權(quán)利要求書: 1.一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:包括位于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的回轉(zhuǎn)盤,以及位于回轉(zhuǎn)窯出料時可靠近回轉(zhuǎn)盤的出料管,回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有用于放置陶坯的環(huán)形片,出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)有出料門,所述環(huán)形片外緣設(shè)置有能夠頂開所述出料門的頂塊;所述出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)置有插片,所述插片的表面具有第一斜面和第二斜面,靠近回轉(zhuǎn)盤的所述第一斜面的長度小于遠離回轉(zhuǎn)盤的所述第二斜面的長度;插片能夠插入環(huán)形片的下部使環(huán)形片向著出料管的一側(cè)傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述出料門連接有壓縮彈簧,壓縮彈簧的另一端連接出料管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述插片的長度與環(huán)形片內(nèi)外徑差相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述環(huán)形片的內(nèi)緣固定于回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)軸上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有傳感器,所述出料管連接有氣缸,氣缸上設(shè)置有控制器,傳感器將數(shù)據(jù)發(fā)送到控制器,控制器控制氣缸使出料管做往復(fù)運動。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述環(huán)形片上部設(shè)置有隔板,所述隔板間隔設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述頂塊、出料管、插片、隔板和環(huán)形片上表面均涂有耐高溫材料碳化硅。
說明書: 一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及陶瓷加工領(lǐng)域,具體為一種能夠在回轉(zhuǎn)窯中取陶的裝置。背景技術(shù)[0002] 回轉(zhuǎn)窯在建材、冶金、化工、環(huán)保等許多生產(chǎn)行業(yè)中,廣泛地使用。[0003] 回轉(zhuǎn)窯使用方便,通常用來加工水泥,陶瓷等,在回轉(zhuǎn)窯的使用中,需要將加工好的陶坯從回轉(zhuǎn)窯中取出,現(xiàn)有多采用傳送帶進行傳送,需要人工將陶坯放到傳送帶上之后再經(jīng)過傳送帶的傳送將陶坯傳送到存儲區(qū)。傳送帶的傳送需要人工進行取陶,而回轉(zhuǎn)窯在燒制時溫度較高在取陶時人身體靠近回轉(zhuǎn)窯會產(chǎn)生不適。傳送帶在傳送的過程中還會由于陶坯現(xiàn)不規(guī)則形狀,可能會從傳送帶上掉落而損壞。[0004] 這就需要研發(fā)一種能夠在回轉(zhuǎn)窯中自動進行取陶的裝置。發(fā)明內(nèi)容[0005] 本發(fā)明意在提供一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,以達到自動取陶的目的,還能在取陶的過程中不對陶坯造成損壞。[0006] 本方案中的一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,包括位于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的回轉(zhuǎn)盤,以及位于回轉(zhuǎn)窯出料時可靠近回轉(zhuǎn)盤的出料管,回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有用于放置陶坯的環(huán)形片,出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)有出料門,環(huán)形片外緣設(shè)置有能夠頂開出料門的頂塊;出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)置有插片,插片的表面具有第一斜面和第二斜面,靠近回轉(zhuǎn)盤的第一斜面的長度小于遠離回轉(zhuǎn)盤的第二斜面的長度;插片能夠插入環(huán)形片的下部迫使環(huán)形片向著出料管的一側(cè)傾斜。[0007] 基本原理:本發(fā)明在回轉(zhuǎn)窯加工完成陶坯之后,回轉(zhuǎn)窯的回轉(zhuǎn)盤處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài),在回轉(zhuǎn)盤的上部設(shè)置環(huán)形片,在環(huán)形片的外緣設(shè)置頂塊,出料管設(shè)置有出料門,頂塊能夠頂開出料門,出料管在靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)置插片,插片的表面具有第一斜面、第二斜面,靠近回轉(zhuǎn)盤第一斜面的長度小于遠離回轉(zhuǎn)盤第二斜面的長度;插片能夠插入環(huán)形片的下部?;剞D(zhuǎn)盤在轉(zhuǎn)動的過程中帶動環(huán)形片邊緣側(cè)的頂塊轉(zhuǎn)動,出料管靠近回轉(zhuǎn)窯,頂塊將頂?shù)匠隽瞎苌系某隽祥T,出料門在頂塊頂開之后,出料管插片的第一斜面先插入到環(huán)形片下面,之后在插塊的第二斜面完全插入到環(huán)形片的下部后。環(huán)形片發(fā)生傾斜,陶坯順著環(huán)形片的傾斜而滑入到出料管中,完成出料。[0008] 有益效果:[0009] 回轉(zhuǎn)盤能夠轉(zhuǎn)動在轉(zhuǎn)動的過程中陶坯的受熱比較均勻燒制效果好,出料管能夠用來出陶坯,環(huán)形片能夠放置陶坯、環(huán)形片上設(shè)置頂塊能夠頂開設(shè)置在出料管上的出料門,出料管上設(shè)置的插片能夠插入環(huán)形片的底部使環(huán)形片發(fā)生傾斜,因為插片有二個斜面,靠近回轉(zhuǎn)窯一側(cè)的斜面比遠離回轉(zhuǎn)窯一側(cè)的斜面短,這樣在插片插入到環(huán)形片的底部時環(huán)形片就能向靠近出料管的一側(cè)發(fā)生傾斜,陶坯就能順著環(huán)形片的傾斜而滑入到出料管中,環(huán)形片上的頂塊在陶坯與出料管之間有間隙時還能有助于陶坯順著頂塊滑道出料管中。[0010] 本發(fā)明取陶完全自動進行,節(jié)省了勞動力,成本低效率高,能夠快速進行取陶,取陶過程用時較短,有利于減少回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的熱量在取陶過程中的散失,插片結(jié)構(gòu)簡單使其插入到環(huán)形片底部就能夠完成取陶,使用方便,能夠在不使用人工的情況下進行自動取料。在取陶的過程中不用經(jīng)過人手對陶坯的觸碰,陶坯直接進入管道內(nèi),減少了對陶坯的損壞。[0011] 進一步,出料門連接有壓縮彈簧,壓縮彈簧的另一端連接出料管。出料門連接壓縮彈簧在頂塊將出料門頂開一定的縫隙之后,陶坯順著環(huán)形片滑到出料門前,能夠?qū)⒊隽祥T壓低,在陶坯完全進入到出料管中之后,壓縮彈簧恢復(fù)形變出料門關(guān)閉;在完成一次卸料之后能夠繼續(xù)進行下一次卸料。[0012] 進一步,插片的長度與環(huán)形片的內(nèi)外徑差相同;這樣在插片插入到環(huán)形片底部時,能夠保證插片的第二斜面完全插入到環(huán)形片內(nèi),還能保證出料管和回轉(zhuǎn)窯的切合。[0013] 進一步,環(huán)形片的內(nèi)緣固定于回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)軸上;這樣環(huán)形片不會在回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的過程中出現(xiàn)移動對陶坯造成損壞。[0014] 進一步,回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有傳感器,出料管連接有氣缸,氣缸上設(shè)置有控制器,傳感器將數(shù)據(jù)發(fā)送到控制器,控制器控制氣缸使出料管做往復(fù)運動;這樣傳感器檢測到陶坯燒制完成之后將數(shù)據(jù)發(fā)送到控制器,因為出料管連接有氣缸氣缸能夠使得出料管做往復(fù)運動,在需要回轉(zhuǎn)窯出陶時控制器控制出料管靠近回轉(zhuǎn)窯,進而陶坯就能滑入到回轉(zhuǎn)窯。[0015] 進一步,環(huán)形片上部設(shè)置有隔板,所述隔板間隔設(shè)置;隔板能夠?qū)⑻张鞲糸_在回轉(zhuǎn)窯出料時能夠防止陶坯掉落。[0016] 進一步,頂塊、出料管、插片、隔板和環(huán)形片上表面均涂有耐高溫材料碳化硅;碳化硅有極重要的用途,可用作高溫耐火材料(如磨料、鑄模、噴嘴、高溫熱電偶套管)、耐熱材料(如火箭的結(jié)構(gòu)元件、核工程材料、電熱元件)等,在本發(fā)明頂塊、出料管、環(huán)形片和插片上涂上碳化硅能夠保證其在高溫下不會損壞。附圖說明[0017] 圖1為本發(fā)明實施例出料管的示意圖;[0018] 圖2為本發(fā)明實施例回轉(zhuǎn)盤的示意圖;[0019] 圖3為本發(fā)明實施例回轉(zhuǎn)盤截面示意圖;[0020] 圖4為本發(fā)明實施例出料門、壓縮彈簧位置關(guān)系圖。具體實施方式[0021] 下面通過具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細的說明:[0022] 說明書附圖中的附圖標記包括:1出料管、2出料門、3插片、4第一斜面、5第二斜面、6頂塊、7回轉(zhuǎn)盤、8環(huán)形片、9隔板、10壓縮彈簧。
[0023] 實施例基本如附圖1、2、3和4所示:[0024] 實施例在回轉(zhuǎn)窯加工完成陶坯之后,回轉(zhuǎn)窯的回轉(zhuǎn)盤7處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài),在回轉(zhuǎn)盤7的的上部設(shè)置環(huán)形片8,環(huán)形片8的外緣設(shè)置頂塊6,出料管1設(shè)置有出料門2,在靠近回轉(zhuǎn)盤7的一端設(shè)置插片3,插片3的表面具有第一斜面4、第二斜面5,第一斜面4的長度小于第二斜面5的長度;插片3能夠插入環(huán)形片8的下部?;剞D(zhuǎn)盤7在轉(zhuǎn)動的過程中帶動邊緣側(cè)的頂塊6轉(zhuǎn)動,將本發(fā)明中的出料管1靠近回轉(zhuǎn)窯,頂塊6頂?shù)匠隽瞎苌系某隽祥T2后,移動出料管,插片的第一斜面4先插入到環(huán)形片下面。之后用力推動出料管則插塊的第二斜面5完全插入到環(huán)形片的下部,由于第一斜面的長度和第二斜面的長度不同,其傾斜角度也不同,在第二斜面5完全插入后環(huán)形片8發(fā)生傾斜,且向靠近出料管的部分發(fā)生傾斜,這樣環(huán)形片8上的陶坯順著環(huán)形片8的傾斜而滑入到出料管中,完成出料。插片3的長度與環(huán)形片8的半徑相同,環(huán)形片8的直徑小于回轉(zhuǎn)盤7的直徑,頂塊6設(shè)置有伸縮彈簧10,頂塊6、出料管2、插片3和環(huán)形片8上表面均涂有耐高溫材料碳化硅,頂塊6還可以在陶坯要滑入出料管中時使得陶坯順著頂塊滑下。
[0025] 以上所述的僅是本發(fā)明的實施例,方案中公知的具體結(jié)構(gòu)及特性等常識在此未作過多描述,所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員知曉申請日或者優(yōu)先權(quán)日之前發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域所有的普通技術(shù)知識,能夠獲知該領(lǐng)域中所有的現(xiàn)有技術(shù),并且具有應(yīng)用該日期之前常規(guī)實驗手段的能力,所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以在本申請給出的啟示下,結(jié)合自身能力完善并實施本方案,一些典型的公知結(jié)構(gòu)或者公知方法不應(yīng)當成為所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員實施本申請的障礙。應(yīng)當指出,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明結(jié)構(gòu)的前提下,還可以作出若干變形和改進,這些也應(yīng)該視為本發(fā)明的保護范圍,這些都不會影響本發(fā)明實施的效果和專利的實用性。本申請要求的保護范圍應(yīng)當以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準,說明書中的具體實施方式等記載可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。
聲明:
“回轉(zhuǎn)窯取陶裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)