊湊型設(shè)計(jì)的要求。

發(fā)明內(nèi)容[0005] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是,本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu)來(lái)解決上述問(wèn)題。

[0006] 本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),包括有供放置封裝框架的底板和蓋合于所述底板上方的頂蓋,所述底板中設(shè)置有

轉(zhuǎn)運(yùn)所述封裝框架的移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),所述底板上設(shè)置有真空部,所述真空部包括設(shè)置于所述底

板上的真空底倉(cāng)和加熱底板,所述真空底倉(cāng)為頂部開(kāi)口的中空結(jié)構(gòu),所述加熱底板設(shè)置于

所述真空底倉(cāng)內(nèi)部,所述加熱底板和所述真空底倉(cāng)之間具有間隙,所述真空底倉(cāng)中穿設(shè)有

支撐固定所述加熱底板的支撐管。

[0007] 所述加熱底板上,沿所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)運(yùn)方向橫向設(shè)置有移轉(zhuǎn)槽,所述真空底倉(cāng)的頂面高度低于所述移轉(zhuǎn)槽的槽底高度,所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)伸入所述移轉(zhuǎn)槽中;所述真空底倉(cāng)

的頂面設(shè)有環(huán)形的密封槽,所述頂蓋上設(shè)置有真空頂倉(cāng)和驅(qū)動(dòng)所述真空頂倉(cāng)上下運(yùn)動(dòng)的啟

閉機(jī)構(gòu),所述真空頂倉(cāng)為底部開(kāi)口的中空結(jié)構(gòu),所述真空頂倉(cāng)的底壁壓合于所述真空底倉(cāng)

的頂壁,所述密封槽中設(shè)有密封圈;所述真空底倉(cāng)的底部連通有抽真空管和氮?dú)夤堋?br />
[0008] 進(jìn)一步地:所述啟閉機(jī)構(gòu)包括固定于所述頂蓋上的安裝座,所述安裝座上豎直設(shè)置有若干個(gè)導(dǎo)套,所述導(dǎo)套中豎直穿設(shè)有導(dǎo)柱,所述導(dǎo)柱的末端與所述真空頂倉(cāng)的頂部固

定;所述安裝座上豎直設(shè)置有啟閉氣缸,所述啟閉氣缸的活塞桿末端與所述真空頂倉(cāng)的頂

部固定。

[0009] 進(jìn)一步地:在所述頂蓋上,位于所述真空部左右兩側(cè)分別設(shè)置有氮?dú)夤饽K;在所述頂蓋上設(shè)置有隔套,所述真空頂倉(cāng)間隙配合設(shè)置于隔套中且在所述啟閉機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)下沿

隔套上下運(yùn)動(dòng)。

[0010] 進(jìn)一步地:所述真空固化機(jī)構(gòu)包括與所述底板固定連接的固定座,所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有橫移座,所述橫移座橫向滑動(dòng)安裝于所述固

定座上;豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),安裝于所述橫移座上,所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有豎向移動(dòng)的豎移

座;移轉(zhuǎn)支架,與所述豎移座固定連接,所述移轉(zhuǎn)支架上部左右兩側(cè)分別設(shè)置有承托所述封

裝框架的托舉桿;二次橫移機(jī)構(gòu),位于上部左側(cè),設(shè)置有橫向滑動(dòng)安裝的二次橫移架;左側(cè)

所述托舉桿安裝在所述二次橫移架上。

[0011] 進(jìn)一步地:所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括橫向設(shè)置在所述固定座上的橫向絲杠、安裝于橫向絲杠的橫向滑塊、驅(qū)動(dòng)所述橫向絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述橫向滑塊移動(dòng)的橫向驅(qū)動(dòng)電

機(jī),所述橫移座固定安裝在所述橫向滑塊上。

[0012] 所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括豎向設(shè)置在所述橫移座上的豎向絲杠、安裝于所述豎向絲杠的豎向滑塊、驅(qū)動(dòng)所述豎向絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述豎向滑塊移動(dòng)的豎向電機(jī),所述豎移

座固定安裝在所述豎向滑塊上。

[0013] 所述二次橫移機(jī)構(gòu)包括橫向設(shè)置在所述移轉(zhuǎn)支架上的第二橫向絲杠、安裝于第二橫向絲杠的第二橫向滑塊、驅(qū)動(dòng)所述第二橫向絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述第二橫向滑塊移動(dòng)的

第二橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述二次橫移架固定安裝在所述第二橫向滑塊上。

[0014] 進(jìn)一步地:所述真空底倉(cāng)內(nèi)設(shè)置有環(huán)形冷卻管路,所述環(huán)形冷卻管路外接冷卻水管;所述支撐管中穿設(shè)有用于所述真空底倉(cāng)與外界電性連接的電纜。

[0015] 本發(fā)明的有益效果是,本發(fā)明一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu)采用了加熱底板和真空倉(cāng)隔開(kāi)分離式設(shè)計(jì),并改由底部進(jìn)氣排氣,降低了加熱底板作為熱源對(duì)其他

部件的熱影響,同時(shí)也對(duì)氮?dú)膺M(jìn)氣過(guò)程和方式予以了改良,延長(zhǎng)了機(jī)構(gòu)中各部件的使用壽

命和可靠性,提升了封裝質(zhì)量。

[0016] 同時(shí),作為進(jìn)一步的改進(jìn),本申請(qǐng)方案中設(shè)計(jì)了異步距封裝的技術(shù)方案,可針對(duì)封裝過(guò)程中對(duì)于不同工段設(shè)計(jì)不同步距,整體優(yōu)化了機(jī)構(gòu)長(zhǎng)度規(guī)格,同時(shí)提升了封裝過(guò)程中

移轉(zhuǎn)速度,進(jìn)一步提升了設(shè)備的封裝效率。

附圖說(shuō)明[0017] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。[0018] 圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)總成外形示意圖;[0019] 圖2是真空部蓋合關(guān)閉狀態(tài)局部示意圖;[0020] 圖3是加熱底板安裝在真空底倉(cāng)中的安裝狀態(tài)示意圖;[0021] 圖4是真空頂倉(cāng)和啟閉機(jī)構(gòu)安裝于頂蓋的主視圖;[0022] 圖5是圖4中略去頂蓋部件后真空頂倉(cāng)和啟閉機(jī)構(gòu)安裝的主視圖;[0023] 圖6是圖5狀態(tài)下仰視角的示意圖;[0024] 圖7是真空底倉(cāng)和加熱底板安裝于底板上的局部俯視示意圖;[0025] 圖8是轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)主視角示意圖;[0026] 圖9是轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)側(cè)視角示意圖;[0027] 圖10是轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)俯視角示意圖;[0028] 圖11是二次橫移機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖。[0029] 圖中1、封裝框架,2、底板,3、頂蓋,4、移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),5、真空部,6、固定座,401、橫移座,402、橫向絲杠,403、橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī),404、橫向滑塊,405、豎向絲杠,406、豎向滑塊,407、豎向

電機(jī),408、豎移座,409、移轉(zhuǎn)支架,410、二次橫移機(jī)構(gòu),4101、二次橫移架,4102、第二橫向絲

杠,4103、第二橫向滑塊,4104、第二橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī),411、托舉桿,501、真空底倉(cāng),502、加熱底

板,503、支撐管,504、移轉(zhuǎn)槽,505、啟閉機(jī)構(gòu),506、真空頂倉(cāng),507、密封槽,508、密封圈,509、

氮?dú)夤埽?10、抽真空管,511、氮?dú)夤饽K,512、隔套,5051、安裝座,5052、導(dǎo)套,5053、導(dǎo)

柱,5054、啟閉氣缸。

具體實(shí)施方式[0030] 下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附

圖描述的實(shí)施例是示例性的,僅用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。相反,本

發(fā)明的實(shí)施例包括落入所附加權(quán)利要求書(shū)的精神和內(nèi)涵范圍內(nèi)的所有變化、修改和等同

物。

[0031] 在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“長(zhǎng)度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”、“軸向”、“徑向”、“周向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以

特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

[0032] 此外,術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。在本發(fā)明的描述中,需要說(shuō)明的是,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語(yǔ)“相連”、“連接”應(yīng)

做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機(jī)械連

接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過(guò)中間媒介間接相連。對(duì)于本領(lǐng)域的普通

技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。此外,在本發(fā)明的描述

中,除非另有說(shuō)明,“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。

[0033] 流程圖中或在此以其他方式描述的任何過(guò)程或方法描述可以被理解為,表示包括一個(gè)或更多個(gè)用于實(shí)現(xiàn)特定邏輯功能或過(guò)程的步驟的可執(zhí)行指令的代碼的模塊、片段或部

分,并且本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的范圍包括另外的實(shí)現(xiàn),其中可以不按所示出或討論的順

序,包括根據(jù)所涉及的功能按基本同時(shí)的方式或按相反的順序,來(lái)執(zhí)行功能,這應(yīng)被本發(fā)明

的實(shí)施例所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。

[0034] 如圖1?11所示,本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu),具體可參見(jiàn)圖1至圖3,包括有供放置封裝框架1的底板2和蓋合于所述底板2上方的頂蓋3,所述底

板2中設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)所述封裝框架1的移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4,所述底板2上設(shè)置有真空部5,所述真空部5

包括設(shè)置于所述底板2上的真空底倉(cāng)501和加熱底板502,所述真空底倉(cāng)501為頂部開(kāi)口的中

空結(jié)構(gòu),所述加熱底板502設(shè)置于所述真空底倉(cāng)501內(nèi)部,所述加熱底板502和所述真空底倉(cāng)

501之間具有間隙,所述真空底倉(cāng)501中穿設(shè)有支撐固定所述加熱底板502的支撐管503。

[0035] 結(jié)合圖7所示,所述加熱底板502上,沿所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4的轉(zhuǎn)運(yùn)方向橫向設(shè)置有移轉(zhuǎn)槽504,所述真空底倉(cāng)501的頂面高度低于所述移轉(zhuǎn)槽504的槽底高度,所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4伸入

所述移轉(zhuǎn)槽504中;所述真空底倉(cāng)501的頂面設(shè)有環(huán)形的密封槽507,所述頂蓋3上設(shè)置有真

空頂倉(cāng)506和驅(qū)動(dòng)所述真空頂倉(cāng)506上下運(yùn)動(dòng)的啟閉機(jī)構(gòu)505,所述真空頂倉(cāng)506為底部開(kāi)口

的中空結(jié)構(gòu),所述真空頂倉(cāng)506的底壁壓合于所述真空底倉(cāng)501的頂壁,所述密封槽507中設(shè)

有密封圈508;所述真空底倉(cāng)501的底部連通有抽真空管510和氮?dú)夤?09。

[0036] 現(xiàn)有的真空固化中采用的結(jié)構(gòu)多是倒扣型真空倉(cāng)直接罩扣在加熱臺(tái)面的結(jié)構(gòu)形式,并在真空倉(cāng)頂部直接通過(guò)氮?dú)獾缺Wo(hù)氣體以及接入抽真空管510制造真空。這種形式通

常采用上部真空倉(cāng)設(shè)置密封圈508,并通過(guò)水冷的方式來(lái)改善密封圈508作業(yè)環(huán)境,防止過(guò)

熱損壞密封圈508。但是這種結(jié)構(gòu)中,加熱臺(tái)面的熱傳遞影響直接傳導(dǎo)到與之直接接觸的真

空倉(cāng)上,造成了真空倉(cāng)溫度上升速度較快,雖然有水冷降低也無(wú)法保障密封圈508的工作環(huán)

境,造成了密封圈508壽命較短,影響真空倉(cāng)密封性能的故障,并且,強(qiáng)制水冷的真空倉(cāng)直接

的熱傳遞也影響了封裝框架1的作業(yè)溫度,導(dǎo)致了封裝質(zhì)量的降低。

[0037] 本申請(qǐng)中,取締了現(xiàn)有技術(shù)中直接在加熱臺(tái)面上罩扣真空倉(cāng)的結(jié)構(gòu),將真空部5的加熱底板502單獨(dú)設(shè)置,與真空底倉(cāng)501獨(dú)立間隔設(shè)置,避免了直接接觸熱傳遞的熱影響,同

時(shí)采用真空底倉(cāng)501和真空頂倉(cāng)506合扣的機(jī)構(gòu)在保證密封性能的同時(shí),減小了加熱底板

502直接熱影響,明顯改善了密封圈508的作業(yè)環(huán)境,保障了密封性能和實(shí)用壽命。

[0038] 具體的工作過(guò)程為,在真空固化開(kāi)始時(shí),啟閉機(jī)構(gòu)505將真空頂倉(cāng)506抬離真空底倉(cāng)501,伸入在移轉(zhuǎn)槽504中的移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4將封裝框架1由上工序移轉(zhuǎn)到加熱底板502中,由于

所述真空底倉(cāng)501的頂面高度低于所述移轉(zhuǎn)槽504的槽底高度因此在移轉(zhuǎn)過(guò)程中并不會(huì)產(chǎn)

生干涉,待移轉(zhuǎn)完成,啟閉機(jī)構(gòu)505將真空頂倉(cāng)506壓緊密封在真空底倉(cāng)501上,由此真空倉(cāng)

中密閉空間建立完成,抽真空管510抽真空,真空部5中負(fù)壓。當(dāng)完成固化,氮?dú)夤?09導(dǎo)入氮

氣,破除真空部5的真空環(huán)境,啟閉機(jī)構(gòu)505抬起真空頂倉(cāng)506,移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4轉(zhuǎn)移已經(jīng)真空固化

的封裝框架1,再進(jìn)入下個(gè)作業(yè)循環(huán)。

[0039] 因?yàn)榧訜岬装?02之間是通過(guò)支撐管503懸空設(shè)置在真空底倉(cāng)501中,在真空底倉(cāng)501和加熱底板502之間具有足夠的間隙,因此加熱底板502對(duì)真空底倉(cāng)501造成的熱影響大

大降低,同時(shí)本申請(qǐng)?jiān)谡婵諅}(cāng)的底部設(shè)置真空管和氮?dú)夤?09也正是克服了現(xiàn)有技術(shù)的設(shè)

計(jì)慣性。

[0040] 在現(xiàn)有技術(shù)中,抽真空管510和氮?dú)夤?09會(huì)習(xí)慣安裝在了真空部5頂部,一方面是為了安裝和走管路的方面,另一方面,加熱底板502、作業(yè)底板2等通常是完整的結(jié)構(gòu),無(wú)法

從底部進(jìn)氣排氣。本申請(qǐng)中因?yàn)檎婵詹?獨(dú)立,采用了底部排氣進(jìn)氣的方式,大大解決了在

破真空時(shí)低溫氮?dú)馔蝗贿M(jìn)入對(duì)封裝框架1反應(yīng)界面造成的影響,避免了低溫氮?dú)獯等雽?dǎo)致

的封裝不良等缺陷,由于進(jìn)氣由底部進(jìn)入,氮?dú)庖刂訜岬装?02和真空底倉(cāng)501間隙上

升,這個(gè)過(guò)程中提升了氮?dú)鈿鉁?,且避免了氮?dú)庵贝捣庋b框架1,保證了封裝框架1各元件微

納連接的作業(yè)效果,同時(shí)氮?dú)獾膶?dǎo)入也可以對(duì)真空倉(cāng)起到一定降溫作用,進(jìn)一步提升了密

封圈508壽命。

[0041] 同時(shí),由于揮發(fā)物重于常規(guī)空氣,抽真空管510設(shè)置在底部,也有利于導(dǎo)出真空部5中的殘留揮發(fā)物,改善真空部5作業(yè)環(huán)境。

[0042] 具體可見(jiàn)圖4至圖6,所述啟閉機(jī)構(gòu)505包括固定于所述頂蓋3上的安裝座5051,所述安裝座5051上豎直設(shè)置有若干個(gè)導(dǎo)套5052,所述導(dǎo)套5052中豎直穿設(shè)有導(dǎo)柱5053,所述

導(dǎo)柱5053的末端與所述真空頂倉(cāng)506的頂部固定;所述安裝座5051上豎直設(shè)置有啟閉氣缸

5054,所述啟閉氣缸5054的活塞桿末端與所述真空頂倉(cāng)506的頂部固定。

[0043] 在所述頂蓋3上,位于所述真空部5左右兩側(cè)分別設(shè)置有氮?dú)夤饽K511;在所述頂蓋3上設(shè)置有隔套512,所述真空頂倉(cāng)506間隙配合設(shè)置于隔套512中且在所述啟閉機(jī)構(gòu)

505驅(qū)動(dòng)下沿隔套512上下運(yùn)動(dòng)。

[0044] 當(dāng)真空頂倉(cāng)506上下移動(dòng),特別是真空頂倉(cāng)506向上運(yùn)動(dòng)開(kāi)啟時(shí),真空頂倉(cāng)506和隔套512的間隙配合可以保障真空部5內(nèi)較少的氮?dú)庖绯?,即使在真空頂倉(cāng)506開(kāi)啟封裝框架1

進(jìn)行移轉(zhuǎn)的過(guò)程中,加熱底板502、封裝框架1等仍然處于氮?dú)獾谋Wo(hù)氣氛中,避免了封裝框

架1的短時(shí)間被氧化,提升了封裝質(zhì)量。

[0045] 所述真空固化機(jī)構(gòu)包括與所述底板2固定連接的固定座6,所述移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4包括橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有橫移座401,所述橫移座401橫向滑動(dòng)安裝于所述固

定座6上;豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),安裝于所述橫移座401上,所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有豎向移動(dòng)的豎

移座408;移轉(zhuǎn)支架409,與所述豎移座408固定連接,所述移轉(zhuǎn)支架409上部左右兩側(cè)分別設(shè)

置有承托所述封裝框架1的托舉桿411;二次橫移機(jī)構(gòu)410,位于上部左側(cè),設(shè)置有橫向滑動(dòng)

安裝的二次橫移架4101;左側(cè)所述托舉桿411安裝在所述二次橫移架4101上。

[0046] 該改進(jìn)主要針對(duì)的是解決現(xiàn)有技術(shù)中真空固化機(jī)構(gòu)在固化過(guò)程中不同步距的需求,在現(xiàn)有技術(shù)中多用的是等布局固化,即各個(gè)工序之間的距離是相同一致的,每隔一段時(shí)

間,移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4會(huì)將固化機(jī)構(gòu)中的封裝框架1向前[即本方案的向右]移轉(zhuǎn)一個(gè)步距,使得封

裝框架1進(jìn)入到后一道的固化工位,直至完成封裝固化工作。

[0047] 然而,實(shí)際過(guò)程中,因?yàn)閷?shí)際固化工程中由于工序之間的區(qū)別,對(duì)于固化機(jī)構(gòu)所需要占據(jù)的機(jī)構(gòu)空間大小的需求是不同的,詳細(xì)來(lái)說(shuō),在前道部分[即該機(jī)構(gòu)的左側(cè)部分],封

裝框架1剛進(jìn)入固化機(jī)構(gòu)中,此時(shí)錫膏中助劑含量較多,此時(shí)整個(gè)固化過(guò)程揮發(fā)劇烈,隨著

逐步右移固化過(guò)程趨于平緩,因而左側(cè)工位需要相比于右側(cè)更大的工位空間。

[0048] 所以,若是如現(xiàn)有技術(shù)的等步距結(jié)構(gòu),整個(gè)真空固化機(jī)構(gòu)的長(zhǎng)度尺寸會(huì)為了適應(yīng)左側(cè)步距要求擴(kuò)大最終導(dǎo)致整個(gè)設(shè)備尺寸擴(kuò)大,無(wú)法滿足緊湊要求且移轉(zhuǎn)距離較長(zhǎng),封裝

節(jié)奏降低,因此該改進(jìn)設(shè)計(jì)了異步距封裝形式。

[0049] 主要的為,橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為移轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4提供常規(guī)的抬升?移轉(zhuǎn)?下降?回位的移轉(zhuǎn)循環(huán),這在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)有類似結(jié)構(gòu),不再贅述。但是該結(jié)構(gòu)適應(yīng)的還是

等步距封裝形式,設(shè)計(jì)了二次橫移機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了異步距封裝效果,具體的為在常規(guī)的移轉(zhuǎn)過(guò)

程中,既有橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的移轉(zhuǎn),同時(shí),二次橫移機(jī)構(gòu)也做出移轉(zhuǎn)動(dòng)作,這樣封裝框架1一方

面實(shí)現(xiàn)了橫向的快速轉(zhuǎn)移,同時(shí),二次橫移機(jī)構(gòu)移轉(zhuǎn)的封裝框架1橫移距離長(zhǎng)度為橫向驅(qū)動(dòng)

機(jī)構(gòu)+二次橫移機(jī)構(gòu)的橫向作業(yè)距離,而右側(cè)的托舉桿411上的封裝框架1此時(shí)只有橫向驅(qū)

動(dòng)機(jī)構(gòu)的橫向作業(yè)距離,而該步完成操作后在回位階段二次橫移機(jī)構(gòu)也同橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)一

并回位。由此實(shí)現(xiàn)了不同步距的功能,此時(shí)可以針對(duì)左側(cè)二次橫移機(jī)構(gòu)作業(yè)的部分采用大

步距大空間結(jié)構(gòu),右側(cè)部分正常步距尺寸,由此一方面二次橫移機(jī)構(gòu)和橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)同步

移動(dòng),提升了大步距下封裝效率,同時(shí)整體真空固化機(jī)構(gòu)長(zhǎng)度尺寸可以減少,減少了空間占

據(jù)并節(jié)省了成本。

[0050] 參見(jiàn)圖8至圖10,所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括橫向設(shè)置在所述固定座6上的橫向絲杠402、安裝于橫向絲杠402的橫向滑塊404、驅(qū)動(dòng)所述橫向絲杠402轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述橫向滑

塊404移動(dòng)的橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī)403,所述橫移座401固定安裝在所述橫向滑塊404上。

[0051] 所述豎向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括豎向設(shè)置在所述橫移座401上的豎向絲杠405、安裝于所述豎向絲杠405的豎向滑塊406、驅(qū)動(dòng)所述豎向絲杠405轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述豎向滑塊406移動(dòng)的

豎向電機(jī)407,所述豎移座408固定安裝在所述豎向滑塊406上。

[0052] 參見(jiàn)圖11,所述二次橫移機(jī)構(gòu)410包括橫向設(shè)置在所述移轉(zhuǎn)支架409上的第二橫向絲杠4102、安裝于第二橫向絲杠4102的第二橫向滑塊4103、驅(qū)動(dòng)所述第二橫向絲杠4102轉(zhuǎn)

動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)所述第二橫向滑塊4103移動(dòng)的第二橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī)4104,所述二次橫移架4101固

定安裝在所述第二橫向滑塊4103上。

[0053] 上述為具體的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)形式,采用伺服電機(jī)、絲杠的驅(qū)動(dòng)控制方式控制方便,其動(dòng)作精度較高,在長(zhǎng)時(shí)間固化封裝循環(huán)中可以保證運(yùn)行一致性,提升了設(shè)備運(yùn)行的可靠性。

[0054] 所述真空底倉(cāng)501內(nèi)設(shè)置有環(huán)形冷卻管路,所述環(huán)形冷卻管路外接冷卻水管;所述支撐管503中穿設(shè)有用于所述真空底倉(cāng)501與外界電性連接的電纜。真空底倉(cāng)501內(nèi)的冷卻

管路可以避免真空倉(cāng)過(guò)熱,改善了密封圈508的作業(yè)環(huán)境,在支撐管503中走線也避免了電

纜與過(guò)熱零部件接觸導(dǎo)致破損等情況發(fā)生,同時(shí)也保證了真空部5的密閉性能。

[0055] 在本說(shuō)明書(shū)的描述中,參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特

點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中,對(duì)所述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不

一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且,描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何

的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

[0056] 以上述依據(jù)本發(fā)明的理想實(shí)施例為啟示,通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容,相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi),進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)

性范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容,必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。



聲明:
“半導(dǎo)體分立器件封裝的真空固化機(jī)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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