一種用于材料處理的設(shè)備,該設(shè)備包括:一個用于在處理過程中容納所述材料的隔室,所述隔室具有至少一個壁、一個用于接收有待處理的材料的入口、以及一個使材料在處理后退出該隔室的出口;以及一個輻射源以用于將電磁輻射穿透該隔室壁的一部分而引導(dǎo)至該隔室中,該隔室壁的該部分是至少部分地對該輻射是透明的,該輻射為微波或射頻(RF)電磁輻射;其中該設(shè)備被配置為用于將該隔室中的材料的至少一部分放置成與該隔室壁的、該輻射進入到該隔室中時所穿透的這個至少部分透明的部分相接觸。
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“微波和射頻材料處理” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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